3  工】艺设计？ ： 3！.，1  一般规定 ！ ？ ？3，.，1.1？  生产环》境宜符合《表3.1.1的要求！ ？ 表《3.1.1  生产！环境需求表 】。 ， — ， 3.？1.2  生产过】程所使？用纯水的电阻率应】符合下列规定 【。。    】 1  用于硅片清！洗的纯水电阻率不】宜低于15》MΩ·？cm； —    — ，2  用于硅—片划片？的，纯水电阻《率宜在0《。.5MΩ·》cm～1MΩ·【c，m范围内《； 《     【3  ？用于电镀工艺的纯水！电阻率不宜》。低于2MΩ·c【m ？ 3.—1.3  生产过程！所使用气《体的品质应》符合下？列，规定 ？ ？ ： ，   1《  用于通孔、凸块！工，序的气？体纯度不宜低于【99.？99：99％、《露点不宜低于60】℃； 【  ：。   2  用于】。中测：、磨片？、划：片、粘？片、焊线、塑—封等工序的气体纯】度宜在9《9.99％～9【9.9999％范】围内、露点宜在40！℃～60℃范围内 ！ ，