3  工】艺设：计 【 3.1【  一？般规定 ！ ：3.1.《1  生产环境【。宜符：合表3.1》.1的要求 【 表》3.：1.1 《 生：产环境需求表 】。。 》 3.【1，。.2  生产过【程所使用纯水的电】阻率应符合》下列规定 】     1【 ， 用于硅片清洗【的纯水电阻率—不宜低？于15MΩ·cm】； 【    2  用】。于硅片划《片的纯水电阻率宜在！0，.，5MΩ·cm—～1MΩ《·cm范围内； 】 ，   —  3  用于电镀！工艺的纯水电阻率不！宜低于2《MΩ·cm》。 ？。 ： 3.1.3—。 ， 生产过程所—。使用气体《的品质？应符合？下列规定 —  》  ： 1  用》于，通孔、凸块工序的】气体纯度不宜低【于99.《999？9％、露点不宜【低于60℃； 】     2！  用于中测、磨】片、划片、粘片、】焊线、？塑封：等工序的气体纯度宜！在，99.99％～99！.9999》％范围内《、露：。点宜在4《0℃～60℃—。范围：内 ？