5》.4  化学气相】淀积：系统 》 5.4】.1  本》条规定了《化学气相淀积—系统的安装要—求 》 ，。  ：   ？1  目前主流【的化：学气相淀积技术有常！压化学气相淀积、】低压化学气相淀【积、等离子体增强化！学气：相淀积、金属氧化】物化学气相淀积【等不同的淀积—技术对？工艺气体的组—分，要求有所《不同  ！。   3 》 ，由于化学《气相淀积《系统工艺《要，使用：到SiH4、PH4！、SF6、CH4、！C，F，6等易燃、易爆或对！人体有毒《的危险性气体为保证！设备使用安全和人】身安全安《装时应同《时安装危《险气体泄漏》报警装置《本款为强制性—条款设备安装人【员必须？严格执？行   ！  5  为了【。保证操作时》的安：全机：壳应良好《。接地 — 5.4》。。.2  本条—规定了化学气相【淀积系统的调试及】试运行要求》    ！。 2  应尽量延】长真空泵的》抽气时间以便尽可】能地：抽除炉？体内的残余气体；】   】  8  不同的膜！种类：如多晶硅、氧化【硅、氮化硅等其片】内、片间、》批间的均《匀性、淀积速率【有所不同 —