5》。.4  《。化学气相淀积—系统 》 》5.4？.1  本条规【定了化学气相—淀积：系统的安装要求【。 ， ？。     —1  目前主流的】化学气相淀》积技：术有常压化学气【相淀积、低》压化学气《相淀积、等》离子体？。增强化学气》相淀积？、金属氧化物化【学气相淀积等不【同的淀积《技术对工艺气体的】组分要求有所—。不同 —  ？   3  由于】化学：气相淀积系统工艺要！使用到Si》H4：、PH4、S—F6、？CH：4、C？F6等易燃》、易：爆或：对人体？有毒的危险性气【体为保证设备—使，用安全和《人身安全安装时应】同时安装危》。险气体泄漏》报警装置本款为强制！性条款设备安—装人员必须》。严，格执行 —。 ，   《。。  5 《 为了保证操作时的！安，全机壳应《良好接地 】 5.4.2  ！本条规定了化学气相！。淀积：系统：的，调试及试运行要求】  【   ？。2  应尽量延长真！。空泵的？抽气时？间以便尽可能地抽】除炉体内的》残余气体； —    】 8  不同的膜】种类如多晶》硅、氧化《硅、氮化硅》。等其片内、片间、批！间的：。均匀性、淀积速率有！所不同 《 ，