5.9【  化学机》械抛光？机 】 5.？9.1  》化学机械抛光机的安！装应符合下列规定】  【   1  应通】过，调节四个地》脚高度来调平—抛光台； 【 ？  ：  2  抛—光废：液回：收处理及《处理后排放管道【应与厂房《的排污系统连接 ！ 《5.9.《2  化《学机械抛《光机：的调试及试运—行应符合下列规定 ！ ：  《   1  应【。准备好？抛光液、长度×【宽度为100mm】×10？0mm？的待抛光专用—测试样片并》将循环？水及：抛光液馈入系统废】液处：理系统应工作正常；！ ， ：  《   2  —应在抛光头及抛【光台相应位置粘【上反：射薄：膜应用非《接触：式转速表对》准反射薄膜测试并】调节抛？光头及抛光台的转】速，； 【  ：  3  压力以】0.005M—Pa为一档时—应依次将抛光头压】力从0.0》05MP《a调到0.0—5MP？a应观？测压力传感器测量】值测试结果应—满足设备技术要求】； ？ ： ，  ：   4《  清？洗，待抛光基片并应【固定到抛光台上； ！ ， 《  ：  5 《 应设置抛》。光，。压力、抛光转速、抛！光液滴注《流量运行《抛光程序； 】 ，  ？  ： 6  应》在，磨抛后的样》片磨抛面上取五【个大小分别为0.】3m：m×0.《3mm的点域应用】原子力显微》镜测出这《。。五个局部《点的粗糙度》然后应计算平均值所！测各点的粗》。糙度与平均值相比较！时允：许偏差应为±3【％，； 《 ？    7  应以！样片中心《为厚度采《样测试？点并测？量磨抛前《、后：。的样：片厚度磨抛时应启】动终点检测功能并应！将磨抛前、后—的样：片厚度测量值进【行比较？过抛光厚度应小于5！0nm 》