？ 5.9  —化学机？械抛光机 — ： ， 5.9.1 ！ 化学机械抛光机的！安，装应符合下》列规定？。 —   ？ 1  《应通：过调：。节四个？地脚：高度：来调平抛光台； 】 》   ？ 2  抛光废液】回收处理及处理【后排：。。放管道应与厂房的排！。污系统？连接 】5.：9.2 《 化学机《械抛光机的调—试及试运行应—符合下列规定— ：     1！  应准备好—抛光液、长度×宽度！为，1，00：mm×100m【。m的：待抛光专用测试样片！并将：循环水及抛光液【馈入系统废液处理系！统应工作正常；【。 《。     2  ！应在抛光头及抛光】台相应位置》粘上反射薄膜应用非！接触式转速表对准反！射薄膜测试并调节】抛，光头及抛《光台的转速； ！ ：   ？  3  压力以0！.005MPa为一！档时应依次》将抛光头压力—从0.0《0，5M：Pa调到0.—05MPa应观测】压力传感《器，测量值测试结—果应满足设备技术要！求；：  【 ，  4  清洗【待抛：光基片并《应，固，定到抛光台上； ！ 《    5  【应设置抛光压力【。、抛光？。转速、抛光液滴【注流量运行抛光程】序； — ：。   ？。 6：  应？在磨抛后的样—片磨抛？面上取五个大小分】别为0.《3mm×《0.3mm的—点域应用原子—力显微镜测出这【五，个局部点的》粗糙度然后应—计，算平均值所测各【点的粗糙《度与：平均值相比》。较，时允许偏差应为±3！％； 》     7】  应以样片中心】为厚度？采样测试点并测【量磨：抛前、后的样片厚】。度磨抛时应启动终】点检测功能并应将磨！抛前、后的》样片厚度测》量，值进行比较》过抛光厚度应小【。于50nm 【