： 5.9  化学！机械抛光机 】 5.【9.1  化学机】械抛光机的安—装，应符合下列规定【。 ？。。   》 ， 1  《应通过调节四个地】脚高度来调》平，抛光台； — ？。。。    《。 2  《抛光废？液回收处理》及处理后排放—管道应与厂房的排污！系统连接《 ？ 5.9.【2  化学》机械抛光机的—调试及？试运行应符合—下列规定 》。 ？ ，     1 【 应准备好抛光液】、长：。度×宽度为10【0mm×100mm！的待抛光专用—。测试样片并将循环水！及抛光液馈入—系统废液处理系统应！工作正常； 【 ？     2  应！在，抛光头及抛光台相】应位置粘《上反射薄膜应—用非接？触式：转速表对准》反，射，薄膜测试并调节抛】光头及抛光台的【转速：。； 》。 ：    3  压力！。以0.？0，05：M，Pa为一档时应【依次将？抛光头？压力从0《.005MPa【调到0.《05MPa应观【测压：力传感器测》量值测试结》果应满足《设备技术要》求； 《 《  ：  4  清洗待抛！光基片并应固—定，到抛光台上》； —     5 【 应设？置抛光？压力、抛《光转速、抛光液滴注！。。流量运行抛光程【序； 【     6  】应在磨抛《后的：样片磨抛面上取【五个大小分别为0.！3，。mm×？0.3mm的点域应！用原子力《显，微镜测？出这五个局部点的】粗糙度？然后：应计算平均值所测】各点的粗《糙，度与平均值》相比较时允许偏差应！。为±3％《；， 》     》7  应《以样片？中心为厚度采样测试！点并测量磨抛前、】后的样片《厚度磨抛时应启【动终点检《测功能并应将磨抛前！、后的样片》厚度测量值进行【。比，较过抛光厚度应小】于50n《m ？