《5.9  化学机械！抛光机 》 ： 5》。.9.1《。  化学机械抛【光机的安装应—符合下列规定 【 ：   》  1  应通【过调节四《个地：脚，。高度来？调平抛光《台； ？  —   ？2  抛光废—液回收处理》及处理后排放—。管道应与厂》房的排？污系统？连接 — ， 5.9.2  】化学机械抛》光机的？调试及试运行应符】合下列规定 — 《。 ，   ？ 1  应准备好抛！光液、长度×宽【度为：100m《m×：100mm》的待抛光专用测【试样片并将循—环水及抛《光液：馈入系统废液—处理系统应工作正】常； ？ ：     2】  应在抛光—头及抛光台相应位】置粘上反射薄—膜应用非接触式转】速表对准反射薄膜测！试并调节抛光头及】抛光台的转速—； ？。   —  3 《。 压力以《0.005M—Pa为一档》时应依次将抛—光头压力从0.00！5M：P，a调到0《.05MPa应观】。测压：力传感？器，测量：值测试结果应满足】设备技术要求； ！。。 ：   《  ：4  清《洗，待抛光基片并应【固定到抛光台上；】 ， ， 《  ：  5 《 应：设置抛光压力、抛】光转速、抛光液滴】注流量运《行抛光？。程序； 】     》6  应在磨—抛后的样片磨—抛面：上取五个大小分【别为0.3mm×0！.3mm的》点域应用原子—力显微？镜测出这五个局【部点的粗糙度—。然后应计算平—均值：所测各点的粗糙度与！平均值？相比较时允许偏差应！为±3％； 【     7！  应以《样片中心为厚度采】样测试点并测量磨】抛前、后的样片厚】。度磨抛时应启—动，终点检测《功能并应将磨抛【前、后？的样片厚《度测量值进行—比较过抛光厚度应小！于50nm 【