5 — 工艺设计 — 《 5.【1  一般规定 】 ， 5.】1.1  随着【科学技术的发展电】子产品的更》新换代、产》品生产技术的发【展十分迅速以集成电！路为代表的》。微电子产品尤为显】著集成电路产—品基本上是2～【3年或更短的—时，间就会？。提，升一代产《品；以TF》TLCD为代表【的显示？器件正在取代彩【色显像管的显示器件！生产；微型》计算：。机的：迅速发？展使各种元器件生】产发：展，。十分迅？。速因此电子工业【洁净厂房的设—计、建？造必须适应这种快】速，发展的需要从—洁净厂房的规—划开始对于电子【工，厂、洁净厂房的【工艺设计《、工艺布局应充分考！虑电子产品发展【的灵活性以满—足电子产品生—产工艺改造和—扩大生产的》。需求： ， 5.1】。.2、5.1.【3 ： 以：集成电路芯》片制造、《TFTLCD—液晶显示器件—生产用洁净厂为代】表的微电子生产【洁净厂房具》有洁净？度要求严格》、大面积《、大体量和能耗【大、运行费用—高的：特点：洁净厂房工艺设计是！。先导工序所》以对电子工业—洁净：厂，房工艺？设计：的基本要求是—在满足电子产—品生：产要求的前提—下，合理进行洁净厂房】工，艺布：局合理确定各—种公用动力设施的】技，术条件和要》求等生产条件—做，。。到能：量消耗少、运行费用！低、生产效率高和建！设投资少；合—理，进行：人流路线、物料运输！和仓储设施的配置和！布置满？足电子产品洁净【生产：要，求和产？品生产？工艺要求工》艺，设计应合理选择生产！设备：的自动化水平和物】料运输的自动化水平！在经济、《实用：、安全可靠》的条件下提高—生产：效率 ？ ，