1》0，.4 ？ 废    水【。 ？ ？ ， 1：0，.4.1  硅集成！电路：芯片生产《。废水通常包括—可回用废水》、含氟废水、化学】机械抛？光废水、《一般酸？碱废水、高浓度【含氨废水等分—类收：。集既是提《高废水处理效率【的需要也是提高【全厂水系《。统回用？率的需要《 ： ， ？10.4.3  硅！集成电路芯片生产排！放的废水其水质【和水量在一天—24h内均》存在波动水量、【水质波？。。动越大过《程参数越难以控制】处理效果越不稳【定因此为了》保证废？。水处理？系统的？平稳运行设计大小】合适的调节》池对废水进行均质】均量的？调整是非常重要的】同时合理设计调节池！对后：续处：理设施？的处理能力、—基建投资、运转费】。用等均有较大影响】 —10.4.5 【。。 ，硅集成电路芯—片生产废水种类较】多，且污染物特性各不】相同如何处置—脱水后的泥饼直接影！响废水和污泥系【统的分类和处—置技术 】  ：   目前国内【较，为成熟？的污泥？脱水设备有压滤【机和离心脱水机等脱！水设备的选择—应充分考虑污泥【的脱：。水，。性质和脱《水要求结《合，。设备的供《货情况经技术经济比！较，后确定污泥脱水【。性质的指标有—比阻、黏《滞度：、粒度等《脱水要求通》常是：指泥饼的含水率 ！ 10.4】.6  进入脱水设！备的污泥含水—率，直，。接影响泥饼》的，产率：在一定条件》下泥饼？的产率与进入脱水】。。没备的污泥含水率】。。成反比关系》因此当？污泥含水率大于【98%时应该考【虑适当的浓》缩处理以《降低其含水率 【 》。1，。0.4.7  【硅，集成电路芯片生产废！水，处理后生成的污【泥需要根据其—是否是危险废物分】别进行？外运处？置外运的频度往往取！决于委外处置厂商的！处理能？力和外运条件所以】。废水处理站通常都】需要考虑污泥暂存的！污泥料仓或堆—场 ： 1—。0.4.9  硅】集成电路《芯，片工厂要达到高效】用，水通常采《取两：种途：径循环使用》和回收利用循环使用！通常在生产工—。艺设备的设计制造过！程中加以《考虑而回《。收利用则是》水，系，统工程师《必，须要考虑的》问题如何保证—不，同水质和水量—的用后纯水有效回收！和利用离不开对全】厂用水系统的水【量平衡水量平衡【是指在一《个，确定：的用水系《。统内：输入水？。量，之和等于输出水量之！和硅：集成电？路芯片工厂》的水量平衡是以硅】集成电路《芯片：生产为主要考核对象！通过对各《用水系？统的用水水》质和消耗水量的分】析根据水《量的平衡《关，系，分析用水的合理程】度 ？