？ 10？.3  《纯 ：  ： 水： 【 ，10：。.3.1  芯片生！产过程中需大量使】用超纯水作为清【洗用水我国水资源短！缺、淡？水资源总量》约每年262—00亿m3人均占有！量为每年2392m！3为世？界人均占有》量的：1/4名列第110！位由于各地区处于不！同的水文带及受季】风气候影响》水资源？与土地、矿产资【源分布和工业用水】结构不相适应水污染！严重水质《。型缺水更加剧—了水资源的短缺高】速扩张的产能和日益！匮乏的水《资源的尖锐对—立如：何合理的制》水、用水并综合利用！水资：源是硅集成电路芯】片工厂纯水系统设】。计的基？础纯：水，制备系统需》根据生产《工艺：的，要求合理制定制备系！统规模和《供，水，。水质超纯《水制备可《利用水源《包括自来水以—外的再生水、甚至】废水处理站处理后的！水体：现面：对水资源匮》乏设计中不能只考】虑自：来水而忽略其他水】。源 10！.3.3  实践证！明采用？循环供？。。水方式是行之有【效的主？要是基于保证输水】管道内的流速—和尽量减少》不循环段《的死水区以减少纯】水在管？道内的停留》时间减少管道材【料微量溶出》物（即使目前—质量最好的》管道也会有微量【溶出物）对超纯水】水质的影响同时较高！的，流速还可以防止细】菌微生物的滋生 】。 ？ 10.》3.6  纯—水系统管《材的选择《。方面：主要应考虑》三方面的因》素 ？ 材料的化】学稳定性纯》水是一种《。极好的溶《剂为了保证在—输送过程中》纯水水质下降最小】必须选择化学稳定】性极：。好的管材也就—是在所要求的纯【水中的溶《。出物：最小溶出物的多【少，应，由材料的溶出试验确！定其中包括金属【离子、有机》物的溶出《等 管道！内壁的光洁度—若，管道内壁有微小【的凹凸会《造，成微粒的沉》积，和微生？物的繁殖导致微粒】和细：菌两项指标的不合格！目前聚偏氟乙烯（P！VD：F）管道《内壁：粗糙：度可达小《于1μ？。m的水平而不—锈钢管约为几十微米！ 管【道及管件接头处的】平，整度对？于防：止产：。生流水？的涡流区是》非常重要的》 ：。 《10.？3.：8、10.3.9】 ， 纯水作为清—洗用：水，经过工艺生产设【备使用后应尽可【能做到“《清污分流”》选，。择收集？低污染度的清洗废水！作为纯水制备的原水！或其他次级》用水的？原水促进《水的循环利用和重】复使用实现高效率的！一水多用是实现纯水！系统和？全厂高回用率—的，关键所在用后纯水的！重复利？。用既要达到高的回用！率同：时也必须保证工【艺设备的用水—安全因此确定回收】水水质对纯水系【。统设计影响很大回收！水水质？必须：根据回收系统的【处理工艺和处理能】力来确定在》设计：初期必须结合目前成！熟可靠？的工程技术》和经：济条：件做好相关的技术评！估，工作既？。要，确定可供安全回收】的回：收水水质也》必须考虑《到回收水水质变化对！纯，水系统的影响和冲击！根据国内硅集成【电路芯片工厂运行经！。验以及国外同类工】厂的技术水》平6英寸硅集成【电路芯片工厂的工】艺废：水的：回用率？不应低于50％8英！寸～12英寸—硅集：成电路芯片工—厂的工艺废水—的回：用率不应低于7【。5％ 《