。。 3 — 工艺设《计 ！ 3.1 — 一般规定 【 3.】1.：1、3.1.2  ！硅集成电路》产品：发展十分迅速按【照摩尔定律每个集】。。成电路上可容纳的】。晶体管数目约—每隔18个月—增加一倍性能也【将提：升一倍近年来虽然】集成电路发展的速】度有所减缓但变化依！然十分巨《大同：时集成？。电路生产所需的水】、电的耗量较多各】。种原：。材料和排放物—的种类繁《多其中不乏对环境】和安全等有较大【影响的因此硅集成电！路的厂房《设计、建造必须适】应这：种快：速的发展《与，变化提高生》产效率减少》能耗同时必须考虑到！环保以及职业卫【生和：安全方面的要—求 ？