： 2  术 【 语 【 ： 2.0.1  硅！片    wa【。fe：r 【从拉伸长出的—高纯度？单晶硅的晶锭经滚】圆、切片《及抛光等工序加【工后所形成的硅单】晶薄片 》 2.0【.2  《线宽    cri！tical dim！ensio》n 为所！加工：的集成电路电路图】。形中最小线条宽度也！称为特征尺寸 】 ： 2.0.—3  洁净室   ！ clean ro！om 】空气悬浮粒子浓度受！控的房间 》 2.0.！4  空气分子【。污染   》 airborne！ molecula！r ：conta》minant 】 《空气中所含的—。对集：成电路芯《片制造产《生有害影《响的分子《污染物 《 ？ 2.0》.5  标准机械】接口：    s》tandard 】m，。echanical！ interf【ace 》 适用于不】同生产设备的一【种通用型《接口装置可将硅片自！动载入设备并在加】工结束后将硅片【。送出同时保》护硅：片不受外界》。环境污染 — 2.0.6！。  港湾式布置【  ：。bay an—d c？hase 】 ， 生产工艺》设备按不《同的洁净等》级进行？布置并以隔墙分【隔生产区和维—修区： ， 《 2.0.7  】。大空间式布》置    ball！。 room 【 ：。 生产《工艺设备布置—在同一？个区域全区采用同】一洁：净等级未划分生产区！和维修？区 2.！0.8  自动物料！处，理系统    a】utomat—i，c m？ateri》al handli！ng s《yst？em：(AMHS) ！ 在硅集—成，。电路芯片工厂内部】将硅片和《掩模板在不同的工】艺设备或不同—的存储区域之间进行！传，输、存储和分发的自！。动化系统 ！ 2.0.9  纯！水    pure！ w：ater 【 根《据生产？需要：去除生产所》不，希望保留《的各种离子以及【其他杂质的》水 ？ 《2.：0.10 》 紧急应变》中心   》 emer》gency r【espon》se ？cent《er： 》 内设各《种安全报《警系统和《救灾设？备的安全《值班室为24h【事故处理中心和指挥！中，心 ？