7  结】    构 ！ 7.1！  ：一般规？定 — 7.1.【1  ？发光二极管工—厂光刻机《等精密设备基—础应满足微》振动控制的要求 ！ 7.1.2！  产生较大振【动的设备基础宜远】离光刻机等精密设】。。备区域；当》无法远？离时对？产生较大振动—的设备？应采取有《效的隔振措施 】 7.1【.3  生》产厂：房，工艺生产区的结构不！宜设置伸《缩缝： ：