7 — 结  《  构？ ： 》。 7《.1  一》般规定 【 ？。 7：。.1.1  发【光二极管《工厂光刻机等精【密设备基础应—满足微振动控制【的要求 ！7.1.2  【产生较大《振，动的设备基》础宜远离光刻机【等精密设备区—域；当无法》远离：时对产生较大振动】。的设备应采取—有效的隔《振措施 《。 ： 7.1.3】  ：生产厂？房工艺生产区的结构！不宜设置伸缩缝【 ：