7  结 ！   构《 】 7.1 — 一般规定 】 7—.1.1  发【光二极管工》厂光刻机等》。精密设？备基础应满》足微振动控制—的要求 【 7.1.2 】 ，产，生较大振动的设备基！础宜：。远离光刻机等精【密，设备区域《；当：。无法远离时对—产生较大振动的设】备应采取有效—。的隔振措施 — ，。 ？ 7.？。。。1.3  生产厂】房工艺生产区—的结构不宜》设，置伸缩？缝 ？