。 《7  结    构！ ： 【 7.1  一般规！定 — 7.1.【1 ： 发光二《极管工厂光刻机等精！密设：备基础应满足微振】动控制的《要求 — ：7.1.2  产生！较大振动的设—。备基础宜远离光刻机！等精密设《备区域；当无法远】。离，时对产？生较大振动》的设备应采取有【效，的隔：振措施 】 7.1.3—  生产厂》房工艺？生产区的结构不【宜设置？伸缩缝 》