。 7》。。  结   — 构 ？ 】 7.1  一【。般规：定， 【 7.1.1  】。发光二极《管工厂光刻机等精】。密设备基《。。础应满足微振动【控制的要求 【 7.1【.，2  产生》较，大振动的设备—基，础宜远离光刻机【等精密设备区域；当！无法远离《。时，对产生较《大，振动：的设备应《采取有效的隔—振措施 》 ， 7.1—.3  生产厂【房工：艺生产区的结构不宜！设置伸？缩缝 《