， 7  结【    构》 】 7.1  一般！规定 ？。 7】.1.1  —发光二极管工厂【光刻：机等精密设备基【础应满足微振动控】制的要求 】 7.1.2【  ：产生较大振》动的设？备基础宜《远离光刻机等精密设！备区域；《当无法远离时对产生！较大振动的设备应采！取有：效的隔振措施 【 》7.1.3  【生，产厂房工艺生产区的！结构不？宜设置？伸，缩缝 《