， 7  结  ！。  ：构 ！ 7.1  一】般规定 《。 《 7《.1.1  发光二！。极管工厂光刻机【等精密设备基础【应满足微振动控制】的要求 】 7.1《.2  产生—较大振？动的设备《。基础宜远离光刻【机等精密《设备区域；当无【法远离时对产—生较大振动》的设备应采取有效】的隔振？措，施 7】.1.？3，  生产厂》房工艺生《产区的结构不宜【设置伸？缩缝 ？ ，