7  【结    构— 【 ， 7.《1  一般规定【 》 ： ，7.1.1  【发光二极管》工厂光刻机》等精密设备》基础应满足》微振动控《制的：要求 7！.，。1.2  产—生较大振动的设备基！。础宜远离光刻机【等精密设备》区域；当无法—远离时对产生较大振！动的：设备应采取有—效的隔振措施 【 7.【。1，.3 ？ 生产厂房工—艺生：产区的结构不宜设置！伸缩缝 》