， 7 》 结    构【 》 ？ 7.1  【一般规定 】 ， ？7.1.1》。  发？光二极管工》厂光：刻机等精密设备【基础应满足微振【动控制的要》。求 7.！1.2 《 产生较大振动的设！备基础？宜远离光刻》机等精密《设备：区，域；当无法远—离时对产生较大振】。动的设备应采—。取有效的隔振措施】 7.1！。.3  《生产厂房工艺—生产区？的结构不宜》设置伸缩缝 — ，