7 — 结： ， ，  构 】 7.1】。  一？般规定？ — 7.《1.1  发光【二极管工厂光刻【机等精？密设备？基，础，应满足微振动控制的！要求 ？ 7.【1.2  产生较】大振动的设备基础宜！远离光刻机等精【。密设备区域；当无法！远离时对产生较大振！动的设备应采取有】效的隔振措施 ！ 7.1.3 ！ 生产厂房工艺生】产区的结《构不宜设置伸缩缝 ！ ，