《4.3 处理工艺!设计
!
4:.3.1 酸碱废!水的:处理宜符合下列规】定
【 1 酸碱!废,水处理系统》的反应池《不宜少于二》段;
?
?
《 2 最终【进入酸碱《废水处理系》统的各股《废水宜均匀进入系】统;
《
】3 各股废水【。在进入酸碱废水【处理系统时宜利用废!酸碱中和进行预处理!
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:
4?.3.2 含氟】废水:的处理宜符合下列规!定
【 , ?1 含氟废水【宜,采用化学混》。凝沉淀法处理;
!
【 2 《高浓度含氟废水宜】逐步适量投入低【浓度含氟废水中【处理;
—
— 3 ?。 含氟?废水:处,理系:统宜设置污泥回流调!理,设,施,;
:
:
4】 含氟《废水处理系统—宜设置氟离子在线】监测仪并与药剂【投加:联锁
—
4.3》.,3, 含磷废水的处理!宜符:。合下列规《定
! 1 低—浓度含磷《废水宜采用化学混凝!沉淀法?处理;
! ? 2 ? 高浓度含磷废水】宜采:用两级化学混凝沉淀!法处理;
—。
— 3 高浓度】。含,磷废水宜逐步—适量投入低浓度含磷!废水:中,处理;
《
,
》 , 4 《 ,综,合技术经《济比:较,可,行,时磷酸废液宜委【外综合?处理:;
【 : 5 含磷【废水处?理系统宜设置污泥回!流调理设施》;
—
《 6 含磷废水】处,理,系统宜设置总磷在线!监测仪并与药剂【投,加联锁
!4.:3.:4 CMP废【水的处?理宜符合《下列规定
》
】 1 CMP【废水宜采用化学混】凝沉淀法处理;【
,
!2 CMP—废,水所含的H2O2】宜在混凝《沉淀处?理前单?独预处理去》除;
?
!3 各股化学性】质不同的CM—P废水?宜分别收集》、合并处置
】
4.3.【5 含氨废—。水的处?理,宜符合?下列规?定
?
】1 高浓度含氨】废水宜?采用吹?脱-吸收工艺预处】理后再进入下一【级废水处理系统;】
《
2 】 高浓度含》氨废水吹脱处理【系统宜设置》加热措施并设置热回!收措:。施;
—
3【 硫酸铵处—置有:困难时高浓度含【。氨废水可《采用气提触》媒法处理《;
【 4 — 低浓度含氨废【水,宜采用折点氯化【法或生物硝》化反硝化工艺—处置;折点加氯【氧化法处理含—氨废水?时反:应槽内的pH值宜控!制,。在4左右《
4【.3.6《 含砷《。废,水的处理宜符—合下列规定
!
1 】 含砷废《水宜采用化学—混凝沉?淀法处理;》
《
,
》2 : 砷化镓《晶圆:的研磨切割废水宜先!进行固液分》离回:收再进入后续处理系!统;
—
—3 ?含砷废水污泥脱水】装置宜单独设置
!
4.3.7! 有机废水—的处理宜符合下列规!。定
《
【1 : 当有机《废水:CODcr浓—度大于?或等于2《000mg/L【时宜采用化学混【凝沉淀法、气浮【法或厌?氧生物处理》系统预?。处,理后再进入》。。后续处理系统;
】
【 :2 当《有,机废水CODc【r浓度小于20【00mg/L时【宜采用生物处理【工艺;?
【。 , 3 《 当排水总氮—浓度超过排放标准的!要求时宜选择硝【化反:硝化脱氮工艺
【
:
4.3—。.8 重金属废】水,的处理宜符合下列】规定
《
— , 1 ? 重:金属废水宜采—用化学?混凝沉淀法处理;
!
— , :2, 含?。有高浓度硫酸—盐的重金《属废水宜选用Na】OH作为pH—调,。节药剂;
【
— 3 含有络合】剂、螯合剂的重金】属废水宜《先进:行预处理破络后再进!入重金属废水系统】处理;
【
? 4 含有】H2O2的重金属废!水,宜单独收集并—去除H2O2—后,定量注入重金—属废水中《合并处理《;
—
? , 5 高》浓度重?金属废?水宜单独收集对【重金属进《行,回,收预处理后再定量】投加到低浓度重【金属废?水中进行处理;【
,。
】 6 重金属废】水处理?系统宜设置污泥回】。流调理设施;
【
》 , : 7: 重?。金属废水处理系【统宜设置《重金属离子》在线监测仪并与药】剂投加联《锁
:
《
4.3.9— 含氨络合—废,水的处理宜》符合下列规》定
—
1 【 含氨络合废水【宜采用硫化物沉【淀法、折点氯化法进!行预处理;
—
《
, 2 采用!硫化物沉淀》法处理含氨络合废】水时宜?先行:处理重金属》污染物?且不宜与其他重金】属废水混合处理后】。的含:。氨络合废水宜对氨氮!污染物进行处理【;
【 3 【采用硫化物》沉淀法处理含氨络合!废水时?废,水宜:在碱性条《件下处理《并设计防止过量【投加硫?化物药剂的技术【措施:;
?。
【 ,4 采用折—点氯化法处理含【氨络:。合,废水时宜先》行处:理氨氮污染》物再汇入重金属废】水进行后续处理;】
》
5 】当含氨络合废—水中重金属浓度大】于10g《/L时反应》完成后宜直接进入压!滤机进行全量过滤过!滤出水后再进入后续!处,。理系:统
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4.3】.10 》。印,刷电路板化学铜废水!的处理宜《符合下?。列规定
】。
1 】化学铜废水宜—采用硫?酸亚铁法、钙盐【法、硼氰化钠—法及催化还原—法,处理;?
?
《 ?2 当采用—钙盐法处理化—学铜废水时不宜采】用碳酸钙作为反应】药剂
】4,.3:.11?。 印刷电路—板,显像、?去膜废液《的处理?宜符合下列》。规定
《
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》 1 显像、去】膜废液宜采用酸【化及固液分离法【预处理后再进行【后,续,处理;
】
? 2? 酸化及固液分】离法处理显像、去】膜废液时宜采—用机械搅拌方式并】投加适量消泡剂;
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3】 :显像:废,液宜单?。独收集酸化处—理后再与去膜废【液合并处《置;
【
? 4 显像废】液采用?。酸化及固液》分离法预处理—后,宜采:用生化处理工艺进行!后续处理《
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