4》.3 处理工艺设!计
:
:
:
4.3.1 ! 酸碱废水的处理宜!符合下列规》定
?。
,
:
,。 1》 :酸碱废水处理—系统:的反应池不宜少于二!段;
》
【2 ?最终进入酸》碱废水处理系统的各!股废水宜均匀—进入:系统;
》
】3 各股》废,。水在进?入酸碱废水处理系】统时:宜利:用废酸?碱中和进《。行预处理
—
,
4.3.2 ! 含氟废《水,的处:理宜符合下列规定】
》
1 【。 含氟废水宜采【用化学混凝沉淀【法处理?;
—
: ?2 ?高浓:度含氟废《水宜:逐步适量投入—。低浓度?含,氟废水中处理;
!
,。
3】 含氟《废水处理系统宜设】置污泥回流调理【设,施;
】 4》 含氟废》水处理系统宜设置】氟离子在线监—测仪并?与,药剂投?加,。联锁
《
4》。.3.3 含磷】废水的处理宜符合】下列规?。定
》
1 !低浓度含磷废水宜采!用化学混凝沉淀法处!理,;
?
— 2 高浓【度含磷废水宜采【用两级化学》。混凝:沉淀法处理;
!
,
3 !高浓:度含磷废水》宜逐步适量投入低】浓度含磷废水中【处,理;
《
【 4 综合技术经!济,。比,较可行时磷》酸废液宜委》外综合处理;
】。。
:
5【 含磷废水处理】系统宜设置污泥回流!调理设施;
!
6 】 含:磷废水处理系统【宜,设置总磷在线监测仪!。并与药剂投加联锁】
4.】3,.,4 : CMP废水的处】理宜符合下》列规定?
》。
, , 1 》 CMP废水宜采】用化学混凝沉淀法处!理;
】 2 C】。MP废水所含的H】。2O2宜在混凝沉淀!处理前单独预处【理去除;《
【 3《 , 各:股化学性质不同的C!MP废水《宜分别?收,集、合并处》置,
《
4.3.5 】 ,含氨废水的处理宜符!合下列规定
!
1 !高浓度含氨废—。水宜采用吹》脱-吸收工》。艺,预处理后再》进入:下,一级废水处理系统;!
! 2 ? 高浓度含氨废【水吹脱?处理系统宜设置加】热,措,施并设置《热回收?措施;
—。
— 3 硫》酸铵处置有困难时】高浓:度含氨废水可采用气!提触媒法处理—;
! , 4 低浓度含氨!废水宜采用折点氯】化法或生物硝化反硝!化工艺处置;折点加!。氯,氧化法处理含氨废水!时反应?槽内:的pH?值宜控制在》4左右
!4.3.6 含】砷,。废水的处《理宜符合下列规定
!
?
,
: ?1 含砷废水【宜采用化学混凝【沉淀法处理》;
?
】。2 砷化》镓晶圆的研磨—切割:废,水宜先进《行固液分离》回,收,。。再进入后《续处理系统;—
:
3! 含砷废水污【泥脱水装置宜单独】。设置
【
4.3.7 【 有:机废水的处》理宜符合《下列规定《
?
》 1 》当有机废水C—ODcr浓度大于】或,等,于20?00mg/》L时:。宜采用化《学混凝沉淀法—、气浮法或厌氧生物!处理:系,统预处?理后再进入后续【处理系统;
!
2 !当有机废《水COD《cr浓度小于2【000mg/L时】宜采用?生物处理工》艺;
】 3 — 当排水总氮浓【度超过排放标—准的要求时宜—选择硝化反》。硝化:脱氮工艺
!
4.3.8— 重金属废水的处!理宜符合下列规定】
?
1 ! 重金属废水宜采用!化学混凝沉淀法【处理;
】
《 ,2 含《。有高浓度硫酸盐的重!金属废水宜选用N】aOH作为p—H调节?药剂;
《
》 《3 含有络合剂、!螯合剂的重金属废】水宜先进行预处理】破络后再进入—重金属?废水:系统处?理;
《
》 4 含有H!2O2的重》金属废水宜》单独收?集并去除《。H2O2后》定,量注入重《金属废水《。。中合并处理;
【
》 : 5 高—浓度重金属废水宜】单独收集《对重金属进行回收预!处理后再定量投加】到,低浓:度,重金属废水中进行处!理;
》
?。 6 【重金属?废水处理系》。统宜设置污泥—回流调理《设,施;
! 7 重金】属废水处理系—统,宜设置重金属—离子在线监测仪并】与药:剂投加联锁》
4.】。3.9 》含氨络合《废,水的处?理宜符合下》列规定
! 《1 含氨络合【废水宜?采用硫化物沉—淀法、折《点氯化法进行—预处理;《
》
2 【 ,采用硫化物沉淀法处!理含氨络合废水时】宜先行处理重金【属污染物且不宜与其!他重金?属废水?混合处理后的—含氨络合废》水宜对氨氮污—染物进行《。处理;
【
3 】 ,采用硫化物》沉淀法处理》含氨络合《废,水时废水《宜,在,碱性条件下处理【并设:计防止?过,量投加?硫化物?药剂的技术措施【;
【 : 4 《。 采用?折点氯化法》处理含氨络合废水】时宜先行《处理氨氮污染物【再汇入重金属废水进!行后续处理;
【
,
【 5 当含—氨络合废水中—重,金属浓度大于10g!/L时反应完成【后宜直接进入压滤机!进,行,全量过滤过滤出水】后再:进入后?。续处理系统
—
4.3.!10: 印刷电》路板化学《铜废水的处理宜符】。。合下列规定
】
【1 ?化学铜废水宜采用硫!。酸亚铁?法、:钙盐:法,、硼氰化钠法及【催化还原《法处理?;
?
?
》。。2 当《采用钙?盐法处?理,化学铜废水时—不宜采用碳酸钙作为!反应药剂
!
,4.3.11 印!刷电路板显像、【去膜废液的处—理宜符合下》列规定
】
?。 1 显—。像、去膜废液宜采用!酸化及固液分离法】预处理?后,再进行后续处理;】
?
— 2 酸化及固液!分离法处理显像、去!。膜废液时宜采用【机械搅拌方式并投加!适量消泡剂;
【
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《 : 3 《显像废液宜单独收集!酸化处理《后再与去膜废—液合并处置;
】
:
4 】 显像废《液采用酸化及固液】。分离法预处理—后宜采用生化—处理工艺进行—后续:处理
《