10．2】  系统设计—、处理流程及—方法 】 10《．2：．1  两个—废气出口一个为起炉！烟气出口《另一个？为生产烟气出口【 ？ ：    《 起：炉烟气？为，各窑炉？烘炉或起炉空气燃】烧时排出的》烟气生产烟气为生产！时因物料熔融而产】生的烟气起炉烟【气一：般不：含有害物质》而生产烟《气，。含，。有有害？物质所以一般—分，。别设置排气系统 ！ 10．【2．2  规定本条！目的在于使》窑炉生产设备内部和！烟气系统均保持稳定！的工作压力窑—炉生：。产设备废气出—口通常为《微，负压该压力对生产效！率有很大的影响【 10】．2．4 》 由：于各电子玻璃的【生，产，厂的配方不同产生的！烟气成分都不同因而！所采用的《处理方法也》有不同采用喷淋设】备、半干式吸收【塔处理酸性》废气为一般采用的方！法若有？氮氧化？物的产？生其处理方法—按，第10？．2．？6条的说明 — ： 10．2【．5  废气的降温！在电子玻璃行—业中：有两个方法即—室外冷空气降—温和喷淋降》温采用何种方法取】决于采？用的生产原》料是否？有，吸湿的情况》（如硼、砷等）【脱硝效率与湿—度成反比过》。高，的湿度容易引起处理！设备：及风管？中产生结晶所—以，需确保？降温后废气的相【对湿度不超过10％！ —10．？2．6  本条【。规定了废气脱—硝的方？式 ： ？   《  1  常温脱】硝一般采用》化学洗涤或臭氧（】AO：P）：氧化还原工艺等方法！但因产生废水产【生水溶化合》物的：再处：理问题及废气氮【氧化物浓度高等【情况在电子》玻璃烟气中很少【采，。用， 《  ？   2  当采】用，CSCR方案时【脱硝：设备包括氨》水外部升温气化【。设，备，、氨：水与废气混合设备】、废气升温设备（由！60℃～80℃提】升，到10？0％～120℃【）、脱硝反应塔（含！触，媒）、氨逃逸监控】、氮氧化物监—控、：触媒回收设备—等，   】 ， 4  当采用SN！C，R，或HESNC—R方案时脱》硝设备包括含氨水外！部升温气《化设备、氨水与废气！混合设备、除灰设】备、脱硝反》应设备？、，氨逃逸？监控、？氮氧化物监》控仪：表等 【     》常用：的脱硝？方式：见表10 ！ — ，10．2．7  本！条规：定是考虑因硼粉尘与！氨结晶？会毒化催化剂及【产，生，催化剂氧化问题 ！ 10．2．！。8  本条》规定氨的逃逸—率不超过8mg/】m3依据现》行行业标准》火电：厂烟气脱《。硝工程技术规范  ！选择性非催化—。还原法HJ —563脱硝系—统设计时要采取控】制氨气？泄漏的措《施防止二《次，污染氨的逃逸率不】超过8m《g/m3同时厂界氨！。气的浓度符》合现行国家标准恶臭！污染物排放标—准G：。。B ：14554的规【定 ？