10．2】  系统设计、处】理流程及方法 】 1【0．2．1  【两，个废气出口一—。个为起？炉烟气？出口另一个为生【产烟气出口 —     ！起炉烟气为各窑炉烘！炉或起炉空气燃烧】时排出？的烟气生产烟气为生！产时因？物料熔融而》产生的烟气起炉烟】气一般不《含有害物质而—生产烟气含有有害】物质所以一般分别设！置排气系《统 《 10．—。。2．2  》规定本条目的—在于使窑炉生产设备！内部和烟气系统均】保持稳定的工作压】力窑炉生产设—。备废气出口通常【为微负压该压力对】生，产效率有很大—的影响 — 10．2【．4 ？ 由于各电》子玻璃的《生产厂的《配方：不同产生的烟—气成分都不同因【而所采用的处—理方法也有不同采】用，喷淋设备、半—干式吸收塔处理酸性！废气为一般采用【的，方法若有氮氧化物的！产生其处理方法按第！10．？2．6？条的说明《 —10．2．5  废！气的降温在电子玻】璃行业中有两个【方法即室外冷空【气降温和喷淋降温】。采用：何种方法取决于采】用的生产原料—是，否，有吸湿的情况（如】硼、：砷等）脱硝效率【与湿：度成：反比过高《。的湿：。度容：易引起处《理设备及风管—中产生结《晶所以？需确保降温后废气】。的相对湿《。度不超过10％ 】 》10．2．6  】本条：。规定了废气脱硝【的方式 》     】1  常温脱硝【一般采用化学—洗，涤或臭？氧（AOP）氧化还！原工艺等方法但因产！生废水产生水—溶化合物的再处理问！题及废气氮氧化【物浓度高等情况【。在电子玻璃烟气中很！少采用 —  《  ： ，2  ？当采用？CSCR方》案，时脱：硝设备？包括氨水外部升温气！。化设备、氨水与【废气混合设备、【废气升温设备（由】60℃～80—℃提升？到100％～—12：。0℃）、脱硝反【应塔（含《触媒）、氨逃逸【监控、氮《。氧化物监控、触【媒回收？设备等 《     ！4  当《采用SNCR—。。或HESN》CR方案《时脱硝？设备：包括含氨水外部【升温气化设备、氨】水与废气混合—设，备、除？灰设备、脱》硝反应？设备、氨逃逸—监，控、氮氧化》物监：控，。仪表等 —。   》  常用的脱硝方式！见，表1：0 【 10】。．2．7  —本条规定是考虑因硼！。粉，尘与氨结晶会毒化】催化剂及产生催【化剂氧化问题 】 10．2．！8 ： 本条？规定氨的《逃逸率不《超过8mg/—m3依据现行行业】标准火电厂》烟气脱硝工程技术】规范 ？ 选择性非催化还】原法H？J 563脱硝【系统设计时要采取控！制，氨，气泄漏？的措施防止二次污染！氨的逃逸率不超过】8mg/m》3同时厂界》。氨气的？浓，度符合现行国—家标准？恶臭污染物排放【标准：GB 1455【。4的：规定 《