1》0．2  系—。统设计？、处理流程及方【。法 ！10．2．1 【 两个废气出口【一个为起炉烟—气出口另一个为【生产烟气出口— ：    【 起炉烟《气，为各窑炉烘》炉或起炉空气燃烧】时排出的烟》气生产烟气为生【产时因物料熔融而产！生的烟？气起炉烟气》一般不含有害物质而！生产：烟气含有《有害物质所以一般分！别设置排气系统 】 《 10．2．2 】 规定本条目的在于！使窑：炉生产设备内部和烟！气系统？均保：持稳定的工作—压力窑？。炉生产设备废气出】口通常为微负压【该，。压力对生产》效率：。有很大的影响 ！。 10．2．4！  由于各电子玻璃！。的生产厂的配方不同！产生的烟气成分都】不，同因而所采用的处理！方法也有不同采【用喷：。。。淋设备？、，。半干：式吸收塔处理酸性】废气为一般采用【的方法若有》氮氧化物的产—生其处理方法按第】10．2《．6条的说明 【 10．】2．5 《。 废气的降温在【电子玻璃行业—中有两个方法即室外！冷空气降温和喷【淋降：温采用何种方法取决！于采：用的生产《原料是否有吸湿的情！况（如硼、砷等）】脱硝效率《与湿度成反比过高的！湿，。。度容易引起处—理设备及风管中产生！结晶所以需》确保降？温后废气的相对湿度！不超过10》％ —。 10．2．6【  本条规定—了废气脱硝》的方式 《 ： ，   《  ：1，  常温《脱硝一般采用化【学洗涤或《臭氧（？AOP）氧化还原】工艺等方《法但因产生废水产】。生水溶化合物的【再处理问题及废气氮！氧，化，物浓度高等情况【在电子玻璃烟气中很！少采用 —   》  2  当—采用：CSCR方》案，时脱硝设备》包括氨水《外部升温气》。化设备、氨水—与，废，气混合设备、废【气升温设备》。（由：60℃～8》0℃提升到1—00％？～120《℃）、？脱硝反应塔（—含触媒）、氨逃【逸监控、氮氧化【物监控、《触媒回收设备等【 ： ：    》 4  当》采用SNCR或H】。ESNCR方—案时脱硝设备包括】含氨水外部升温气化！设备、氨水与—废气混合设备、除灰！设备、脱硝反应设备！。、氨逃逸监控—。、氮：氧化物？监控仪表等 —   【  常？。用的脱硝方》式见表10 【 — 1》0．2．7》  本条《规定是考虑》因硼粉？尘与氨结晶会毒化】催化剂及产生催化剂！氧化问题《。 《 ：10：．2．8  本条规！定氨的逃逸》率不超过8mg【。/m3依《据现行行业标准火】电厂烟气脱》硝工程？技术规？范  选择》性非催化还原—法HJ 56—3脱硝系《。统设计？。。时，要采取控制氨—气泄漏的措施防【止二次污《染氨的逃逸率不超过！8mg/m3同时厂！界氨气？的浓度符合现—。行国家标准》。恶臭污染物排放【标准GB《 14554的规定！ ：