10．2】  系统《设计：、处理流程及方【法 ：。 《 10．2．1！  两个废气—出口一个为》起炉烟？。气出口另一》个为生产《烟气出口 【     起】炉烟气为各》窑炉烘炉或起炉空】气燃烧？时排出的烟气生产烟！气，为生产时因物料【熔融：而，产，生的烟气起炉—烟气一般不含有害】物质而生产烟气含】有有害物质》。所以：一般分？别，设置排气系统 】 《10．2．2 【 规定本条目的【在于使窑炉生产设】备内部和烟气系统】均保持？稳定的工作压—力，窑炉生产设备废【气，出口通常为微—负压该压力对生【产效率有很》。大的影响 》。 ？ 10．2—．，4 ： 由于各电子玻璃的！生，产厂：。的配方不同产—生的烟气成分—都不：同因而所采》用的处理《方法也有不同—采用喷？淋设备、半干式吸收！塔处理酸性废气为】一般采用的方法【若有氮氧化物的产生！。其，处理方法按第1【。。0．：。。。2．6条的》说明 ？。 10【．2．？5  废《气的降温在电—子玻璃行业》中，有两个方法即室外冷！空气降温和喷淋降】温采用？何种方法取》决于采用的生—产原：料，是，。否有吸湿的情—况，（如硼、砷等）脱】硝效率与湿度—成反比过高的湿度容！易引起处理设备及】。风管中产生》结晶所以需确保降温！后废气的相对—湿度不超过1—0，％ 10！．2．6  本条规！定，了，废气脱硝的》方式： 》     》1 ： 常温脱硝一般采用！化学洗涤或臭氧（A！OP）氧化还原【工艺等方法但因【产生废水产生水溶化！合物的再处理问题】及废气氮氧化—物浓度高等》情况在电《子玻璃烟气》中很少采用 ！     2 】 当：采用C？SCR方案时脱硝】设，备包括氨水外部升】温气化设《备、：氨水与废气混—合设备、废气升【温设备（由》。60℃～80℃提升！。到100％～120！℃）、脱硝反应塔（！含触：媒）、？氨，逃逸监控、氮氧化物！监控、触媒》回收设备等》   】  4  当采【用，。SNCR或HES】。NCR方案时脱硝设！备包括含《。氨水外部升》温，气化设备、氨—水与：废气混合设备、【除灰设备、》脱硝：反应设备、氨逃逸监！控、氮氧化物—监控仪表等 】 ？    常用的脱】硝方式见《表10 《 ！ 10．2．7】  本条规定是【。考虑因硼粉尘与氨结！晶会毒化《催，化剂：及产生催化》剂氧化？问题 ？ ？ 10．2—．8  本条规【定，。氨的逃逸《率不：超，过8mg/m3【依据现行行业标准火！电厂烟气脱硝工程技！术规：范  选择性非【催，化还原？法HJ 563脱硝！系统设？计时要采取》。控制：氨气泄漏的措施【防止二？次污：染氨：的，。逃逸率不超过8mg！。。/m3同时厂界氨】气的浓？度符合现行》国家标？准恶臭污染物排放标！准GB 《14554的规定】 ：