： ， ， 8—  ：控制及？仪表： 8. ！1  一般规—定 —。 8. 1.— 1  由于电子工！业各行业生产—工艺用纯水的水质、！制备工艺和纯水【用量等设《计指标以及纯水站】规模、过程测量与控！制需求情况等不【尽相同应《结合各行业纯水站特！点、规？模和监控功能的具】体要求设计与合理】选配各？类制水？设备、监控》系统和现场测—量仪器仪《表 8】. 1. 》3  ？根据各行业纯—水站制备工艺—及其制水设备与介质！输送系统配置和控】制功能设计确定【纯水制？备过程测量》。与控制技《术条件选择监控【系，统及其？外部设备的配置本条！文中所称的介质【是指水系统中—原水、纯水、—中水：、热(冷《)媒：。水及工艺用液体化学！品等 》 ？8. 1. 4 】 现场？仪表包括常用的液】位、流量、压力、】温度传感器及其显示！与控制仪表应—视各：行业：纯水站监控参数、】部位及具体》要求设？计选配？现场仪表 —