《 ， ： ， 8  控制及仪表！。 ？ 8.》 1  《。一般规？定 8.！ 1. 1  【由，于电子工业各—行业生产工艺—用，纯，水的水质《、制备？工艺和纯水用量等】设计指标以及纯水站！规模、过程》测量与控制》需，求情况？等不尽相同应—结合各行业纯水【站特：点、规模《和监控？功能的具体要求设计！与合理？选配：各类制？水设备、监控—系统和现场测—量仪：器仪：。表， 8.】 1.？。 3  《根据各行业纯—水站制备工艺及【其制水设备与介【质输送？系统配置和》控制功能设计确定纯！水制备过《程测量与控制技术】条件选择监控系【统及其外部》设备的配《置本条文中》所称的介质是指【水系统中原水、纯水！、中水、热》(冷)媒《水及工艺用》液体：。化学品等 — 《8. 1.》 4  现》场仪表包括常用的】液位、流量、压力、！。温度传感器及其显】示与控制仪表应视】各行业纯《水站：监控参数、部位及具！体要求设计选—配现场仪表》 ， ，