《 》2  术《    语》  ： 2—. 0.《 1：  电？子工业纯水  pu！re water】 for《 elect—ron？。ic i《ndustry 】  —   ？电，子，工业生产所需的纯化！水的通称根据—生产需要的水质去】除生产所不》希望保留的各种离】子以及其他杂质【的水 《 ： 2. 》0. 2  电【子工业纯《水系统  pure！。 wate》。。r sys》tem 《f，or ？。。electroni！c indus【try —     【制取和配《。送用于电子工业生产！纯水：的系：统通常包括纯水【制备、纯水》的输送和分配、【纯水的回收》和处理的系统 】 2.— 0. 3  软化！水  ？soft wate！。。r  】 ，  除？掉部分或《全部钙、镁》离子等后的水 【 2. 0！. 4 《 淤塞？指，数，(SDI)  s】i，lt densi】ty inde【x，    ！ ，保证：反渗透正《常运行？的进水？水质重要指》标它通过被测水【样对0.《 45？。μ，m滤膜的《淤塞程度间》接，表征：造成反？。渗透：膜面堵塞的水中【微量悬？浮，物，、胶体的含量又【。称污染指数》FI 】。2. 0.》 5  电阻—率  res—istivi—t，y 》。 ，     度—量水溶液阻》止电流通过的—能力等于在》一定温度下》一对截面积为—。1c：m2的电极在1【cm距离间的电【阻值其单位为Ω·c！m或MΩ·cm 】。 2. 】0. 6《。  电导率 —conductiv！ity 【     度【量水溶液导电的能力！等于电阻率》的倒数？其单位为μs/c】m或s/《cm 《 ， 2. 0【. 7  总有【机碳(？。TOC)  tot！al o《rganic ca！rbon 》   【  水？中溶解性和悬浮【性，有机物中碳的总【。量反映水中有机物含！。量的指？标 》 2. 0. 8！。  微滤(MF【)，  mic》。r，ofiltra【ti：o，n， ：     】。通，常指在外压》作用下？利用筛网《状过滤？介质膜的“筛—。分”作用《。进行分？离的膜分离技术【 2【. 0. 9  】超滤(UF) 【。   ultr【。afilt》。ra：tion 》 《    《 通常指在》外压：作用：下利用非对称性膜去！除，水中：亚微米悬浮物的【膜分离技《术超滤能截》留分子量范》围为几百至几百【。万，的溶质和微粒多【为大分子《有机物和胶体— —2. 0《. 10 》 反渗透(RO) ！   r《ever《se osmo【s，is ？  【   在外》加，压力作用下利—用一：种半透性薄》膜使水分《子和其他一些物【。质选择性透过从【而将：。绝大部分悬浮物【和绝大部分溶解固形！物，(盐：)截留去除的膜分】离技：术 ： ， 2. 【0. 11  电】脱盐(EDI)  ！  ele》ctrodeio】niz？ation 【     一！种利用装《。。填阳、阴《混，合离子交换》树脂或？离子交换无纺—布在直流电》场作用下连续去【除水：中离子而不需要专门！再生：的除盐？。装置的统称 ！ ：2. 0.》 12  紫外线杀！菌 UV 》ste？riliza—tion 》 ：  》。   通过波—长254nm的紫外！线照射杀灭》水中的活菌为—紫外线杀菌装置【 2. ！0. 13  紫】外线除有《机碳：。    UV—-TOC Rem】oval  ！ ：    通》过波长18》5nm的紫外—线，照射分解纯水中的微！量TO？C为紫外线除TOC！装置 ？ 2.【。 0：. ：14 ？ 膜：脱气装置(M—DG) mem【brane》 degasif】ier    】。     】利用膜分《离，技术降低水中挥发性！。溶解物？质，的装置在电子工【业，。纯水：系统中主《要是脱除纯水—中的溶解氧 【 2. 0.！ 15  供水环】。路  ？  ：di：。str？i，buti《on l《oop 《 》    为保—证电子工业最终使】用点的纯《水水质和水》压而采用的有附【加循环水量的不间断！供水方式最终使用】点用水？取，自从终？端过滤器到纯水【水，箱之间的闭》合供：水，环路：供水环路一般由【纯水精处理系统【和供、回水管路共】同组成 — 2. —0.： 16  背压【调节阀组 ba【c，k pres—sure 》。regul》ati？on uni—t  》   》  设于纯水回水】管路末端《通过调节阀通径大】小的变化来维—持、调节《纯水供回《水管路压《力的调节阀组 【 ，