， 4.4  】设备布置 》 4】.4.1《  振动敏》感，。设备指用于》发光二极管芯—片生产的光刻机、】发光：二极管芯片测试的】探针台为避免振动】源对此类微》振敏感设备的—影，响此类振动敏感设】备应尽量远离振【动源布置 】 4？.4.2  本条】主要：针对工艺《生产分？期实施提出》对于产业化》规模生产发光—二极管生《。产设备宜根据设【备种类适《当集中布置当—分期：实施时？需考虑预留空位【；因投资《。限制同？时考虑节约厂房运行！费用可按设定的【生产大纲配置工艺设！备，以实现紧凑》。的工艺平面布置【 ， 《 4.？4.3、4.4【.4  《金属：有机化？合物化？学气：相沉积？设备是生产发—。光二极管《的关键设备并与其辅！。助设备关联》比较密切金属—有机化学气》相沉积生产的辅助设！备包括？气瓶柜、尾》气处理设备、—气体纯化《柜金属有机化学【气，。相沉积生产》所需的特殊气体(】如，硅烷、？砷烷、磷烷等—)放在气瓶柜—中通过管《道接至金属》有机化？。学气相？沉积设备；氢—气、氮气、氨—气需经过气》体，纯化设？。。。备纯化？后接至金属》有机化？学气相沉积设备使】用点：；工艺？尾气需经过尾—气处理设备处—理后再行处理—或排：放上述设备》均为使用会产生危险！气体的设备》虽然在工程》设计中？可以采取一些措【施将产生《危险：的概率降至最低在】工艺功能规划—。、设备布置时—宜将这些辅助设备】(气瓶柜、》。尾气：处理设备、气体纯化！柜)集中靠外墙布】置 ？