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2  【术,语和缩?。略语: , 《 《 2.1《  术 《   语 》 2】.1.1《  :电子工业纯水系【统  pure【 wat《er syste】m of ele】ctro《ni:。c i?ndustr—y 《  《   制备》电子工业生产所【需的纯水、超纯水】由制备设备》、管路?、电气及相应—仪表:等组成的系》统的总称《 : 2.1.】2  多介质—过滤器  mult!i me《di:a :filter— , ?     在【一,定的:压力作用下使水通】过设:。备内充?填的多层介质—通,过,介质间的孔隙—截留水中的悬浮、】絮凝物等杂质的【装置 — 2.1.3【  活性炭》过滤器  a—ctive —carbon f】。ilter 】   》  活性炭过滤器属!于压力式过滤设【备内填比表》面积较大、具有物理!吸附和化学吸附【功能的活性炭通过利!用其综合《的,。吸附作用《去,除水:中的有机物、—余氯、?色度和?异味等的装置 ! 2.》1.4  》。反渗透装置  re!。ver?se osmo【sis?。。 ,unit 】    》 在外加压力—作用下利用一种【半,透性薄膜《使水:分,子和其他《一些物?质从高?浓度:侧向低?浓度:。侧,选择:性透过从而将绝【大部分溶《。解固形物《(盐:)、有机物、胶【体,及颗粒?等截留去除的膜及组!件组成的设备 ! 2.》1.5  》。电,脱盐装置  el】ectrode【ionazat【ion 》   —  利用《电场作用使得—水中的阴、阳离子定!向迁移并选择性地】通过阴离《子,交换膜及阳离子交】换膜在阴、》阳,离子:交换膜之间分—别形成纯水、浓【。水隔:室同时利用》电解水产生的—氢离子与氢氧—。根离子不断的再【生失效的工作—层树脂从而连续去】除水中离子》而不需要《专门:再生的除盐》装置的统称 — 》2.1.《6,  混床 》 mixe》d bed —  —   ?混床也称混合—离子交换塔》是把阴、阳离子【交换树脂按》一定的比例》混合:装填在?同一:设备内对水中的各种!。阴、:阳,离子进行《交换、?脱除从而《达到制取《高,纯度的纯水的装【。置 2.!1.7  紫外线】杀菌装置  ult!ra:violet 【st:eriliza【tion 》 《   ?  利用波长—254nm的—。。紫外线照射杀—灭水中的活》菌的装置 ! 2.1.8  紫!外,线除总有《机碳装置《  :ultrav—iolet》 TO?C removal! ? :  :   利用波长18!5nm的紫外—线照射?降解水中的总有机】碳(TOC)—的装置 — 2.》1.9  膜脱【气装置?  membran!e :degasifi】er —     利用膜!分离技术降低水中】挥发性?溶解物质《的,。装置 【 2.1.10【  超滤 》 ultr》。af:iltra》tion — :   《  指在外压作用下!利用非对称性膜去】除水中相对分子量6!000至《500?000的《高分子物质或—胶体:的膜分离装置 】 《2.1?.,11  电阻率 】 resis—。tivity 】  》   截面积为1】cm2?长度为1cm的【水,柱在25℃时的电阻!值常用的电阻率【单位:为MΩ·c》m水的纯度》越高电阻《率,越大 ? 》。。2.1?.12?  颗粒《度,  p?art?icl?e 《 , ,     》单位体积水中大【于或等于某粒径【的颗粒的个数— 2.】1.13  总有机!碳  TO》C :total o【rganic 【ca:rbon《 :     水!。中的有机物质—的含量以有机物中的!主要元素碳的量来】。表示 》 2.1.14!  :余氯  《res?idual c【hlori》ne:    ! 指水与《氯,族消毒剂接》触一定时间后余留在!水中的氯 》。 ?。 2.1》.15  淤塞指】数  sil—t den》sity i—。ndex 】  ?   在标准压【力和标准时间周期内!一,定体积水《样,通过一特定微孔【膜滤器的《阻塞率通《常采用的《测算周期为1—5,min?其对应?所测得?的淤塞指数称为S】DI1?5 ?