2  【术，语和缩？。略语： ， 《 《 2.1《  术 《   语 》 2】.1.1《  ：电子工业纯水系【统  pure【 wat《er syste】m of ele】ctro《ni：。c i？ndustr—y 《  《   制备》电子工业生产所【需的纯水、超纯水】由制备设备》、管路？、电气及相应—仪表：等组成的系》统的总称《 ： 2.1.】2  多介质—过滤器  mult！i me《di：a ：filter— ， ？     在【一，定的：压力作用下使水通】过设：。备内充？填的多层介质—通，过，介质间的孔隙—截留水中的悬浮、】絮凝物等杂质的【装置 — 2.1.3【  活性炭》过滤器  a—ctive —carbon f】。ilter 】   》  活性炭过滤器属！于压力式过滤设【备内填比表》面积较大、具有物理！吸附和化学吸附【功能的活性炭通过利！用其综合《的，。吸附作用《去，除水：中的有机物、—余氯、？色度和？异味等的装置 ！ 2.》1.4  》。反渗透装置  re！。ver？se osmo【sis？。。 ，unit 】    》 在外加压力—作用下利用一种【半，透性薄膜《使水：分，子和其他《一些物？质从高？浓度：侧向低？浓度：。侧，选择：性透过从而将绝【大部分溶《。解固形物《（盐：）、有机物、胶【体，及颗粒？等截留去除的膜及组！件组成的设备 ！ 2.》1.5  》。电，脱盐装置  el】ectrode【ionazat【ion 》   —  利用《电场作用使得—水中的阴、阳离子定！向迁移并选择性地】通过阴离《子，交换膜及阳离子交】换膜在阴、》阳，离子：交换膜之间分—别形成纯水、浓【。水隔：室同时利用》电解水产生的—氢离子与氢氧—。根离子不断的再【生失效的工作—层树脂从而连续去】除水中离子》而不需要《专门：再生的除盐》装置的统称 — 》2.1.《6，  混床 》 mixe》d bed —  —   ？混床也称混合—离子交换塔》是把阴、阳离子【交换树脂按》一定的比例》混合：装填在？同一：设备内对水中的各种！。阴、：阳，离子进行《交换、？脱除从而《达到制取《高，纯度的纯水的装【。置 2.！1.7  紫外线】杀菌装置  ult！ra：violet 【st：eriliza【tion 》 《   ？  利用波长—254nm的—。。紫外线照射杀—灭水中的活》菌的装置 ！ 2.1.8  紫！外，线除总有《机碳装置《  ：ultrav—iolet》 TO？C removal！ ？ ：  ：   利用波长18！5nm的紫外—线照射？降解水中的总有机】碳（TOC）—的装置 — 2.》1.9  膜脱【气装置？  membran！e ：degasifi】er —     利用膜！分离技术降低水中】挥发性？溶解物质《的，。装置 【 2.1.10【  超滤 》 ultr》。af：iltra》tion — ：   《  指在外压作用下！利用非对称性膜去】除水中相对分子量6！000至《500？000的《高分子物质或—胶体：的膜分离装置 】 《2.1？.，11  电阻率 】 resis—。tivity 】  》   截面积为1】cm2？长度为1cm的【水，柱在25℃时的电阻！值常用的电阻率【单位：为MΩ·c》m水的纯度》越高电阻《率，越大 ？ 》。。2.1？.12？  颗粒《度，  p？art？icl？e 《 ， ，     》单位体积水中大【于或等于某粒径【的颗粒的个数— 2.】1.13  总有机！碳  TO》C ：total o【rganic 【ca：rbon《 ：     水！。中的有机物质—的含量以有机物中的！主要元素碳的量来】。表示 》 2.1.14！  ：余氯  《res？idual c【hlori》ne：    ！ 指水与《氯，族消毒剂接》触一定时间后余留在！水中的氯 》。 ？。 2.1》.15  淤塞指】数  sil—t den》sity i—。ndex 】  ？   在标准压【力和标准时间周期内！一，定体积水《样，通过一特定微孔【膜滤器的《阻塞率通《常采用的《测算周期为1—5，min？其对应？所测得？的淤塞指数称为S】DI1？5 ？