2  术语！和缩略？语 ！ 2？。.1 ？ 术    —语 《 2.1】.1  电子工业纯！水系：统  ？pure 》water》。。 sys《tem of 【elect》ron？ic indu【stry 【 ：     制备电】子工业生《产所需的纯水—、超：纯水由制备设备【、管：路、电？气及相应仪表等组】成的系统的总称 】 2.1】.，2  多介》质，过滤：器  mult【i media 】filte》r 》 ：    在一定的】压力作用下使水通过！设备内充填的多层介！质通：过介质间的孔隙截】留水中的悬浮—、絮凝物等杂质的装！。置 ？ ： ：2.1.《3  活性炭—过，。。滤器  acti】ve c《。arbon fi】l，ter 《 ， ？    《 活性炭《过滤器属于压力式过！滤设备内填比表面】积较大、具有物理】吸附和化学吸附【功能的活性炭通过利！。用其综合的吸附作】用去除水中》的有机物、余氯、】色度：和异味等的装置 ！ ： 2.1.4【  反渗透装—置  reve【rs：。e osmo—sis u》nit 《 《   ？ ， ，在外加压力作用下】利用一种《半透性薄《膜使水分子和—。其他一？些物质从高浓度侧】向低浓度侧》选择性透过从而【将绝大？部分溶解固形—物，（盐：）、有机物》、胶：体及：颗粒等截留去—除，的膜：及组件组成的设【。备 — 2.1.5—  电脱《盐，装置  elec】trod《eiona》zation 】。。   —  利用电场作【用使得水中的—阴、阳离子定向迁移！并选择性地》通过阴离子》交，换膜及阳《离子交换膜》在阴、阳《离子交换《膜之间分别》形成纯水《、浓水隔室同时利用！电解水产生》的氢离子与氢氧根离！子不断的再》生失效？的工：作层树脂从而连【续去：。除水中？离，子，而不需要专门再【生的除盐装置的统称！ 《 ， 2.1.6  混！床 ： mixed— bed — ：     混床也！称混合离《子交换塔是把—阴、阳离子》交换树脂按一定【的比例混合装—填在同一《设备内对水中—的各种阴、阳离【子进行？交换、脱除从—而，达，到制取高纯》度的纯水的》装置 】2.1.7  紫】外，线杀菌装置 — u：ltravio【let s》ter？iliz《ation 】     【利用波长2》54nm的紫—外线：照射杀灭水》中，的活菌的装置 【 2.1】.，8  紫外线除总有！机，碳装置？  ultravi！olet 》TOC r》emo？val — ：。    《。 利用波长1—85nm《的紫外线照射降解水！中的总？。。。有机碳（《TOC）的》装置 ？。 ， 2.1【.9  膜脱气装置！ ， membra【ne ？d，e，gasifier ！ ：     利用！膜分离技术》降低水中《挥发性溶解》物质的装置 ！ 2.1》。.10  超滤  ！u，ltr？afi？。ltratio【n， ，   【  指在外压作用下！利用非对称》。性膜去除水中—相对分子《量6000至—500000—。的高：分子：物质或胶体》的膜分离《装置 》 ： ，2.1.11  】电阻率  》resisti【vity —     截！面积为1c》m2长度为1c【m，的水柱在《。25℃时《的电阻？。值常用的电阻—率，。单位为MΩ·cm】水的纯度越高电阻率！。越大 《 2.—。1.：12  颗粒度 】 pa？rticle 】 ？  ：   单位体—积水中大于或等于某！粒径的颗粒》的个数 《 2.1】.1：3  总有》机碳  《TOC total！ orga》n，ic： ，car？bon —    — 水中的有机物质的！含量：以有机物中》的主要元《素，碳的：量来表示 【 2《.1.14》  余氯  re】sidu《al chlor】ine？    ！ 指：。水与：氯族消毒剂》接触一定《时间后余留》在水中的《。氯 《 2.1.1】5，  淤塞指数—。  s？ilt dens】ity ind【ex： ： 《    在标—准压力和标准时间】。周期内？一定体积水样通过】。一特定微《孔膜：滤，器的阻塞率通常采用！。的测算周期为1【5min其对—应，所测得的淤塞指数称！为S：。。DI15 —