2》  术语和缩—略语 ？ 【 2.1  术 ！   语 ！ 2.》1.1  》电子工？业纯水系统  pu！re wate【r s？ystem —of electr！。oni？。c ：industr【y   ！  制备电子工业生！产所需的纯水、超纯！。水，。由制备设备、—管路、电气及相应】仪表等组成的—系统的总称 】 2.1.【2  多介质—过滤器  m—ulti medi！a filter ！ ？ ，     在一定的！压力作用下》使水通过《设备：内充填的《多层：介质通？过介质？间的孔隙截留水中的！悬浮、絮凝物等杂】。质的装置 【 2《.1.？3  活性炭过滤器！  acti—ve ca》rbo？n fi《lter —   —  ：活性炭过滤器属【于压：。力式过滤设备内填】比表面积较大、【具有物理吸附—和化学？吸，附功能的《活性炭通过利—用其综合的吸—附作用去除水中的】有机物？、余氯、《色度和异味等的【装置 》 2.》1.4  反渗【透装置  》revers—e ：os：mosis —u，ni：t 《     【。。在外加压力》作用下利用》一种半透性薄—膜使水分子》和其他一些物质【从高浓度侧向低浓】度，侧选：择性透过从》而将绝大《部分溶解固形物【。（盐）、有机物、】胶体及颗《粒等截？。留去除的膜》及组件组成的设备 ！ 《 2.1.5  】。电脱盐装置  e】lectrod【。eionazati！。on 》   》  利用电场作用】使得水中的阴—、阳：离子定向迁移并选】择性地？。通过阴离子交换膜】及，阳离子交换膜在阴、！阳离子？交换膜之间分—别形成纯水、—浓水隔室同》时利用？电解水产生的氢离子！与氢：氧根离子不断的再】生失效的工》作层树脂《从而连续去除水【中离子？而，不需要专门再—生的除盐《装置的？统，。称 — 2.1.6 【 混床  》mixed》 bed 【 ？    混床—也称混？合离子交换塔是把阴！、，阳离子交换树脂按】一定的比例混合【装填在同一设备【内对水中的》各种：。阴，、阳：离子进行交换、脱】除从：而达到制取高纯【度的纯水的装置 ！ 《2.：1.7？  紫外线》杀菌装置  u【lt：raviole【t sterili！zation 】  》 ，  利用波长254！nm：的紫外？线照射？杀灭水中的活菌【的装置 ！2.：1.8  紫外线除！总有机碳装置  u！ltraviole！t， TOC remo！val 】     利—用波：。。长185n》m，的紫外线照》射降解水中的总有】机碳（？TOC）的装置【 ： ： ， ，2.1.9 — 膜脱？气装置  m—。emb？ran？e deg》asifier【 ：     】利用膜分离技—术降低？水中挥？发性溶解物》质的装？置 【2.1.10  超！滤  ？ult？rafil》tration ！ 《  ：  指在外压—作用下利《用非对称性膜—。去除：水中相对分子—量6000》。至，50000》0的高分子物质或】胶体的膜分离—装置 — 2？.1.11  电阻！率  resi【stivi》ty ？    】 截面积为1cm2！长，度为1？c，m的水柱在25℃】时的电阻值常用的电！阻率单位为》MΩ·cm》水的纯度越高电【阻率越大 ！ 2.1.12  ！颗粒度  p—a，r，t，icle ！     单—位体积水中大于【或等于？某粒：径，的颗粒的个数 【 2.【1.13 》 总有机碳  【TOC 《total or】ganic c【arbo《。n 》     水中】的，。有机物质《。的含：量以：有机物中的主要【。元素碳的量来表【。示 【2，.，1.14  余氯】  resi—dual 》chlo《rin？e ：。 ：。     【指，水与氯？族消毒剂接触一定】时间后？余留在？水，中的氯 】。 2.1.15【  淤？塞，指数  s》。ilt de—n，sity in【dex？    ！ 在标？准压力和标》。。准时间周期内—一定体？积水样通过一特定】微孔膜滤器的阻【塞率：通常：采，用的测算周期为【15min》其对应所测》得，的淤塞？指数称？为SDI15— ：