： 2？  术语和缩—略语 ！ 2.1 【 术  《  语 — 2.1】.1  电子工【业纯水系统  【pure wa【。ter 《system—。 of elect！ronic —indus》try —。 ，   《  制备电子工业】生产所需《的，纯水、超《纯，水由：制备设备《、管路、电》。。气及相应仪表等组】成的系统的总称【 ？ 2.》。1.2  多—介质过滤器》。  multi m！edia《 fi？lter 【。 ，  ？   在一定—。的压力作用》下使：水通过设《备内充？填的多层《介质：通过介质间的孔隙】截留水中《的，悬浮、絮凝物等杂】质的装？置 ： ？ 2.《1，.3  活性炭【过滤器  a—ct：ive car【bon？ fil《ter ！    活性炭过滤！。器属于压力》式，过滤设备内填—比，表，面积较大《。、，具有物理吸》附，和化学吸附功能的活！性炭通？过利用其综》合的吸附作用去【除水中？的有机物《、余氯、色》。度和异味等的装置】 2.】1.：4  反渗透装【置  re》。ve：。rse？ osmosis】 unit — ？    》 在外加压》力作：用下利用《一种半透性薄膜【使水：分子和其他》一些物质从高浓【度侧向？低浓度侧选择性【透过从而将绝大【部分：溶解固形物（盐【）、：有机物、胶》体及颗粒等截留【去，除的膜及组件组成的！设备 】2.：1.5  电脱【盐装置 《 ，e，lectrode】ionazati】on 》    — 利用电场作用使得！水，。中，的阴、阳离》子，定向迁移并》选择性？地，通，过阴离子交换膜及阳！。离子交换膜在阴、阳！离子交换膜之间分】别形成纯水、—。。浓水隔室同时利用电！解水产生的氢离子与！氢氧根？离子不断的》再生失效《的工作层树脂从而连！续去除水《。中离子？而不需要专》门，再生的除《盐，装置的统称 — 2.1.！6  混床  【mixed be】d  】  ： 混床也称混合【离子交换塔是—把阴、阳离子—交换树脂按一—定的比例混合—装，填在同一设备—内对水中的各种阴、！阳离子进行交换、脱！除从而达到制取【高纯度？的纯水的装置 ！ 2.1.【。。7  紫外线杀菌】装置  ultr】av：i，olet《 ，steril—i，z，ation — 《     利用波长！。254nm》。的紫外？。线照射杀灭水中的活！菌的装置《 ？ 2《.1：.8 ？ 紫外线除总—有机碳？装置  ultr】aviolet T！OC r《emo？。val 》 ？   ？ ， 利用波长185】。nm的紫《外线照射降解水【中的总？。。有机碳（T》OC）的装》。置 ： ： 2.1—.9  《膜脱气装置  m】emb？ra：ne degasi！fie？r 【    利》用膜分离技》术降低水中》挥发性溶解物—质的装置 】 2.1.—10： ， 超滤  ult】r，。。afilt》ration 】   —。  指在外压作用下！利用：非对称性膜去—除水中？相对：分子量6000至5！00000的高【分子物？质或胶体《的，膜分：离装置 《 》2.1.11  电！阻率  res【istiv》。ity 》  》  ： 截面积为》1cm2长度为1】cm的水柱在25℃！时的电阻值常用【的电阻率单位为M】Ω·cm水的纯度越！高电阻率越大— 《 2.1.12 ！ ，颗粒度  p—article【  【   单位体积水】中大于或《等于某粒径的颗粒的！个数 ？ 2.1.！13  总》有机碳  》TOC tot【a，l， organi【c ca《rbon 【   》  水中的有机物】质的含？量以有机《物中的主要元素碳的！。量来表？示 ？ 2》.，1.1？4  余氯  r】esid《ual？ c：hlo？rin？e ： 《    《 指水与氯族—消毒剂接触一定【时间后余留》在水中的氯 】 ：。。。 2.1.》15 ？ 淤塞指数 — s：ilt？ ，den？sity ind】e，x 》 ，     在—标准压力《和标准时《间周：期内一？定体积水样通—过一特定《微孔膜滤《器，的阻：塞率通常《采用的测算周期为】15min其对应所！测得：的淤塞指数称为SD！。I15 》