2  【术语和缩略语— ！ 2.1 》 术  《  语 —。 2.1】.1 ？ 电子？工业纯？水系统  pure！ wate》。r s？ystem —of e《lectr》onic 》industry】 ， ？     制备】电子工业生产所需的！纯水、超纯水—由制：。备设备、管路—、，电气及相应仪表【等，。组成的系统的总称】。 ， 》。。2，.1.2  多介质！过滤器  》m，ult？i med》ia fil—t，er 《     】。在一定的压力—作用下使水通过设】备内充填的多层介】质通过介《质间：的孔：隙截留？水中的悬浮、絮凝】物等杂质的装置 ！ 2.1.】3，  活性炭》过滤器 《 active【 carb》on： fi？。lter 》     ！活性炭过滤器属【于压力式过滤—设备内填《比表面？积较大、具有—物理吸？。。附和化？学吸：附功能的活》性炭通过利用其【综，合的吸附作》用去除水《中的有机物、余氯】、色：度和异味等的—装置 》 2.1.4】  反渗透装置【  rever【。se：。 os？m，osis《 unit 【 ？   ？。  在外加压力作用！下利用一种半透性薄！膜使水？。分子和其《他一些物质》从高浓度侧向低【浓度侧选择性透过从！而将：绝大部？分溶解固形》物（盐）、有—机物、？胶体及？颗粒等？截留去除的膜及组件！组成：的设备 【 2.1.5  ！电脱盐装置 — ele《ctrode—io：。nazat》io：n ？ ： ，     》利用电？场作用使得水中的阴！、阳离子定向迁移并！选择性地《通过阴离子交换【膜及：阳，离子交换《膜在阴、《阳离子交换膜之【间分别形成纯水、】浓水隔室同时—利用电解水产—生的氢离《子与：氢氧根离《子不断的再生失效】的工作层树脂—。从，而连：续去除水中离子而不！需要专？门再生的除盐—装置的统称》 ？ 2.1—.6 ？ 混床 《 m：i，xed 《bed 【     —混床也称混合离子交！换塔是把阴》、阳离子交换—树脂按一定的比例】混合装填在》。同一设备内对水【中的各种阴、阳【离子：进行：交换、脱除从而【达到制取高纯度的】。纯水的装置 】 2.1.【7，  紫？外线杀菌装置—  ：。ul：tra？viole》t ：steriliz】atio《n 》     利用】。波，长254n》m的紫外《线照射杀灭水中的】活菌的装置 ！ 2.《1.8  紫—外线除总有机碳【。。装置  ultra！viol《et T《OC rem—。oval 】     —利用：波长185nm的】紫外线照射》降解水？中的总有机碳（TO！C）的装《置 ： 2.【1.9 《 膜脱气装置—  membran！e de《。g，asif《ier ！    利用膜【分，离技术降低水中【挥发性？。溶，解物质？。的装置？ ？ 2.1—.1：0  超滤》  ultra【filtra—tion 》 ？ ，  ：   指在外—压作：用下利用非对称【性膜：。去，。除水中相对》分子量6000至】500000的【高分子？物质或胶体的膜分离！装置 2！.1.1《1  电阻》率  resi【stivi》ty ？ 》    截面—积，为1cm2》长度为1c》m的水柱在25℃时！的电阻值常用—的电阻率单位为M】。Ω·：cm水的纯度—越高电阻率越大 ！ 《。2.1.12  颗！粒度  part】icle 】     —。单位体积水中大于】或等于某粒径—的，。颗粒的个数》 》 2.？。1.1？3  总有机碳【  TOC t【。。。o，tal orga】nic c》a，r，bon 【     水【中的有机物质—的含：量，以有机物中的主要】元素碳的量来表示 ！ 2.1】.1：4 ：。。 余氯  r—esidual 】chlorin【e 【    指水与【氯族消？毒剂接触一》定时间后余》留在水中的氯 ！ ： 2.1.15 】 淤：塞，指数 ？ s：ilt de—nsity ind！ex ？ ， ？     在标【准压力和标准—时间周期内一定体积！水样：通过：一特定微《。孔膜：滤器的阻塞率—通常采用的测算【。周期为15mi【n其对？应所测得的淤—。塞，指数：称为S？DI15《 ：