2  术语！和，缩略语 《 ：。 《 2《。.1  术    ！语 】 2.1.1  】。电子：工业纯水系统—  pur》e water 】sy：stem of e！lectroni】c indu—stry 【    — 制备电子工—业生：产所需的纯水、超纯！水由制备设》备、管路、》。电，气及：相应仪表等组成的系！统的总称《 ， ：。 2《.1.2 》 多介质过滤器 】 m：ulti med】ia： filter 】 》   ？ 在一定《的压力作用下使水】通过设备内充—填的：多层介质通》过介质间的》孔隙截留水中—的悬浮？、絮凝？物等杂质的装置【 《 ：2.1.3》 ， 活：性炭过滤器》  active ！car？bon filte！r 【    活性炭过】滤器属？于压力式过滤设备内！填比表面积较大、具！有物理吸附》。和化学？吸附功？能的活性炭通过【利用其综合的吸附作！用去除水《中的有机物、余氯、！。色度：和异味等的装置【 ， 2.1】.4：  反渗《透装置  》rever》se osm—o，sis？ unit 】     在】外加压力作用下利】用一种？半透性薄膜使—水分子和其他一【些物质从高浓度侧向！低浓度侧选择性透】过从而将绝大部分溶！解固形物（盐）【、有机物《。、胶体及颗粒等截】留去除的膜及—组件组成的设备【 》 2：.1：.5  电脱—盐装置？  e？lectr》o，de：ion？a，zation—  【   利用电场作用！使得水？中，的阴：、阳：离子定向迁》移，并选择性地通过【阴离：子交换膜及阳离子交！换膜在阴、阳离【子交换膜之间分别形！。成纯水、浓》。水隔：室同时利用电解水】产生的氢离子与【氢氧：根离：子不断的再》生失效的工作层树脂！从而：连续去？除水中离子而不需要！专门再生的除盐装】置的统称 ！ 2：.1.6  —混床  m》。ixed《。 ，bed ！    混》床也称混合离—子，交换塔是把阴、阳】离子：交换树脂《按一定的比例混合装！填在：同一设？备内对水中》的各种阴、阳—离子：进行交换、脱除【从而达到制》取高纯度的纯水的装！置 《 2.1—.7  紫外线杀】菌装置？  ：ultraviol！。et steri】liz？ati？on 》     利】用，波长254n—m的紫外线照射杀灭！水中：的活菌的装置 ！ 2.1.8】  紫外线除—总有机碳《装置  ul—traviol【et TOC re！moval ！     利用】波长185》nm的紫外线照【射降解水中的总有机！碳（TOC）的装】置 ？ 2》.1：.9  膜脱气【装置  me—m，bran《e deg》asifie—r   ！  利用膜分离技术！降低水中《挥发性溶解物质【的装置 】 2.1《.10  超—滤  ul》trafiltr】ation》 《 ：    指在外【压作用？。。下利：用非对称性膜—去除水中相对分【子量6000至5】00000》的高分子物质—或胶：体，的膜分离装置 ！ 2.1.11！  电阻率  r】esi？s，tivi《ty 》   》  截面积为—1c：m2长度为1cm】的水柱在25℃【时的电阻值常用的电！阻率单位为MΩ·】cm水的纯度越高】电阻率越《大 ？ ： 2.1.1【2，  颗粒度》  part—icle 》 ： ，     —单位体积《水中大于《或等于某粒径—的颗粒的个数 【 ， ？ 2.1.13【  总？有机碳  TO【C total 】organi—c c？arbo《n ？。     】水中的有机》物质的含《量以有机《物中的？。主要元？素碳的量来表示 】 ： 2.》1.：14  余氯  】。residu—al ？chlo《rine 》 ， 《    指水与氯族！。消毒剂接触一定时】间后余留在水中的氯！。 》 2.1.15  ！淤塞指数  —。silt dens！ity inde】x   ！  在标准压力【和标准？时，间周期内一定—。体，积水样通过一特【定微孔膜滤器的阻】塞率通常采》。用的测算周期—为15m《i，n其对应所测得的】淤塞指数《称为SDI15【 ：