《。2 ： 术：语和缩略《语 》 《 ， ，2.1  》术    语— ： 2.1！.1  电子—工业纯水系统—  pure— water s】ystem —of e《lectro—nic in—du：st：。ry 【   ？  制？备电子工《业，生产所需的纯水【、超纯水《由制备设《备、：管路、电气》。及相应仪表等组【。成的：系统的总称 】。 2.1—.2 ？ 多介质过滤器【  multi 】media》 filt》er 》   》  在一定》的压力作用下使水通！过设备内充填—的多层介质通过介质！间的：孔隙截留水》中的悬浮、絮凝物】等杂：质的装置 【 ， 2.1》。.3：。。  活？。性，。炭过滤器《  acti—ve carbon！ filt》er 》     活】性炭过？滤器属于压力式过滤！设备内？填比表面《积较大？、具有物理》吸，附和化学吸附功【能的活性炭通过利】用其综合的吸附作】用，去，除水中的有》机物：、余氯、色度和【异味等的装置— 2.】1.4  反渗透装！置  revers！e osmos【is unit【   】  在外加》压力：作用下利《用一种半透性薄膜】使水分？子和其他一》些，物质从高浓度侧向低！浓度侧选择性—透过从？而，。将绝大部分溶解固】形物（盐）》、有机物《、胶体及颗粒等【截留去？除的膜及组件—组成的？设备 ？ 《 2：.1.5  电脱】盐，装置  《electrod】ei：onazati【on 【     利用电场！作用使得水中—的阴、阳离子定【向，迁移并选择》性地通过《阴，。离子交换膜》及，阳离子交换膜—在阴、阳离子—交换膜之间分别形成！纯水：、浓水隔室同时利】。用电解水产》生的氢离《子与：氢氧：根，离子不断的再—生失：效的工作《层树脂从《而连续去《除水中？离子而？不需：要专门？再生的除盐》装置：的统称？ ， 2—.1.6  —混床 ？ mixed be！d ？ ， ？    混床—也称混合离子交【换塔是把《阴、阳离子交—换树脂按一定—的比例混《。。合，装填在同一设备内对！水中的各《。种阴、阳离》子进行交换、—脱除：从而达到《制取高？纯度的纯水的—。。装置 【 2.1.7 【 ，紫外线杀菌装—置  u《lt：raviole【t ste》r，ilizati【on 》 ，。     利用波！长254《nm的紫外线照射】杀灭水中的活菌【的装置 【 2.1.8【  紫外线除总有机！碳装：置 ： ，ultr《。a，violet T】OC r《emo？va：l   ！  ：利用：。波长185》nm的紫外线照射】降解水中的总—有机碳（TOC）】的，装置 ？ 2.【1.9 《 膜脱气装置  】mem？bra？ne ？。degas》if：ier 《  —   利用膜—分离技术降低水中挥！发，性溶解物质的装置】 《 2.1.—10  超滤 【 ultr》afi？ltra《tio？n，    ！ 指在外压作用【下利用？非对称性膜去除水】。中相对分《子量600》0至：500000的高分！子物质或胶》体的膜？分离：装置 】2.1.《11  电阻率 】。 resist【i，vi：ty：    ！ 截面积为》1cm？2长度？为，1c：。m的：水柱在25℃时的电！阻值：常用的电阻率单位】为MΩ·cm水的纯！度越高？电阻率？越大 】2.1.1》。2  颗《粒度  parti！c，le — ：    单位—。体积水中大》于或等于某粒径的】颗粒的个数 ！。 2.1.13】  总有机碳—  TOC to】ta：l， ，o，rga？nic 《。carbon 【   【  水？中的有？机物：质的含量以有机【物中的主要元—素碳的量《来表示 】 2.1.》14  余》氯 ：。 r：e，s，idual》 chlori【ne  ！  ： 指水与氯族消【毒剂：接触：一定时间后余留在水！中的氯 《 ？ 2？.1.15 — 淤塞指数  s】il：t， dens》i，。ty ind—ex：  【   ？在标准压力和标准时！间周期内一定体积水！样通过？。一特定微孔膜滤器的！阻塞率通《常采用的测》算周期为1》5min其》对应所测得》。的淤塞指数称为SD！I15 》