： 2 《。 术语和缩略语【 — ， 2.1  术！    语》 《 2.—1.1  》电子工业纯水系统】。  pur》e， water— system o！f， ，el：ectro》nic in—du：stry 】 ，   ？。  制备电子工业生！产所需的纯水、超】纯水由制备设—备、管路、电—气及相？应仪表等组》成的系统的》总，称 2.！。1.：。2，  多介质过滤【。。器  mu》lti me—。d，ia f《ilter》 ，。 ？ ：    在》一定的压力作用【下使水通过设—备内：充填：的多层介质通—过介质？。。间的孔隙截留水【中的悬浮、絮凝物】等杂质的装置 ！ ： 2.？1.3  》活性炭？过滤：器  ac》tive ca【r，。bon 《filte》r 》     —活，。性炭：过滤器属于压—力式过？滤设备内填比—表面积较大》、具：有，物理吸附和化学吸附！功能的活性炭通【过利用其综》合的吸附作用—去除水中的有机【物、余氯、色—度和异味等的装【。置 【2.1？.4：  反渗透装—置  r《everse 【osmosi—。s u？nit — ？  ： ， ，在外：。加压力作用下—利，用一种半透性—。薄膜使水《分子和其他一些【物，质从：高浓度侧向低—。浓度侧？选择性透过从而【将绝大部分溶解【固形物（盐》）、有机物、胶【体，及颗粒等《截留去除的膜及组件！组成的设备 【 ， ？2.1.5  电脱！盐装置  el【ec：trode》ionaz》ation ！。 ：。    利用电场作！用使得水中的阴、】阳离子定《向迁移并选》。择性地通过阴—离子交换膜及阳离子！交换膜在阴、—阳离子交换膜—之间分别形成纯水、！浓水：。隔室同时利用电解水！产生的？氢离子与《氢氧根离子不断的】再生失？效的工作层树脂从】而连续去除水中离】子而：不需要专门再生的】除，盐装置的《统，称 【2.1.6 — 混床？  mi《xed 《bed 】     混床【也，。称混合离子交—换，塔是把阴、》阳离子？交换：树脂按一《。定，的比例混合装填【在同一？设备内对水中的【各种阴、阳离子进行！交换：。、脱除从《而达到制取高纯【度的纯水的装置【 ： ， ， 2.1.7  ！紫外：线杀菌装置  【ult？rav？iolet s【teri《liz？ation》 ，    】 ，利，用波长254nm的！紫外：线，照射杀灭水中的活菌！的装置 《 ， ？ 2.1.8  】。。紫外线除总有机碳】装置  ul—t，ravi《olet 》TOC remov！al —     利【用波长18》5nm的紫外—线照射降解水中的总！。有机碳（《TOC？），。的装置 《。 2.【1.9  膜—脱气装置  —membr》ane d》egasifie】r ？    【 利：用膜分离技术降【低水：中，挥发性溶解物质【的装置？ 2.】1，.10  超滤 】 ultraf【i，ltr？ation 】 ？    指在外压】作用下？利用：非对称性膜》去，除水中相对分子量6！000至5000】00的高分子物【质或胶体的膜分离】装置 《 2.—1.：。11  《电阻率？  r？。es：i，stivity 】  —   截面积为1】cm2长《度为1c《m的水柱在25℃】时的电阻值常—用，的电：阻率单位为》MΩ·c《m水的纯度越高电】。阻率：越大 ？ 2.【1.：12：。  颗粒度  【part《icle ！    《 单位体积水中大于！或等于某粒径的颗】粒的个数《 《 ：2.1.《13  总有机碳】  TOC》 total— organic】 c：。arbon —     ！水中的有机物质的含！量以有机物中的主】要元素碳的量—来表示 《 2.【1.14  —余氯：  re《sidua》l chlo—。rine 【    —。。。 指水与氯》族消毒剂接触一【定时间后余留在水】中的：氯 2.！1.15  —淤塞指数  sil！t d？ensi《ty inde【x ？     在！标准压力和标准时】间周期内一定体积水！样通过一特定微孔】膜，滤器的阻塞率—通常采用的测算周】期为1？5min《其对应所《测得：的淤塞指数称—为S：D，I15 》