，。 2 》 术语和缩略语 ！。 【 2.1  术  ！  语 【 2.1【.1  《电子工业纯水系统】  pur》e wate—。r system】 of elec】。troni》c indus【try — ，     制备电！子工业生产所需的纯！水，、超：纯水由？。制备设备、管—路，、电气？及相应仪表》等组成的系统的【。总，称 — ，2，.1.2  多【介质过滤器》 ， m：ulti m—edia《 ，filte》r ：     ！在一：定的压力作》用下使水通过设备内！充填的多层介质【通过介？质间：的孔隙？截留水中的悬浮【、，。絮凝物等《杂质的装置 【 2.1【.3  活性—炭过：滤器  ac—tiv？e carbon ！f，ilter》 《   《  活性炭过滤【器属于压力式—过滤：设备内填比表面积较！大、具有物》理吸附？和化学吸附》功能的活性》炭通过利用其综合】的吸附作用去—。除水中？的有机物、余氯、】色，度，和异味等的》装置： 》 2.1.4 【 反渗？透装置  》。reverse【。 osmosi【s un《。it  ！。  ： 在外？加压力作用下利【用一种半透》性薄膜使水分子【和其他一些物质【从高：浓度侧向低》浓度侧？选择性透过从—而将绝大部分溶解固！形物：（盐）、有机—物、：胶体及颗粒等截留】去除的膜及组件【组成的设《备 2】。.1.5《  电脱盐装置【  elec—trode》ionazat【i，on  ！   利用电—场作用使得水中的阴！、阳：离，子，定向迁？移并选择性》地通过阴《离子交换膜及—阳离：子交换？膜在阴、阳离子【。交换膜？之间分别形成纯水、！。浓水隔室同时利用】电解水产生的氢离子！与氢氧根离子不【断，的再生失效的工作层！树脂从而连续去【除水中离子而不需要！专门：再生的？除盐装置的统—称 2.！1.6  》混床：  mix》ed bed 【     ！混床也？称混合离子交换塔】。是把：阴、阳？离，子交换树《脂按一定的》比例混合装填在【同，一设备内对水—中的各种阴》、阳离子《进行交换、脱—除从而达到制取【高纯度的纯水—的装置 《 2.【1.7  紫外线】杀菌装置  —。ultraviol！。et steri】。lization ！    】 利用波《长254《。n，m，的紫外线《照射杀灭《水中的？活，菌的装？置 【2.1.8 — 紫外线除总—有机碳装《置，  u？ltravio【l，et ？TOC remo】val —     利用！波长1？。85nm的》紫外线照射降解【。水中的总有机碳（】TOC）《的装置 】 ，2，.1.9《  膜？。脱，气装置  me【mbrane de！gasif》。。ie：r 》  ？   利用膜分【。离，技术：降低水中挥发性溶】解物质的装置— ： 2.1【.10  超—。滤 ： ultr》a，filtratio！n —   ？  指在《外压作用下》利用非对称性膜去除！水中相？对，分子量60》00：至50？000？0的高分子物质或胶！体的膜分离装—置 2】.1.11 — 电阻？率  resis】tiv？ity？    ！ 截面？积为1c《m2长度为》1cm的水柱在2】5℃时的电阻值常用！的电阻率单位为【MΩ·cm水—的纯度越《高电阻率《越大 ？ ， 《。2.1.12 【 颗：粒，度  par—ticl《e ： ： ： ，    单位体积】水中大于或等于【某粒径的颗粒的个】数 2.！1.13  总有机！碳  ？。TOC？ t：otal org】an：i，c carb—on：   】  水中的》有机物质的》含量：以有机物中的—主要元素碳的—。量来表示 】 ：2.1.14  】余氯  resid！ual chlor！ine 》  》   指水与—氯族消？。。毒剂接触一定时【间，后余留在水》中的氯 】 2.1.15  ！。淤塞指数  si】lt： den《s，i，ty： i：ndex 】。。  ？。   在标准压力】。和标准时间周—期内一定体》。。积水样通《过一特定微孔膜滤器！的阻塞率通常采用的！。测算周期为15【min其对》应所测得的淤—塞指数称为SDI】15 《