2 — 术语和缩略语 ！ 》 2.1  】术 ：   语 — 2.1！.1  《电子：工业纯水系》统  pu》r，e ：wat？er syst【em of ele！ctronic【 i：ndust》。ry —     —制备：电子工业生产—所需的纯水、超纯水！。由制备设备》、管路、电气—及，相应仪？表等组成的系统的】总称 】2.1.《。2，  多介《质过滤器 》 multi m】edia filt！er  ！   在《一定的？。压力作用下使水【通，过设备内充填—的多层介《质通过介质》间的孔？隙截留水中》的悬浮、絮凝物【等杂质的装置 【 》2.1.3  【活性炭过《滤器  activ！e carb—on filter！    ！ ，活，性炭过？滤器：属于压力式过滤设】备内填比表面积【较大、具有物—理吸附和化学—吸，附功：能的活？性炭通？过利用其综合的吸】附作：用去除水中的—有机物、余》氯、色？度和异味等的—装置 》 2.》1.4？  反渗透装—置  revers！e ：osmosi—s uni》。t ？    【 在外加压》力作：用下利用一种半【透性薄膜使水—分子和其他一些物质！从高浓度侧向低浓】度侧选择性透过【。。从，而将绝大部分溶解固！形物（盐《。）、：有机物？、胶体及颗粒等截留！去，除的膜及组件组成】的设备 》 2.1.5！ ， ，电脱盐？装，置  e《lectr》odei《on：a，zation— ？     【利用电？场作用使得水中的】阴、阳离子》定向迁移并选择性地！通过阴离子交—换膜及阳离子交【换膜在阴、阳离子交！换膜之间《分别形成纯水、浓】水隔室同时》利用电？解水产生《的氢离子与》。氢氧根？离子不？断的再生失》效的工？作层树脂《从而连续去除—水中离子而》不需要专《门再生的除盐—装置的统《称 2】.1.6 》 混：床  m《ixe？d bed》    ！ 混床？也称混合离子交换】塔是：把，阴，、阳离子交换树【脂按一定《的比：例混合装《填在同一设备内对水！中，。的各种阴、》阳离子进行交换【、脱除从而达到制取！高纯度的纯水—的装置？ ：。 2.—1.7  紫外【线，杀菌装置  —u，ltraviole！t，。 ，s，teri《liza《。tio？n 》     利用波！长254nm—的紫外？线照射杀灭水中的活！菌，的装置 — ，。。 2.1.8【  紫外《线除总？。有机碳装置  【ultraviol！et TOC re！moval ！ ，  ：   利用波长1】85：n，m，。的，紫外线照射降解水中！的总有机碳（—TO：C，）的装置 ！ 2.1《。.9  膜脱气【。装置  memb】ra：ne： de？。gasi《fier 》  — ，  利用膜分离技术！降低水中挥发性【溶解物质的》装，置 ？ ， ： 2.1.》10：  超滤  u【ltra《fil？tration【 》   ？  指在外压作【用下：。利用非对称性膜去】除水中相对分子量6！。00：0至5？00000》。的高分子物质或胶】体的膜分离装—置 — 2.1.》1，1  电阻率  】res？istiv》ity ！ ，  ： 截面积为1—cm2长度为1c】m的水？柱，在25℃时的电阻】值常用的《电，阻率单？位为M？Ω·cm水的—。纯度越高电阻率【越大 2！.1.12 — 颗粒度  pa】rti？cle —    — ，单位体积水中大【于或等于《某粒径的颗粒的个数！。 《 2.《1.13 》 总有机碳  TO！C， total o】r，ganic ca】rbon 【 ？。 ，   水《中的有机物质的【含量以有机物中【的，主要元素碳》。。的量：来表示？ 2.】1.14  余氯 ！ resid—ual chlor！ine？ 《     —指水与氯族消毒剂】接触一定时间后余】留在水？中的氯 】 2.1.1—5  淤塞指数【  silt d】ensity 【in：dex 《。 《  ：   在标准压力】和标准？时间周？期内一定体积水样】通过一特《定微孔膜《滤器的阻塞率—通常采用的测算周期！为15mi》n其对应所》测得的淤塞指数【称为S？DI15 —