2 — 术语和缩》。。略，语 ： — 2.1 【 术   》 语 【 2.1.1 ！ 电子工业纯水系】统  pure 】water —system o】f el《ec：tro？nic i》ndustr—y 《     制备！电子工业生产所需的！。。纯水、超纯水—由制备设备、管【路、电气及相应仪】表，等组成的系统的总称！ ， ， 2.1.】2，  多介质过滤器】  ：m，u，lt：。i， me？dia filte！r ： 《。     在—一定的压力作用下】使水通过《设备内充填的多层】介质通过介质间【的孔隙截《。留水中？的悬浮、絮凝物等杂！质的装置 【 2.》。。1.3  》活性炭过滤》器  acti【ve car—bon f》ilter》   】。  活性炭过滤【器属于压力式过【滤设备内填比—表面积？较，。大、具有物》理吸附和化》。学吸附功能的活性炭！通过利用其综合【的吸附作用》去除水中的有机物、！余氯、色度和异味等！的装置 】 2.？1.：4 ： 反渗透装置 【 ，rever》s，。e osmo—。s，is unit【 》   ？  在外加压力【作用下？利用一种半透—性薄膜使水分—。子和其他一些物质从！。高浓度侧向低浓度】侧选择性透》过从而将绝大—部分溶？解固形物《（盐）、有机物【、胶体及颗粒等截】留去除的膜及组【件组成的设备 】 2》.，1.5  》电脱盐装置 — el？ect？ro：deionaza】tion —  》   利用》电场作用使得—水中的阴、阳离子定！向迁：移并选择性地通过阴！离子交？。换膜：及阳离？子交换膜在阴—。、阳离子交换膜之】间分别形成纯水、】。浓水隔室同时利用】电解水产生》的氢离子与氢—氧根离子不断—的再生？失效的工作层—树脂从而连续去【除水中？离子而？不需要专门再生的】除盐装置的》。统，称 2】.1.6  混床 ！ mi？。xed bed 】。 》   ？ 混床？也称混合离子交换塔！是把阴？、阳离子交换—。树脂按一《定的比例混》合装填在《同，一设备内对水中的】各种阴、阳离—子进：行交换、脱》除从而达到制取【高纯度的纯水的装】置 — 2.1.7—  紫外线》。杀菌装置  u【lt：rav？i，olet s—terilizat！io：n， ：。  》  ： 利用波长254】nm的？紫外线照射杀灭【水中的活菌》的装置 》 ？ 2.1.8  紫！外线：除总：有机：碳装置  ult】r，aviolet T！OC remova！l 【    利》用，波，长185nm的【紫外线照《射降：解水中的总有机碳（！TOC）的装置【 ， 2.1.！9  膜脱气装置】  membr【ane deg【asifier 】 ： ：    《 利用膜分离—技术降低水》中挥发性溶解物质】的装置 ！2.1.10  】超滤：  ：ult？rafiltr【at：ion 】     》指在外？压作：用，下利用非对称性【膜，去除水中相对—。分，子量：。6000至5000！00的高分子物质】或胶体的膜》分离装置 — 2》.1.11  【电阻率  r—es：isti《vity ！     截面积为！1cm2《长度为1c》m的水柱《。在25℃时的电阻】值常用的电阻率【单位为MΩ·cm水！的纯度越高电阻率】越大 《 2.1【。.，12：  颗粒度  【particl【e 【    单位体积水！中大于或等》于，某粒：。径，的颗粒的个》数 — 2.1.13  ！总有机？碳 ： TOC t—otal 》organic【 car《bon 【     水中】的有机物质》的含量以有机物中】的主要元素碳—的量来表示 【 2.—1.：14  余氯  】r，esi？dual chl】ori？ne  ！   指水与氯【族消毒？剂接触一定时间后】余留在水中的氯【。 —2.1.15—  ：淤塞指数  s【ilt dens】it：y index ！    【。 在标准压》力和标准时》间周：期内：一定体积水样通【过一：特定微？孔膜滤？器的阻塞率通—常采用的测算周期为！。15min其对应所！测得的？淤塞：指数称？为，SDI15 【