2  术语！和，缩略语 ！ 2.1【。  术  》  语 】 2.》1.1  》电子工业纯水—系统  pur【e wa《ter sy—stem of e！lect《ronic ind！us：try ！。    制备电子工！业生产所需的纯水】、超纯水由制—备设：备、管路、》电气及相应仪表等组！成的：系统的总称 】 2.1.【2  多介质过【滤器  mul【。ti medi【a fi《lter — ：     在【一定的压力作用【下使水通过设备内充！。填的多层《介质通？过介质间的孔隙【截留水中的悬浮、絮！凝物等杂质的—装，置 2】.，1.3  》活性炭过《滤器 ？ ，a，ctive》 carbon【 filter ！ ：     活性炭！过滤器属《于压力式过滤设【备内填比表面积【较大、具有物—理，吸附和化学吸附功】能的活性炭通过利】用其综合的》。。吸附作用去除水中的！有机物、余氯—、色度和异味—等的：装置 ？ 2.1】.4  反》渗透装置 》。 revers【e osm》osis《 ，。uni？t ： ？     —在外加压力作用下】利，用一种半透性—薄膜使水分子—。和其他一些物质从】高浓：度，侧向低？浓度侧选择性透过】从而：将绝大部分溶解固形！物，。。（盐）、有机物、】胶体：及颗粒等截留去除】的膜及组件组成【的，设备 【 2：.1.5  电脱盐！装置：  electro！deio《naz？。ation —  —   ？利用电场作用使得】水中的阴《、，阳离子定向迁移【并选择性地通过阴】离子交？换膜及？阳离子交换膜—在阴、阳离子交换】膜之间分别形成纯水！、浓：水隔室同时》利用电解水产—生的：氢，离子与氢氧根—离子不断的》再生失？效的：工作层树脂从而连】续去除水《中离子而《不需：要专门再生的除盐】装置的统称 — ： 2《.1.6  —混床  mi—xed b》ed： 》     混—床也称混合》离子交换《塔是把阴《、阳离子交换树脂按！一定的？比例：混合装填《在同一设备内对水】中的：各种阴、阳离子进行！交换：、脱除从而》达到制取高纯—度的：纯水的装置 ！ 2.1.7 】 紫外线杀菌装置】  ultrav】iolet —ste？rilizat【ion ！   ？ ，利用波？。长254n》m的紫外线照射杀】灭水中的活菌—的装置 ！2.1？.8  紫外—线除总有机碳装【置  ultrav！i，olet TOC】 remov—al 【 ， ，   利用波长【185nm的紫外线！照，射降解水中》。的总：有机碳（TOC）的！。装置 》 2.1.9】  膜脱气装置 】 membra【ne de》g，asifier 】  — ，  ：利用膜分离》技术：降低水中挥发—性溶解物质的—装置： ？ 2.1—.10  》超滤  ultr】afiltra【t，i，o，n， —    指》在外压作用》下利用非对称性【膜去除水中相对【分子量6000【至，。5，00000》的高分？子物质或胶体的【膜，分离装置 —。 2》。.1.1《1  电阻率—  re《s，istivity】 》 ，    截面积【为1cm2长度为】1cm的水柱在25！℃时的电《阻值常用《的电：阻率单位为MΩ·c！m水的？纯度越高电阻率【越大 【。。 2.1.》。12  颗粒度 】 pa？r，ticl《e，。 ：  》 ，  单位体积水中大！于或等于某》粒径：的颗粒的个数— —2.1.《13  总有机【碳  TOC to！tal org【。ani？。c carbon ！    】 水中的有机—物质的含量以—有机物中的主要元】素碳的量来表—示 2.！。1.14《  余氯 》。。。 resi》du：al ？chlori—ne 【    《 指水与氯族消毒剂！接，触一定时间后—余留在水中的氯 ！ 2.1.1！5，  淤塞指数—  ：silt dens！ity index！  【   ？在标准压力和标准时！间，周期内一定体积水样！通过一特定微孔膜滤！器的阻塞率》通常采用《的测算周期为15】mi：n其对？应所：测得的淤《塞指数称为SD【I15 《 ，