。 2  术】语和缩略语》 ？ 》 ：2.1 《 术   》 语 《 ， 2—.，1.：1 ： 电子工业》纯水系统  —p，u，re ？wate《r sy《st：em of —elec《tronic 【in：dustry ！     制备！。电子工业《生产：所需的纯《水，、超纯水由制备设备！、管：路、电气《及相应仪表等组成的！系统的总称 ！ 2.《1.2  多介质过！滤器：  ：m，ulti 》。media fi】lter ！ ，    在一定【的压力作用下使水通！过设备内《充填的多层介质【通过介质间的—孔隙截留水中的【悬浮、絮凝物等杂】质的装置 【 ， ， 2.1.》3 ： 活：性炭过滤器》  act》ive carbo！n filter ！ ，     活！性炭：。。过滤器属于压—力，式过滤设备内填【比表面？积，较，大，、，具有物？理吸附和化学吸附功！能的活？性炭通过利用其【综，。。合的吸附《作用去除水中的有】机物、余《氯，、色度和《异味：等的装置 】 2？.，1.4  反—渗透装置  r【everse 【os：mosis》 unit 】     在】外加压力作用—下，利用一种半透性【薄膜：使水分？。子和：其他一些物质—从高浓度侧向—低浓度侧选择—。性透过从而将绝【大部分溶解固—形物（盐）、有机物！、胶体及颗》粒等截？留去除的《膜及组件组成的设备！ 《 2？.1.5 》。 电脱盐装》置  elec【trodeion】azation【 》     利用【电场作用《使得水中《的阴、阳离子定向迁！移并选择性》地通过阴《。离子交换膜及—阳离子交换》膜在阴、《阳离子交换膜之间】分别形成纯水—、浓水？隔室同时利》用电解水产生的氢】离子与氢氧》根离子不断的再【生失：。效的工作层树—脂从：而，连续去？除水中？离子：。而不需要专》门再：生的除盐装置—的统称 — 2.1.6 ！ 混床 《 mixe》d bed》 》 ，  ：  混床也称混【合离子交《换塔是？把阴、阳离》子交换？树脂按一定的比例混！合装填在同一设备内！对水中的各种—阴、阳？离，子进行交换、脱【除从而达到制取【高纯度的纯》水的装置 【 2.》1.7  紫外线】杀，菌装置？  ult》。。raviol—et st》erilizati！on 】。    利用波长2！54nm的》紫外线照《射，杀灭水中的活菌的】。装置 — 2？。.1.8  紫外】线除总有机碳装【。置  ultrav！io：let 《TOC re—moval 】     利用！波长185nm【的紫外线照》射，降解水中的总有机】碳（T？OC）的装》置 《 ： 2.1.9  膜！脱，气，。装置  membr！ane？ degasi【fi：er  ！   利《用膜：分，离技术？降低水中挥发性【溶，解，物质的装置 【 2.—1，。.10 《 超滤？  ultr—afil《tration【 》 ，  ：  指在外压作用】。下，利用非对称性膜去】除水中相对分子【量6000至—。5000《00：的高分子物质或胶体！的膜分离装置 ！ ？2.：1.11  —电阻：率  resist！ivit《y 【    截面—积为1cm2长度为！1cm的《水柱在25℃时的电！阻，值常用的电阻—率单位为《MΩ·？cm水的纯度越高】电阻率越大》 《 2.1.1【2 ： 颗粒？度，  par》tic？le 】  ：  单？位体积水《中大于或等于某【粒径的颗粒的—个数 — 2.1.13 ！ 总有机碳  T】OC tota【l organ【ic carb【on 【 ，    水中—的有机物质的含量以！。有机物中的主要元素！碳的：量来表示 】 2.1.14 ！ 余氯  resi！dual《 ch？lor？ine 】     》。指水与氯族》消毒剂接触一—定时间后余》留在：水中的氯 【 ： 2.？1.15  淤【。塞指：数  silt d！en：sity ind】。ex ？     ！在标准压力和标【准时间周期内—。一定体积《水样通过一特定微】孔膜滤器的阻塞【率通：常采用的《测算周期为15mi！n其对应所测—得的淤塞《指数称为SDI15！ ：