5.7  ！分析检？。测 》 5.7【.1：  多晶《硅工厂应设置单独】的分析检测》室并宜？在四氯？化硅氢化《、还原尾气干法回收！、，三废：处理站？等装置？。区内设置《在线分析装置 ！ 5.7.2】  分析检测室不应！与甲、乙《类房间布《置在：同一：防火分区内可独立】设置于一侧 】。 5.7.3】  分？析检测应包括下列内！容   ！  1  》氯硅烷的含》量、：杂，质，、含碳化合物—分析； 》   —  ：2  ？硅粉：的含量、杂》质，、，粒度：、，碳含量分析； 】  》   3 》 液氩中氧》、氮含量分析； ！   —。  4  液氮中氧！含量的分析》氮气中？氢含量、氧》含量和？露点分析；》   】  5  氢气【中氧含量、氮含量、！氯硅烷含《量、露点分》析； ？  —   6  水中氯！离子：(，Cl-？)、氟离子(F-】)、化？学含氧量(C—OD)、生化—需，氧量(BOD)、酸！。碱，度(pH值)—、硬度、全碱—度，、悬浮？物、总磷、正磷分】析； 《。     7！  大气《中氯：化氢、氟化》物、氮氧化物分【。析；：。 ？   》  8？ ， 多晶硅质量—指标分析指标分【析包括多晶》硅，的导电类型、—电阻率？、，少子寿命、氧—含量、碳含》量、表面金属杂质含！量、体？金属杂质含量的【分析； — ？    《9  合成原料【氯化氢的纯度分析】； —    《 ，10  液氯中三氯！化氮、水含》量分析 《 ： 5.7.【4  分析检测【室中除化《学分：析外其他分析—检测：室应：。设置在洁净区 】