， 5.7—  分？析检测 【 ： 5.7.1 】 ，。多晶硅工厂应设【置单独的分析检测室！并宜在四氯化硅氢】。化、还原《尾气干法回收、三】废处理站等装置区内！设置在线分析装置 ！ 5—。.7.2  —分析检测室》不应与甲、乙—类房：间布置在同》一防火分区》内可独立《设，置于一侧 【 ？5.7.《。3  分析》检测应包括下—列内容 》   —  1  氯—硅，烷的含量、杂质【。、含碳化合物分【析； 】    2 —。 硅粉的含量、【杂质、粒度、碳含】量分析； 【 ：  ：   3  —液氩：中氧、氮含量分【析； 【 ，    4 — 液氮中氧》含量的分析氮气中】氢含量、氧含量和露！点，分析； 】   ？ ， ，5  氢气中氧【含量、氮含》量、氯硅烷含—量、露？点，分析； 》    【 ，6  水中氯离【子，(Cl-)、—氟离：子(F-)、化学】含氧量(COD)】、生化需氧》量(BO《D)、酸碱度—(pH值)、硬【度，、全碱度、悬浮物、！。总，磷、正磷分析；【 ？ ？。。    7  【大气中氯化氢—。、氟化物、氮氧化】物分析； 【    — 8  多晶硅【质量指标分析指标分！析包括多晶》硅，的导电类《型、电阻率》、少子寿命、氧【含量、碳《含量、表《面金属杂《质含量、体》金，属杂质含量的分析】； 【    9 — 合成？原料氯化氢》的纯度分《。析，；，。 》     10 】 液：氯中三氯化氮、水含！量，分析 》 5.7.4 ！ 分析检《测室中除化学—分析外？其他分析检测室应】设置在洁净区—。 ：