， ： 5.7  —分析检测 【 5.7】。.1  多晶硅【工厂应？。设置单独《的分析检测室并宜在！。四氯化硅氢》化、还原尾》气，。干法回收、》三废处理站》。等，装置区内设置在线】。分析装置 】 5.7》.，2  分《析检：测室不应与》甲、乙类房间布【置在：同一防火分区内可独！立设置？。于一侧 ！5.7.3  分】。析检：测应包括下列内【容 —     1—  氯硅烷的—含量、杂质、含【碳化合物分析； ！  》   2《  硅粉的含—。量、杂？质、粒度、碳含量分！析，。； 【    3  液】。氩中氧、氮含—量，分析； 《。 》   ？ 4  液氮中氧】含，量的分析氮》气中氢含量、氧含】量和露点分》析； 》     5 ！ 氢气中氧含—量、氮含量、—氯，硅烷含量、露点分】析； 】    6  水中！氯离子(《Cl-)《、，。氟离：子，(F-)、》化学含氧《量(COD)、生】化需氧量(B—OD)、酸》碱，度，(pH值《。)、：硬度、全碱度、【悬浮物、总》磷，、，正磷：分析； 【   《 ，。 7  大气中氯化！氢、氟化物、氮氧】化物分析； — ？     8【  多晶硅质量指】标分析？指，标分析包括多晶硅】的导电类《型、电阻率》、少子寿命》。、氧：含量、碳含量、表面！。金属杂质含量、体】金属杂质含量的分析！； 》。     9【  合？成，原料氯化氢的纯度分！析； 《     1！0  液氯》中三氯化氮、—水含量分析 【 5.7【.4  分析—。。。检测室？中除：化学分析外其他分】析，检，测室应设置在洁【净，区 ？