5.7  ！分，析检测 ！ ：5.7.1  【。多，晶硅工厂应设—。置，单独的分《析检：。测室并宜在四氯【化硅氢化、还原尾】气干法回收、三【废处理站等装置区内！设置在线《分，析装置 — 5.》7.2 《 分：析，检测室？不应与甲《、乙类房间布—置在同一防火分区内！可独立？设置于一侧 】 5.7.3 ！ ，分析检测应包括【下列内容 》  —   1《  氯硅《烷的含量、杂质【、含碳化合物分【。析； 】    2  【。。硅，粉的含？。量、杂质、粒度、碳！含量分析； ！    》 3：  液氩中氧—、氮含量分》析；  ！   4 》 液氮中氧》含量的分析氮气中氢！含量、氧含量和【露点分析； 】 ：   ？  ：5  ？氢，气中：氧含：量、氮含量》、氯硅烷《。含量、露《点分：析；： —。    6  【水中氯离子(Cl】-)、？氟，。。离子(F《-)、化学含氧【。量(COD)、生】化需氧量(》BOD？)、酸碱度(—pH值)、硬度、】全碱度、悬浮物、总！。磷、正磷分》析； 【     7  】大气中氯化》氢、氟化物、氮【氧化物分析；— ？     8】  多晶硅质量指】标分析指标分析包】括多晶硅的导电【类型、电阻率—、少子寿命、氧含量！、碳含量、》表面：。金属杂质含量、体金！属杂质含《量，的分析； 【 ，     9【  合成原料氯【化氢的纯度分析；】   】  10  —液，氯中三氯化》氮、水含量分—析 5】.7.4  —分析检测室中除【化学分析外》其他分析检测室应设！置在洁净区 【