《5.7  分析检测！ ， 《 5.7—。.1  《多晶硅工厂》应设置单独》的分析检测室并宜在！四氯化硅氢化、还】原尾气干法》回收、？三废处理站》等装：置区内设置在—线分析？装置 《 5.—7.2 《 分析检《测室不？应与甲、乙类房间布！置在同一防火分【区内可独立设置【于，一侧： ？。 5.》7.3  分析【。检测应包括下—列内容 《 》。    1  氯硅！烷的含量、杂质【、含碳化合物—分析； 》 ，  《   2 》 硅粉？的含量？、杂质、粒度、碳】含量分析； — ？     3【  ：。液氩中氧、氮含量分！析； 】    4》  液？氮，中氧含量的分析氮气！中氢含量《、氧含量和露—点分析； 》   【。  5 《 氢气中氧含量、氮！含量：、氯硅烷含量、【露点分析； ！     6 】 水中氯离子(Cl！-)：、氟离子(F—-)、化学含—氧量(COD)【、，生化需？氧量(BOD)、酸！碱度(pH值)、】硬度、全碱度—、悬浮？物、总磷、正磷分】析； 《     】7  大气》中氯化氢、氟化物】、氮氧化物》分析； 】 ， ， ，  8 《。 多晶硅质》。量，指标分析指标分【。。析包括多晶》硅，的导电类型》、电阻率、少子寿命！、氧含量、碳含量】、表面金《属杂质含量》、体金属杂》质含量的《分，析； 【 ，   ？ 9：  合？。成原料氯化氢的纯】。度分析； ！    《 10  液—氯中三氯《化氮、？水含量分析 — 5.【7.4  分—析检测室《中，除，化学分析外》其他分析检测—室应设？置在：洁净区 》