5.7【  ：分析检测 【 ？ 5.《7.1  多晶硅工！厂应：设置单独的分—析检测室并》宜在：。四氯化硅氢化、还原！。尾气干法回收、三】废，处理站？等装置区内设置在线！分析装置 】 5.7》.2  《。分析检测《室不应与《甲、乙类房间布【置在同？一防火分区内可独】立设置于一》侧 5】。.7：.3  分析检测】应包：括下列内《容 ？   —  1  氯—硅烷的含量、杂质、！含碳化合物分—析； ？  —。   2  硅粉】的含量、杂质、粒】度，、碳含量《分析； 《 》 ，   3《  液氩中氧—、，氮含量分析； 】 ？     4  】液氮中氧含》量的：分析氮气中氢含量】、氧含量和露点分析！；   ！  5  氢—气中氧含《量、氮？含量、氯硅》烷含量？、露点分《析； 【    《 6  水中氯【离，子(Cl-》)、氟离《子(F？-)、化学》含氧量(COD)】、生化？需，氧量(BOD—)、酸？碱度：(pH值)、硬度、！全碱：度、悬？浮物、总《磷、正磷《。分析； ！    7  大气！中氯化氢、氟—化物、氮氧化物【分析； 《    】 8  多晶硅质量！指标分析指标—分析包括多晶—硅的：导电类型、电阻【率、：少子寿命、》氧含量、碳含—量、表面金属—杂质含量、体金属杂！质含量的分析；【    ！ 9  合成原料氯！化，氢的纯度分析； 】 ？   《  10 》 液氯？中三氯化氮、—水含量分析》 5【。.7.？。4  分析检测室中！除，化学分？析外其他分》析检测室应设置在】洁净区 》