5.7【  分析检测 】 5.】7，.，1  多晶硅工厂应！设置单独的分析【检，测室并宜《在四：氯，化硅氢化、还原尾】气干法回收、三废处！理站等装置区内设】置，在线分析装》置 5】.，7.2  分—析检测室不应与甲】、乙类房间布置【在同一？防火分区内可—独，立，设置于一侧 ！ ：5.7.3》  分析检测—应包括下列内容 】   【  1  》氯硅烷的含量、【杂质、含碳化—合物分析； —   【  2  硅—粉的含量、杂—质、粒度、碳含量分！析； 】    3  液氩！中氧、氮含量—。。分析； 】    《 4  液》氮中氧？含量的分析氮—气中氢含《。量，、氧含？量和露？点分析？； ？ ，     【5  氢气中氧含量！、氮：含量、氯硅烷—含量：、露点分《析； —   《  6  》。水中：氯离：子(C？l-)、氟离子(】F-：)，、化学含氧量(C】OD)、生化需氧】。量(B？OD)、酸》碱度：(pH值)、—硬度、全《碱度、悬浮物、总】磷、正磷分析； 】 ，    【 7  大气—中，氯化氢？、氟化？物、氮？氧化物分析；—    ！ 8  多晶—硅质量指标分析【指，标分析包括多晶【硅，的导电类《型、电阻率、—少子：寿命、？氧含：量，、碳含？量、表面金》属杂质含量、体金】。属杂质含量》的分析； 》 ：     9 ！ 合成原料》氯化氢的《纯度分？析； 】    10  】液氯中三《氯化：氮、水含量分析 】 5.7】.4  《分析检测室中除【化学分析外其他分】析检测室应设置在洁！净区 《