《5.7 分析检测!
,
《
5.7—。.1 《多晶硅工厂》应设置单独》的分析检测室并宜在!四氯化硅氢化、还】原尾气干法》回收、?三废处理站》等装:置区内设置在—线分析?装置
《
5.—7.2 《 分析检《测室不?应与甲、乙类房间布!置在同一防火分【区内可独立设置【于,一侧:
?。
5.》7.3 分析【。检测应包括下—列内容
《
》。 1 氯硅!烷的含量、杂质【、含碳化合物—分析;
》
,
《 2 》 硅粉?的含量?、杂质、粒度、碳】含量分析;
—
?
3【 :。液氩中氧、氮含量分!析;
】 4》 液?氮,中氧含量的分析氮气!中氢含量《、氧含量和露—点分析;
》
【。 5 《 氢气中氧含量、氮!含量:、氯硅烷含量、【露点分析;
!
6 】 水中氯离子(Cl!-):、氟离子(F—-)、化学含—氧量(COD)【、,生化需?氧量(BOD)、酸!碱度(pH值)、】硬度、全碱度—、悬浮?物、总磷、正磷分】析;
《
】7 大气》中氯化氢、氟化物】、氮氧化物》分析;
】
, , , 8 《。 多晶硅质》。量,指标分析指标分【。。析包括多晶》硅,的导电类型》、电阻率、少子寿命!、氧含量、碳含量】、表面金《属杂质含量》、体金属杂》质含量的《分,析;
【
, ? 9: 合?。成原料氯化氢的纯】。度分析;
!
《 10 液—氯中三氯《化氮、?水含量分析
—
5.【7.4 分—析检测室《中,除,化学分析外》其他分析检测—室应设?置在:洁净区
》