， 5《  工艺设计 ！ ： 5.【1  一般规定 ！ 《 5.1》.1  三氯—氢硅氢还原法多晶硅！生产工艺《流程的设计》和，工艺设备的选型【应符合下列规—定 —     1—  ：应对建设规模、产品！方，。案、建厂条件、原料！。。与燃料性能及价格、！能源消耗、经济效】益等进行技术经济比！较后确定《工艺流程《和，主要设备《； 《   》  2  应选【择符合国家制—造标准、《节，能环保、先》进高效、安全—可靠的工艺设备； ！。 ？  ？   ？3 ： 应采用《符合循环《。经济要求的新技术】、新工艺、新—设备：； 【。    《4  物料平衡【和，能量平衡《应根据选定的工艺】流程进？行计算； ！。。。    《 5  不》。。同工序？。的系：统设计、设》。备选型与配备—应根据每个工序和单！体，设备的运转效率【及中间产品的—操作需求综合平【衡后确定并应保【证生产系《统的操？作弹性和余量同时应！满足生产负》荷变化和生产安全】的要求； 】     —6  ？在，高海拔、高寒和湿热！地区建厂应》根据海拔高度对工艺！计算：、，设备选型进行—修正所选用的设备应！满足其特殊环境要求！ ？ 5.1.2】  工艺布置应【符合：下列规定《。    ！ 1  总》平，面，布，置，应满：。足工艺流《程的要求宜留—。有发展空间； 】  》 ，  2 《 ，工艺车间宜根—据工艺流程和设备选！型确定并应在平【面和空间上满足施】工、安？装、操作、》维护：、监：测和通行的要求 】。。 ， ？ 5.1.3 【。 工艺流程》。选择、？。设备选型及工艺布置！应根据多晶硅生【产主要物料的—易燃、易爆》、，有毒及火灾危险等】危害特性确定 ！。 ？5，.1.？。4  寒冷地区【的管路系统》应，采取：防冻措施 】 5.1》.5  新》建、改建或扩—建工厂？内各生？产单元的蒸汽、电】力及：。综，合，能耗总额不应—大于现行国家标【准多晶硅企业—单位产品能》源消耗限额GB 】29：4，47中规《定的限？额准入值 ！ 5.1《.6  工》。艺生产装《置应设有事》故紧急排放设施工艺！废，气应根据介》质种类、粉尘含量和！危险：性单独或全厂—分类：、集中回收》处，理 5.！1.7  》工艺设计范围—应包括三氯氢—硅合成和四氯—化硅氢化、氯硅烷提！纯、三氯《氢硅氢还《。原、还原尾气—干法回？收、多？晶硅产品后处—理、二氯二》氢硅(D《CS)反歧化等生】产车间或单元—。以及相应的工艺【辅助设？施 《。 5《.1：.8  工艺生产】系统内？的设备、管道的【材质以及管阀件【应，根据物料性质和工况！条件选取并》应采取相《应，的安全防《护措施 》 ？ 5.1.9—  工艺《主要生产房间洁【净度的设《计要求宜《符合本规范附录C的！规定 《