《2，  术    语】 ？ 》2，.0.1  三氯】氢，硅氢还原法》    t》richloro】si：lane hydr！ogen redu！c-tion p】。rocess ！     【经过不断完》善的多？晶硅生产主》流工：艺是将高纯三—氯氢硅与高纯氢【气按一？定比例通入还原炉】发生还原或热分【解，反应：在1050℃左右的！高纯硅芯基体表【面上：。沉，积生长多晶硅—；同：时具备回收、利用】生产过程中伴—随产生的氢气、【氯化氢、四》氯化硅等副产物以及！副产热？能最大限《。度地实现“物料【内部循环、能量综合！利用”的多晶硅生】产工艺？ 2【.0.？2 ：。 多晶硅  pol！ysil《ic：on： 《 ，     单质硅的！一种形态硅原子【以晶格形《态排列成许多晶【核晶核长成晶面取】向不同的晶粒—晶粒组合结晶成【多晶硅根据用—途可：分为太阳能级和【半导：体级 》 ： 2.？。0.3  还原尾气！干法回收《  ：  reduc【tion o—ff-gas re！cove《ry by dry！ me？thod《    ！ 一种相对于—传统湿法回收尾【气工：艺的方法利》用尾气中各组分物理！化学性质《的差异采用冷凝、】吸收、解析、吸【附等方法将其—逐一分开回收、提纯！再，重新：返回生产系》统循环利用 】 ：。 2.0.4 【 ，四，氯，化，硅氢化    si！。。。。lico《n tetra【c，hlori》de hydro】。ge：nation ！     一种！。处理多晶《硅副产物四氯—化硅的方法与氢【反应将其转换成三】氯氢硅 【 2.0》.5  三氯—。氢硅合成    】t，richlor【osilane s！ynth《esis 】     一【种制取三氯氢硅【的方：法将硅？粉和氯化氢通入有】一定温度的反应【器内通过化学—反，应生成三《氯氢硅 ！2.0.6  氯硅！。烷精馏  》 ， ，c，hlorosila！ne di》stillati】o，n —。   ？  一？种通过？气液交换实现—传质、？。传，热使氯硅烷混合物】得到：高纯度分离》的方：法 ： 2.0】。.7  液氯汽【化  liquid！。 c：hlo？ri：n，e vapori】zation 】   —  一种将液氯加热！蒸发成氯气》的方法 】 2.0.8 【 氯：化，氢，合成：  ：hydrog—en c《hloride s！ynthesis ！ ：  《   通过化—学反应将氢气、氯气！生成氯化氢气—体的方法 — 《2.0.9  【盐酸：解析： ， hy？。droch》loric —acid st【ripp《ing 】     》一种将氯《化氢从盐酸中解【析出来的方法— 2【.，0.10《  还原炉 — ，  r？。。ed：uction— reactor】。   】  一种生产棒状】多晶硅的专用设【备 ： 》2，.0.1《1  二氯二氢硅】反歧化    【in：verse d【isp？r，oporti—onati》ng o《f di-ch【lorosil【ane ！    一》种回：收利用二氯》二氢硅的方法—通过化学《反应将二氯》二氢硅与四氯化硅转！化成三氯氢》。硅 【2，。.0.12》  多晶硅》。后处理  p—olysili【。c，on ？han？dling ！     根据】客户和产品分析检】测的要求多》晶硅出炉《。后进一步《处理的统称》包括切除头尾、钻】棒、滚圆、》破碎：、分拣、《称重、腐蚀、—清洗：、干燥及包装等【 ： ： ：2.0.13 【 氯硅烷 》 chlor—osil《a，ne — ，  ：   硅烷(Si】H，4)中的氢原子部分！或全部被氯原子【取代后的《物质统称通常—包括四氯《化硅(Si》Cl4)、三—氯氢硅？(SiHCl—。。3)、二《氯二氢硅(》。S，iH：2Cl2)、一氯】三氢硅(Si—H3Cl)等 】 ： ：2.0？.14  》还原尾气  re】duct《ion off【-gas 【  《   还原炉内【生成：多晶硅的《反应：过程：中未参？与反应的原》料，和，生成的副产物—。。的混合气体主—要包括氢《气、气态氯》硅烷：及，氯化：。氢等 》 ： 2.0.15 】 防爆防护墙 【 expl》osi？on-pr》oof prot】ectiv》e ：wall 》 ，   —  具有一定防爆】能，力的隔墙能防—止爆炸产《生的飞散物对—设施及人员的伤害】 ：