2 【术 ?。 语
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2—.0:.1 三氯氢【硅氢还原法 】。 trichlo】ro:silane h】ydr?ogen《 re?d,uc-?ti:on proc【ess
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经】过不断完《善的多?。晶硅生产主流工艺】是将高?纯三氯氢硅与—高纯氢气按一—定比例?通入:还原炉发生》还原或热分》。解反:应在1050℃左右!的高纯硅芯基体【表,面上沉积生长多晶】硅;同时具备回收、!利用生产过程—中伴:随,产生的氢气》、氯:化氢、四氯化硅【等副产物以及—副产热能最大限【度地实现“物—料内部循环、能量综!合利用”《的多晶硅生产工艺
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2.0.2【 :多晶硅 poly!silicon
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【 单:质硅的一种》。形态硅原《子以晶格形态排列】成许:多晶核晶核长—成晶面取向不同的】。晶粒晶粒组》合结晶成多》晶硅根据用途可分为!太阳能级《和半导?。体级
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2.【0.3 还原尾气!干,法回收? : red》。uction— off-gas】 r:ec:overy》 by dry 】metho》d
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一种相】对于:传,统湿法回收尾—气,工,艺的方法利用—尾气中各组分—物理化学性质的差异!采,用冷凝、吸收、解】析、吸附等方—法,将其逐一《分开回收、》提纯再重《新返回生产系统循环!利用
2!.0.4 四【氯化硅氢化 !sil?icon tet】rachl》oride》 hydro—gena《tion《
— 一》。种,处理多晶硅副产物四!氯化硅的方》法与氢反应将其转换!成三氯氢硅
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2.【0.:5 三氯氢—硅合成 tr!ic:。hl:o,ro:sil?ane synth!esis
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, ? 一种制取三氯【氢硅的?方法将硅粉和—。氯化氢通入有—一定:。温度的反应器—内通过化学反—应生成三氯氢硅
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2.—0.6 氯硅【。。烷精馏 ch!lorosilan!e distill!a,ti:on
】 一种通过】气液:交换:实现传质、传热使氯!硅烷混合物》得到高纯度分离的】方,法
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2.?0,.7 液氯汽【化 li》qu:id: chlorin】e vapor【izati》on
】 一种将液】氯加热蒸发成—氯气的方法
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2—.0.8 氯【化氢合?成 hy》。d,ro:ge:n ch《loride 【synthes【is
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》 通》。过化学反应将—氢气、氯气》生成氯化氢气体【。的方法?
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《2,.,0.9 《 盐酸解析 【hy:dr:ochl《。or:ic ac》i,d strip【ping
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》 一》种将氯化氢从盐酸中!解析出来的方法
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2.0.!10 《还,原炉 r【。eduction】 reactor
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【 :一种生产棒状—多晶硅的专用设备】
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2.》0.:11 二氯二【氢硅:反歧化 》 :i,nv:erse disp!roportion!ating o【f d?i-ch《l,o,rosilan【。e
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》 一种回收利用二】氯,二氢硅的方法通过化!学,反应将二氯二—氢,硅与:四氯化硅《。转化成三氯氢硅
!
2》.0.12 — 多晶硅后处理【 , polysili!con handl!ing
! ? 根据客户和产品分!析检测?的要求多晶硅出炉】后进一步处》理的统称包括切除头!尾、钻棒《、滚圆?、破碎?、分拣、称》重、腐蚀、清—洗、干燥及包装【等
2.!0.:1,3 氯硅烷 【 chloro【si:lane《
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— 硅烷(》SiH4《)中的氢原子部分或!全部被氯原子—取,代后的物质统称通常!包括四?氯,化硅(SiC—l4)?、三:氯氢:硅(SiHCl【3)、二氯二氢【硅(SiH2—Cl2)、一氯【三氢硅(SiH【3Cl?),等
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2.0.【14 ? 还原尾气 — reduc—tion of【f,-gas
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《 还原炉内生成!。多晶硅的反应过程】中未参与反》应的原料和生—成的副?产物的混合气体主】要包括氢气》、气态氯《硅烷:及氯化?。。氢等:
2【.,0.15《 防爆防》护,墙 ex》plosi》。on-proof !protectiv!e :wall
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具】有,一定防爆能力的【隔墙:能防止爆炸产生的飞!。散,物对设施及人员的伤!害,
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