2  【术  ？。  语 — 2—.0：.1  三氯氢【硅氢还原法   】。 trichlo】ro：silane h】ydr？ogen《 re？d，uc-？ti：on proc【ess —     经】过不断完《善的多？。晶硅生产主流工艺】是将高？纯三氯氢硅与—高纯氢气按一—定比例？通入：还原炉发生》还原或热分》。解反：应在1050℃左右！的高纯硅芯基体【表，面上沉积生长多晶】硅；同时具备回收、！利用生产过程—中伴：随，产生的氢气》、氯：化氢、四氯化硅【等副产物以及—副产热能最大限【度地实现“物—料内部循环、能量综！合利用”《的多晶硅生产工艺 ！ ：。 ， 2.0.2【  ：多晶硅  poly！silicon ！    【 单：质硅的一种》。形态硅原《子以晶格形态排列】成许：多晶核晶核长—成晶面取向不同的】。晶粒晶粒组》合结晶成多》晶硅根据用途可分为！太阳能级《和半导？。体级 ？ 2.【0.3  还原尾气！干，法回收？  ：  red》。uction— off-gas】 r：ec：overy》 by dry 】metho》d —     一种相】对于：传，统湿法回收尾—气，工，艺的方法利用—尾气中各组分—物理化学性质的差异！采，用冷凝、吸收、解】析、吸附等方—法，将其逐一《分开回收、》提纯再重《新返回生产系统循环！利用 2！.0.4  四【氯化硅氢化    ！sil？icon tet】rachl》oride》 hydro—gena《tion《 —    一》。种，处理多晶硅副产物四！氯化硅的方》法与氢反应将其转换！成三氯氢硅 — 2.【0.：5  三氯氢—硅合成    tr！ic：。hl：o，ro：sil？ane synth！esis ！ ，   ？ 一种制取三氯【氢硅的？方法将硅粉和—。氯化氢通入有—一定：。温度的反应器—内通过化学反—应生成三氯氢硅 ！ 2.—0.6  氯硅【。。烷精馏    ch！lorosilan！e distill！a，ti：on 】    一种通过】气液：交换：实现传质、传热使氯！硅烷混合物》得到高纯度分离的】方，法 — 2.？0，.7  液氯汽【化  li》qu：id： chlorin】e vapor【izati》on 】    一种将液】氯加热蒸发成—氯气的方法 —。 2—.0.8  氯【化氢合？成  hy》。d，ro：ge：n ch《loride 【synthes【is ？ 》    通》。过化学反应将—氢气、氯气》生成氯化氢气体【。的方法？ ： 《2，.，0.9 《 盐酸解析  【hy：dr：ochl《。or：ic ac》i，d strip【ping 》 》    一》种将氯化氢从盐酸中！解析出来的方法 】 2.0.！10  《还，原炉    r【。eduction】 reactor ！   【  ：一种生产棒状—多晶硅的专用设备】 ： ， 2.》0.：11  二氯二【氢硅：反歧化  》  ：i，nv：erse disp！roportion！ating o【f d？i-ch《l，o，rosilan【。e 》。    》 一种回收利用二】氯，二氢硅的方法通过化！学，反应将二氯二—氢，硅与：四氯化硅《。转化成三氯氢硅 ！ 2》.0.12 — 多晶硅后处理【 ， polysili！con handl！ing ！   ？ 根据客户和产品分！析检测？的要求多晶硅出炉】后进一步处》理的统称包括切除头！尾、钻棒《、滚圆？、破碎？、分拣、称》重、腐蚀、清—洗、干燥及包装【等 2.！0.：1，3  氯硅烷 【 chloro【si：lane《 ：   —  硅烷(》SiH4《)中的氢原子部分或！全部被氯原子—取，代后的物质统称通常！包括四？氯，化硅(SiC—l4)？、三：氯氢：硅(SiHCl【3)、二氯二氢【硅(SiH2—Cl2)、一氯【三氢硅(SiH【3Cl？)，等 《 2.0.【14 ？ 还原尾气 — reduc—tion of【f，-gas 【  《   还原炉内生成！。多晶硅的反应过程】中未参与反》应的原料和生—成的副？产物的混合气体主】要包括氢气》、气态氯《硅烷：及氯化？。。氢等： 2【.，0.15《  防爆防》护，墙  ex》plosi》。on-proof ！protectiv！e ：wall 【     具】有，一定防爆能力的【隔墙：能防止爆炸产生的飞！。散，物对设施及人员的伤！害， ：