。 4.5 】 半导？。体材料制备 ！ ？ 4.5.1—  本条《对，硅、锗？材料制备《废气：治理作出《要求 》    — 3  《高纯三氯氢硅还原】尾气中主要含有氢气！、氯化氢和氯硅烷】还原尾？气干法回收技—术是：利用还原尾气中【各种：。组分物理性能(露点！。、沸点)上的—差，异通过加压冷凝、】吸收-脱吸、—活性炭？。吸附等物《理手段把尾气中的】氢气、？氯化氢、三》氯氢硅、二》氯二：氢硅、四氯》化硅：逐一分开分别返【回主工艺中四氯化硅！通过氯化转变成【的三氯氢硅也返回系！统使用由于还原尾】气干法回收系—统完全密闭不外【排尾气分离》回收的上《述副：产物全？部返：回工艺？。系统使用从而达【。。。到了回收副产物、变！废为用？的目的本规范推荐采！用还原？尾气干？法回收技术 【 ， ，。     —5 ： 硅粉仓、锗精矿】仓进：、出料产生的—粉尘：应，设计高效布袋除尘器！净化回？。收的：尘，粉即硅？粉、锗？精，矿粉应返回原—料制备车间》 ： ，     【6  氧《。化锗制？备过程产《生的尾气中》含有氯？化氢：、氯：气应设？计氢氧化钠》。碱液一级淋洗净化】还原锗锭、区—熔锗锭腐蚀》。过程：产生含氟化》氢、氮氧化物的废气！应设计氢氧化钠【碱液两级淋洗才能使！氟，化，物、氮氧《。化物达标排放 【    】 7  单晶—。硅、单晶锗酸洗过】程产生含氟化氢【、氮氧化物的废【气也应设《。置碱液淋《洗装置净化 — 4—.5.2  合成砷！化镓时发《生石英管爆裂的【概率：很低持续时间也很短！(最长5min)】这种事故发》生的时间一般在【合成炉升温的前30！min和《降温的后《30min由于【炉内：温度高于400℃】。砷会迅速挥》发产生三氧》化，二砷剧毒气》体因：此必须设置事—故排：放的含砷废气—处理设施妥善—处理事故排放的【含砷：废气三氧《化二砷气体是—剧毒气体因此将【本条设为强制—性条文必须严格执】行 ： ，