《。6.2 铜箔【。制备
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6.2.》1 溶铜》工艺主?要分为常压溶铜法】和高压?溶,铜法
! 常压溶—铜法是在标准大【气压下使固态铜溶】解的过程设备简单、!紧凑占地面积—小操作和维护—方便但溶铜速—度比高压溶》。。铜法低
!。 高》压溶铜法是在较高压!力下进行《固态铜的溶解—其特点?是,铜的溶解速》度快效率《。高但设备复杂投资】较,大一般很《少采用?
6.】2.2 》溶液制备设备与硫】酸铜溶液接》触且温度较高—要求溶液制备—。设备具有耐酸、耐热!性能剪?切后的阴极铜—块直接加入溶—铜罐中要求溶铜罐】具有一?。定的抗?冲击性
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6.》2.3 溶液进】入生箔?机,之前进行多级过【滤除去溶《。液,中的固体颗粒状物】。质保证生箔质量【
6.】2.4 溶液【的铜离子浓度、硫】酸浓度、温度、流】速、添加剂》、电流?密度等工艺参—数应采用数据传【输,系统(DCS)进】。行集中?控制便?于及时发现偏差并】。调整:
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6.2.】5 采用大直【径阴极辊可增加辊子!浸,入,电解槽内的面积【提高生箔机》。的生产能力在线【抛光有?利于提高产》品质量和《生产效率《调节生箔机速度【可在不改变其—他条件的情况—下生产不同厚度的生!箔卷:取张:力控制系《统可确保在卷取过】。程中铜箔不》发生褶皱同时—可以:将,铜箔紧密卷取去除】铜箔卷层《间的滞留《空气
6!.2:.6 可溶—性,阳极易增加电解液】中的金?。。属杂质含量影—响铜箔质量增—加更换电解液的频次!可溶:性阳极易损耗使阳】极与阴极间的距离】增大进而导致槽电压!。增加能?耗增加
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