， ？6  工艺》设计 ？ 【6.0.1  电】磁波：暗室：的工艺区《划应满足暗室体【型尺：寸、暗室与功能【性房间之《间的相？对位置要求 【 ： 6.0.—2  ？暗室应？与测控间《、设备间、试验【。间等相邻《 ， 6—.0.3 》 暗室开门位置【不宜在主反射—区 《 6.0—.4  《暗室布局《宜自：建筑的底层开始【 ： 6.0【。.，5  暗室体型宜】选择内壁《对电磁波反射—。路径既少又》弱，、试：验操作安全可靠、】结构简单的体型 ！ 6.0【.6  暗室内有】两套或以上》功，能测：试系：统时其体型和尺寸除！应满足各测试—系，统的测量技术要求外！还应满？足系统间相互—耦合：的，隔离要求 — 6.0【.7  长方体暗】室尺寸？应符合下列规定 】 》    1 — ，。内，壁长度L应》按下式计《算 L≥！L1＋L2＋L3】＋L4    【    （》6.：0.7-1） ！     【式中L1测》量距离（m）按表6！.0.7计算；【   】     》  ： L：2暗：。。室内测量系统设备】和受试设备在—测试中沿《暗室测量纵轴—方向所？占据的最大尺寸之和！（m：）； 【        】   L《3为满？足运：输、维护及》电磁辐射性能要求】沿测量？纵轴方向增加—的长度； 【 ？。         ！ L4暗室两—端墙壁吸波材料【沿测量纵《轴方向的高度和（】m） — ， 表6.0.7  ！L1计算  ！ ：。 》  ：   2 》。 内：壁宽度W《。应按下式计算 】 W＝—W1＋W2＋W3】    《     （6【.0.？7-2）《 《  ？   式《中W内壁宽度（m】）不宜小《于0.87L1； ！ 》        】  ：W，1暗室内《。测量：系统设备和受—试设备在测试中沿暗！室，。宽度方？向所占据《的最大尺寸（m）】；  】。      —   W《2满足运输、—维护和辐射特性需要！沿暗室宽度》方向的空间尺寸（m！）； 【 ，    《      W3】暗室两？。侧墙壁吸《波材料？高度的总和（m【。） 《 ？    3》  内壁高度—。H应按下《式计算并应满—足，辐射：特性要求《 H＝】H1＋H《2＋H3    】 ，   ？ （6.0》.7-3）》 ？     【式中H内壁高度（m！）对：于1-1、》2-1？、2-2、》3，。-2类暗室不—宜小于0.8—7L1； 【 ， ，      —   ？  H1测量系统设！备或受试设备的最】。大高：度，。（，m）； 】     》      —H，。2设：备上部？安装空？间尺寸（m》）； 】     》。     》H3暗室顶部吸【波材料高度（m）】 6.0！。.8  锥体暗室尺！寸设计应符》合下列规定 ！     1 】 暗室静区尺寸不应！小于待？测，天线：尺寸： ，    】 2：  ：暗室：长方体？部分：宽度和高度》应，相等不应小于暗【室静区尺寸的3倍】 ， 》    3  暗室！长方体部分长度【不应：。小于暗室宽度和主墙！吸波材料高度—的，。和 — ，    4  锥】。顶角：可选取20°—～，22°？   】 ， 5  根》据本条第1款～第4！款设计的锥形暗【室，测量距离《。L1应？满足本规范》表，6.0.7的远【场条件 ！    6 —。 ，6GHz及以上频段！的锥形暗《室应符合自》由，空间电波传》播幅度与相位的均】匀性要求《 《 ， ，6.0.9》  正多边柱—体暗室尺《寸，。应符合下列规—定， ： ：    》 1：  ：内壁内切圆半径【R应按下式计算 】 ？ ：R≥L1＋R2【＋R3？＋R4 《   ？ ， （6.0.9-1！。） 【 ，   式中L1测】量，距离按本规范表6.！0.7计算对于1】-1、2-1、3-！2类远场测量—。暗室当天线口面内】电磁波相位》偏差要求小》于或等于λ/8【时K值取2对—于，2-2类暗》室K值可小》于2； —     【   ？   R2》测量系统设备与受】试设备沿半径—方向的长度之—和； —       】   ？。。。 R3满足运输【。、维护和辐》射特性需要》在半径方向的—。空，间尺寸；《 ， 《  ：         ！R，4吸波材《料，的总：高度 》   》  2  高—度应按本规范式（】6.0.7-3）计！算 【6.0？.10  》雷达截面紧》缩场微波暗室（3-！1类暗室《）尺：寸应与要《求，的静区尺《寸、测量系统布局、！操作维护空》。。间相协调匹》。配 ：。。 ？。 6.《0.：1，1  除本规—范表4.0.—1中：1-2、《1-3？、2-？2、3-1、3【-2、4《-1：类，暗室测量系统在高度！方向布局另有要【求外其他暗室内部测！量系统应对称布局 ！ 6.【0.12  —暗室静区范围尺寸应！大于受试设备试验状！。态中所覆盖的区域 ！ ：