《6  工艺设计 ！ 6【.，0.1  电—磁波暗室的工艺区划！应满足？暗室体型《尺寸、暗室与功能性！房间之？间，的相对位置要求【。 《 6？.0.2  暗室应！。与测控间、设备间】、，试验间等相》邻 6】.0.？3  暗室开门位置！不宜在主反射区 】 ？ 6.0.—4  暗《室布局宜自建筑的】底层开始 》。 6.【0.5  暗—室体型宜选择内壁对！电磁波？反射：。。路径：既少又弱《、，试验：操作安全可靠、结构！简单的体型》 —6.0.6  【暗室内有两套—或以上功能测试系统！。时其：体型和尺寸除—应满足各测试—系统的测《量技术要求外—。还，。。应满足系统间相互】耦合的隔离要求【。 《 6.0》.7  长方体暗室！尺寸应符合下列规】定 》   《  1  内壁长】度L应按下式—计算： ？ L≥L1＋】L2＋L3＋L4】   ？。   ？  （6.0.7-！1） 】   ？ ，式中L1测量—距离（m）按—表6.0《.7计算； —     ！    《  ：。L2暗室内测量系统！设备：和，受试设备在测试中沿！暗室：测量纵轴《方向所占《据的最大尺寸—之和（m）； 【     ！      —。L3为？满足运输、维护及】电磁：辐射性能要求沿测】量纵轴方向增加的】长度； 【       】 ，   L4暗—室两端墙壁吸波【材，料沿：测量纵轴方向的【高度和（m） 【 ， ？。 表6.0.7 】 L1计算  ！ 《 ？  ？   2  内壁宽！度W应按《。下式计？算 — W＝？W1＋W2＋W3 ！   ？     》（6.0.7-2）！ ， ：     【式中W内壁宽度【（m）不《宜小于0.》87L1； 】 ：     》 ，    《 ，W，1暗室内测量系统设！备和：受试设备《在测试？。中沿暗室宽度—方向所占据的最大】。尺，寸（m）； —。     ！      W2】满足运输、维护和】辐射特性《需，要沿暗室《宽，度方：向，的，。空间尺寸《（m）； ！   ？        W！3暗室两《。侧墙壁吸波材料【高度的总和（m）】 ：     】3  内壁高度【H应：。。按，。下式计算并应满足】辐射特性要求— H【＝H1＋H2＋H3！         ！（6.0.》7-3） 【     【式中H内壁》高度（m）对于【1-1？。、，2-1、2-2、3！-2：。类暗室不宜小于0.！87L1； 】      】    《 H1测量系统设备！或，受试：设备的最大高度（】m）：； ： 《 ，  ：     》   H2设备【上部安？装空间尺寸（m）；！ 《  ？      —   H《3暗：。室顶部吸波材料高】度，（m） 》 ？ 6.0.8—  锥体暗室尺【寸设计应符合—下列规定 【 ？    1 — 暗室静区尺寸【不应小？于待：测天：线尺寸 —。    — 2  《暗室长方体部分宽度！和高度应相等—不应小于暗室—静，区尺寸的3倍— 》。     3  暗！室长方体部分长度不！应，小于暗室宽度—和主墙吸波》材料高度的》和 》     4【  锥顶角可选取】20°～22° ！ ？    《 5  根据本条】第1款～第》。4款设计的锥—形暗室测量》距，离L1应满》足本规范表》6.：0.7的远》场，条件： 《     —6 ： 6GHz》及以上频段》的锥形？暗室应符合自由【空间电波传》。播幅度？与相位的均匀性【要求 】6.0.9》 ， 正多边柱体暗【。室，尺寸应符合》下列规？定 ？ ？     1—  内壁内切圆半】径R应按下式计算】 R≥】。L，1＋R2＋R3＋R！。。4      【（6.0《.9-1） 】     式】中，L1测量距离按本规！范表6？。.0：.7计算《对于：1-1、2-1【、3-？2类远场测》量暗室当天线口面】内电：磁，波相位？偏差要求《小于或等《于λ/？8时K值取2—对，于2-2类暗室K】值可小于2； ！      】     R2【测量系？统设备与受试—设备沿半径》方，向的长度之和；【 《        ！   R3》满足：。运输、维护和—辐射特性需要在半径！方向的空间尺寸【； —。   ？        R！。4吸波材料的—总高：度 ？。  》   2  高度】应按本规范式（6】.0.7-》3）计算 — 6.—。0.1？0  雷达截面紧缩！场微波暗室（3-1！类暗室？）尺：。寸应与？要求的静区尺—寸、：测量系统《布局：、操作维《护空间相协调匹配 ！ 6—.0：.11 《 除本？规范表4.0—.1中1-2、【1-：3、2？-，2、3-1、3【-2：、4-1类暗—室测量？系统在？高，度方向布局另—有要求？外，其他暗室内部测量】系统：应对称布《局 6】。.0.12  【暗室静区范围—尺寸应大于》受试设备试验—状态中所覆盖—的区域  —