《6 : 工艺设计
】
6.0】.1 电磁波暗】室的工?艺区划应满足暗室体!型尺寸、《暗室与功能性—。房间之间的相对位】置要:求
《
?6.0.2 暗室!应与测控间》、设:备间、试验》间,等相邻
】
,6.0.3 暗】。。室开门位《置不宜在主》反射区
【
6.0.4 !。暗室布局宜自建【筑的底层《开始
】6.:。0.5 暗室体】型宜选择《内,壁对电磁波反射路】径既少又弱、—试验操作安全可靠】、结构简单的体型】。
6.0!.6: 暗室内有两套】。或以上功能》测试系统《时其:体型和尺《寸除应满《足各测试系统的【测量技术要求外【还应满足《系统:间相互耦合》的,隔离要求
】
6.《0.:7 长方体—。暗室尺寸《应符合下列规定
!
》 1 内壁长!度L应按下式计算
!
《
L≥L《1+L2《+L3?+L4? (!6.0?.7-1)
!。
式中】L1测量距离(【m,)按表?6.0.7计算;
!
?
【 》L2暗?室内测量系统设【。备和受试设备在【测试中沿暗室测量】纵轴:方向:所占据?的最大尺《寸之和?(m:);
】 》。 L3【为满足运输、维护及!电,磁,辐射性能要求沿测量!纵轴方向增加的【。。长度;
【
《 》 , L4暗室—两端墙?壁吸波材料沿—测,量纵轴?方向的?高度:和(m)
!
表6.0.—7 L1计算【
】
,
》 , :。2 内壁宽度W应!按下式计算》
,。
《
W=W1+W2】。+W:3 : 】(6.?。0.7-《2):
! 式中W内壁—宽度:(m)不宜小—于0.87L—1;
】 — ?。 W1暗室内测量】系统设备和》受试设备在测—试中沿暗《。。室宽度方向所占据的!最大尺寸(》m);
【
《。。 : ? W《2满足运输、—维护和辐射特性需】要沿暗?室宽度?方向的空间尺寸(】m);
《。
:
《 ? W【3暗:室两侧墙壁吸波材料!高度的总和(m)
!
》 ? 3 ? 内壁高度H—应按下式计》算并:应满足辐《射特性要求
】
?。H=:H1:+H2?+H3 》 》 (?6.:0.7-3)
【
:
【式中H内壁高度(m!)对于1-1、2】-1、2-》2、:3-2类《暗室不宜小》于0.87L1;】
?
,
,
: 【。 H1测量—系统:设,备或受试设备—的最大高《度(m);
—
,
! H2设】备上部安《装空间?尺,寸(m);
—
,
《 【。 ,。 H3暗室顶部吸!波,材料高度(m)
!
6.—0.8 锥体【。暗,室尺寸设计应符合下!列规定?
,
— : 1 暗室静区】尺寸不应《小于:待测天线尺寸—
:
?
2— 暗室长方体【部,分,宽度和高度应相【等,不应小?于,暗,室静区尺寸的3倍】
《
《 3 暗—室,。长,方体部分长度不应】小于暗室宽度和主】墙吸波材料高—度的和
》
?
4— :锥顶角可选取—20°~22°【
】 :5 : 根据本条》第1款~第4款【设计的?锥形暗室《测,量距离?L1应?满足本?规范表6.0.7的!远场条件
】
《 6 6GH】z及:以上频段的锥—形暗室应符合自由空!间电波?传播幅度与》相位的均匀性要求
!
》6.0.《9 : 正多边柱体—暗室尺寸应符—合下列规《。定
【 1 内壁!。内切圆半《径R应按《下式计算《
R≥L!1+R2+R3+】R,4 — (6.《0.9-《1)
! : 式:中L1测量距离【按本规范表6—.0:。.7计?算对于1-1、2】-1、?3-2类远场测【量暗室当天线—口面内电磁波相位偏!。差要求小于或等【于λ/?8时K值取2对【于2-2类暗室K值!可小于2;
!。
! R《2测量系《统设备与《受试:设备沿半径方向的】长度之和《;
《
》 R!。3满足运输、维护和!辐射特性需》要在半径方向的空】间尺寸;
—
【 : R4【吸波材料的》总高度?
—。 , 2《 , 高度应《按本规范式》(6.0《.7-3)计—算
》。
:6.0.10— 雷?达截面紧缩》场微波暗《室(3-1类暗【室)尺寸应与要求】的静区尺《寸、测量系统布局】、操作维护空间相】协调匹配
》
6.0】.11 除本规】范表:4.0.1中1【。。-2、?。。。1-3、《2-2、3-—1、3-《2、4-1类暗室】测量系?。统在:高度方向布局另有】要求:。外其他暗室内部【测量系统应对称布局!
6.0!.12 暗室静】区范:围尺:寸应大?于受:试设备试验状态中所!覆盖的区《域 :
: