《6 ： 工艺设计 】 6.0】.1  电磁波暗】室的工？艺区划应满足暗室体！型尺寸、《暗室与功能性—。房间之间的相对位】置要：求 《 ？6.0.2  暗室！应与测控间》、设：备间、试验》间，等相邻 】 ，6.0.3  暗】。。室开门位《置不宜在主》反射区 【 6.0.4  ！。暗室布局宜自建【筑的底层《开始 】6.：。0.5  暗室体】型宜选择《内，壁对电磁波反射路】径既少又弱、—试验操作安全可靠】、结构简单的体型】。 6.0！.6：  暗室内有两套】。或以上功能》测试系统《时其：体型和尺《寸除应满《足各测试系统的【测量技术要求外【还应满足《系统：间相互耦合》的，隔离要求 】 6.《0.：7  长方体—。暗室尺寸《应符合下列规定 ！  》   1  内壁长！度L应按下式计算 ！ 《 L≥L《1＋L2《＋L3？＋L4？        （！6.0？.7-1） ！。     式中】L1测量距离（【m，）按表？6.0.7计算； ！ ？      【     》L2暗？室内测量系统设【。备和受试设备在【测试中沿暗室测量】纵轴：方向：所占据？的最大尺《寸之和？（m：）； 】     》。     L3【为满足运输、维护及！电，磁，辐射性能要求沿测量！纵轴方向增加的【。。长度； 【   《     》 ，  L4暗室—两端墙？壁吸波材料沿—测，量纵轴？方向的？高度：和（m） ！ 表6.0.—7  L1计算【  】 ，  》 ，  ：。2  内壁宽度W应！按下式计算》 ，。 《 W＝W1＋W2】。＋W：3 ：        】（6.？。0.7-《2）：    ！ 式中W内壁—宽度：（m）不宜小—于0.87L—1； 】      —   ？。 W1暗室内测量】系统设备和》受试设备在测—试中沿暗《。。室宽度方向所占据的！最大尺寸（》m）； 【   《。。  ：   ？   W《2满足运输、—维护和辐射特性需】要沿暗？室宽度？方向的空间尺寸（】m）； 《。 ：  《   ？      W【3暗：室两侧墙壁吸波材料！高度的总和（m） ！ 》   ？ 3 ？ 内壁高度H—应按下式计》算并：应满足辐《射特性要求 】 ？。H＝：H1：＋H2？＋H3  》     》  （？6.：0.7-3） 【 ：     【式中H内壁高度（m！）对于1-1、2】-1、2-》2、：3-2类《暗室不宜小》于0.87L1；】 ？ ， ，  ：       【。  H1测量—系统：设，备或受试设备—的最大高《度（m）； — ，      ！     H2设】备上部安《装空间？尺，寸（m）； — ， 《       【。 ，。  H3暗室顶部吸！波，材料高度（m） ！ 6.—0.8  锥体【。暗，室尺寸设计应符合下！列规定？ ，  —  ： 1  暗室静区】尺寸不应《小于：待测天线尺寸— ： ？     2—  暗室长方体【部，分，宽度和高度应相【等，不应小？于，暗，室静区尺寸的3倍】 《   《  3  暗—室，。长，方体部分长度不应】小于暗室宽度和主】墙吸波材料高—度的和 》 ？     4—  ：锥顶角可选取—20°～22°【   】  ：5 ： 根据本条》第1款～第4款【设计的？锥形暗室《测，量距离？L1应？满足本？规范表6.0.7的！远场条件 】   《  6  6GH】z及：以上频段的锥—形暗室应符合自由空！间电波？传播幅度与》相位的均匀性要求 ！ 》6.0.《9 ： 正多边柱体—暗室尺寸应符—合下列规《。定 【    1  内壁！。内切圆半《径R应按《下式计算《 R≥L！1＋R2＋R3＋】R，4     — （6.《0.9-《1）  ！  ： 式：中L1测量距离【按本规范表6—.0：。.7计？算对于1-1、2】-1、？3-2类远场测【量暗室当天线—口面内电磁波相位偏！。差要求小于或等【于λ/？8时K值取2对【于2-2类暗室K值！可小于2； ！。        ！   R《2测量系《统设备与《受试：设备沿半径方向的】长度之和《； 《   》        R！。3满足运输、维护和！辐射特性需》要在半径方向的空】间尺寸； —    【  ：     R4【吸波材料的》总高度？ —。 ，   2《 ， 高度应《按本规范式》（6.0《.7-3）计—算 》。 ：6.0.10—  雷？达截面紧缩》场微波暗《室（3-1类暗【室）尺寸应与要求】的静区尺《寸、测量系统布局】、操作维护空间相】协调匹配 》 6.0】.11  除本规】范表：4.0.1中1【。。-2、？。。。1-3、《2-2、3-—1、3-《2、4-1类暗室】测量系？。统在：高度方向布局另有】要求：。外其他暗室内部【测量系统应对称布局！ 6.0！.12  暗室静】区范：围尺：寸应大？于受：试设备试验状态中所！覆盖的区《域 ： ：