《。。4.4 》硅烷工艺《系统
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,4.4.1 【硅烷在半导体、太阳!能,光伏电池、平板【。显示:器、化合物半导体、!光纤预制棒等电【子,工,程制造领域广—泛应:用,硅烷的主要物化性质!见表2
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表:2 硅烷的—主要物理化学性质
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《 硅》烷在空气中的燃烧范!围为1.37%~9!6%空气中硅烷浓】度,在1.37%~【4.5%时遇外界火!源,时会产?生爆燃速度可—达5m/s;当空气!中硅烷浓度超过4.!5%处于亚稳定状态!会,发生延迟自》燃性:;浓:度越高?延迟时间越短这种】延迟自燃性会—导致爆燃甚》至爆轰?
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硅烷】的首要?危害是它的》自燃性毒性为次要】危害硅烷的半致死浓!度(LC50)为】9,600p《pm:(大鼠4《h吸:入)工?作,场所最高允许浓度】为,5,p,pm
】。4.4.2 硅】烷输送系统是指从硅!烷气:瓶,至生产工艺设备用气!处的管?路系统为确保—生产安全和避免硅烷!气泄漏至房间目前电!子工:。。厂的硅烷系统均设有!硅烷:容器、气体》面,板或气柜《、阀门分配》箱以及相应的连接管!道等为此做了本条规!定
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4.4.—3 从工》程实际情况看—典型的硅烷气体【面板主?要包括?。减,压过滤、吹扫/【排放、安全控制等】功能典型《的硅烷面板》示意图见《图2
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图2 《 硅烷?面板示意图
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:4,.,4.4? 本?条,为强制性条文—必须严格执行本【条规定了硅烷系【统必须采用》独,立的惰性气源进行】吹扫目的是为了防】止硅烷本质气—体对吹扫气体的【污染美国国》家标准学会》标准:硅烷和硅烷》混合物?的储存和操作—ANSI/CGA】-,G13?-2:015第《15.2条(—。专用吹扫气》源,)也做了规定用于在!气源位置吹》扫硅烷输送系—统管道?和部件的吹扫气体应!。由专用的惰》性气:体供应?来源提供(图—3)
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图?3 惰性气—体吹扫示意图—。
—4.4.5 鉴】于硅烷的而物理【。化学性质和安—全运行?的要求硅烷阀门分】。配箱:(VMB《。)用于把主管道分】。成多个支路进行供气!阀门分配《箱支路在打》开前:后均需要使》用惰性气体》进行吹扫考》虑,硅烷的自《燃性质本条规定【硅烷阀门分配—。箱应设?置气体泄漏探测器和!紫外、红外火焰探测!器
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4.4.6 本!条对硅烷《系统的排《气装置的设置做【了,规定
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1 】为防止?硅烷气体《在排风系统》内引发着火和—爆炸或可能与排【风系统中的相—。关物质发《。生化学反应引—发,火灾事故《本,款,规定硅烷《的放空不得排入【。。排风系统若排气中】硅,烷,。浓度较高(如高于0!.3:4%时?)通常采用燃烧式】尾气处?理装置?处理后排入大气
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》 , 2 为了稀释!硅,烷用惰性氮气—对,排放管道连续吹【。扫防止大气中的氧气!进入硅烷系统本款】规定放空管》道吹扫氮《气最:低流速在0.—3m/?s硅:烷和硅烷混》合物的储存和操【作ANSI》/CGA 》G-13-2—015?第14.5.—1条也?做了规定该》条内容摘要如下【
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《 : 1:4.5.1 为】防止:大气中的氧气通【过尾气处理》装置的尾《气管线进入》硅烷:系统:尾气系统应》连续吹扫在尾气管线!内的最少吹扫—速度不得小于1【f,t/:s(0?.3m/s)
【
4.4】.7 ? 本条为强制—。性条文必须严格执】行,从安全操作的角度】出发为了在硅烷【站发:生,安全事故《时操作人员》能够进行远》距离操作减少事故对!操作人员的伤害本】条规:定硅烷连接管道【钢瓶侧应设置—常闭式紧急切断阀硅!烷站:的安全出口至少【应设置一个手动【紧急:切断按钮该手动【。紧急:切断:按钮与输送》装置的距离不应小】于4.6m硅烷站每!个安:全出口?。应设置手动紧急切】断按钮从电子工厂】硅烷站的实际情况看!4.6m是一个较】为合:适的距离《典型大宗硅烷站【布置见?图4美国国家标准学!会标:准硅:烷,和硅烷混合物—的储存和操作A【NSI/CG—。A G-《。13-2《01:。5第6.4.1.1!。条,(远程布置手动切】断阀)和第6.4.!3条(气瓶》系统的布置)图4的!内容:也做了规定现摘录如!下
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6!。.4.1.》1 远程布—。置手动切断阀
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》按,照1:0.2.3最少设置!一个远程布置手动】切断阀切断》。控制阀位置与—气体控?制源和工艺》气体盘控制》系统不少于》15f?t(4.6m)切】断控制的启动将【直,。接切断气源处(气瓶!或猪尾巴管的ES】O)的气体流动并】。隔离:气源和输送系统另外!的远程布置手动切】。断控制阀(ESO)!布置在保护区域的】每一:。个,。出口
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,图4 典》。型,大宗硅烷站布—。置图
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4.【4.8 》本条对硅《烷,系统阀门、附件的设!置做出了《规定
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: 1 由于硅!烷气体?暴露:在大:气中会发《生自燃同时为保证】硅烷气体的纯度接触!的管道及附件—应具有化学稳定【性本款规定了—硅烷:输送系统《。应采:用金:属材质的《波纹管阀《。、隔膜阀、调压阀
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】 2 ? 为了防止管路断】裂造成的硅烷大量】泄漏通常大宗—气源应配置直径小】于3.1《75:mm的?限流孔板《(,R,FO)小钢瓶—应配置?直径小?于0:.25mm的限【流孔:。板
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: : 3 为了在硅】烷泄漏?状态下切断》管路本?款规定了硅》烷输送?系统应配置》过流开?。关(EFS)—并与紧急切断阀门联!锁由于硅烷》的焦耳-汤姆孙效应!非常明显对于大流】量,输送系统《调压阀会出现—结霜现象《严重时会造成膜片变!脆无法调节》压力可通过》对气:体进行加热》来解决美《国国家标准》学,会标准硅烷和—。硅烷混合物》的,储存和操《作ANS《I/CGA —G-13-2—015第《10.2《.4条?(限:流孔:板,)该条内容摘录【。如下
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》 : , 10?.2.4《。.1 ? 非大宗气源—应配置直径小—于0.25m—m的限流孔板(【RFO)
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— 10.2.【。4.2 大宗气】源应配置《直径小于3.—175m《m的限流孔板(R】FO)
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