10—．2  系统设【计、处理流程及方法！ — 10．2．【1  当窑炉有两个！废气出口时宜分别】设置：排气系统 — 1》0．2？．2 ？ 窑炉生产设备废】。。。气出口与《。生产废气《收集总风管》应，分别设置压力控制系！统 ： ， ？ 10．2》．3  生产废【气收集及处理设【。施应主要包括—废气：收集、电/气—动阀门、降温设【施、酸性废气处理设！。备、除尘设备—、脱硝？设备、自动控—制系统、《化，学品供？应系统？、风机、风管 【 10．】。2．4  当—。废气中含《有，少量的氯、氟—、硫：、砷等有害物—质时：宜在：蒸发：冷却塔喷淋液—中加入碱《或其他还原剂 】 ： ， 1：。0，。．2：．5  废气—进入喷淋冷》却塔前宜采用室外】空气降温且降温后废！气相对湿《度不宜超过10【％ 1】0．2．6》  废？气，脱硝可采用20【℃～：60℃的《。常温脱硝、80【℃～120》℃的：低温脱硝、1—80℃？～45？0℃的中温》脱硝及？800℃～》1100℃的—高温脱硝《等，方式脱硝《设计应符《合下列？规定  ！  ： 1：  常温脱硝宜【采用化学洗》涤或臭氧《氧，化，还原法（A》OP）； 【     2 ！ 低温脱《硝，宜采用活性焦炭逆流！。式选择性催》化还原法《。（CSCR）也可】采用化学洗》涤或臭氧氧》化还原法（AOP）！； ？    【 3  中温—脱硝宜采用选—择性催？。化，还原法（《SC：R）：； 《 ：   ？  4  高温脱】硝宜采用《选择性非《催化还原法（SN】CR）或高效—选择性非催化—还原法（《HESNCR—） 10！．2．7《  当生产碱性玻璃！时不应采《用中温？选择性催《化，。。还原法（SC—R） 】10．2．8 【 当采用催化还原法！去除废气中的氮氧化！物时氨的《逃，逸率不应超过8m】。。g/m3 —