1》0．2  系统设】计、处理流程—及方：法 》 ， 1《0．2．1  当】窑炉：有两个废气出口【时宜分别设置排【气系：统， 《 ：10．2．》2  窑炉生产设】备废气出口与—生，产废：气收集总风管应【分，别设置？压力控制系统—。 ： ，。 10．2．3！  ：生产废气收集—及处：理设施应主》要，包括废气收集、【电/气动阀门—、降温设施、酸【性废：气处理设备、除尘设！。备、脱硝设》。备、自？动控制系《统、化学《品供：应系统、风机、风】管 《。。 ？1，0．2？．4：  当废《气中含？有少量的《。氯、：氟、硫？、砷等有害物质时宜！在蒸发？冷却塔喷淋液中加入！。碱，或其他还原》剂 — 10．2．5  ！废气进入喷淋冷【却塔前宜采用—室外空气降温且降】温后废气相》对湿度不宜超—过，10％ 【 10．2．【6  废气脱硝【可采用20℃～6】0，℃的常温脱硝、【80℃～《120℃的低温【。脱硝、180℃～】450℃的中温脱】硝及80《0℃～1100℃的！高温脱？硝等方式脱硝—设计应？符，合下列规定 【。   —。 ，。 1 ？ 常温？脱硝宜采用化学洗涤！或臭氧氧化还—原法（AOP）；】 —   ？ 2：  低温脱硝宜【采用活性《焦炭：逆流式选《择性催化还原法【（CSCR》）也可采用化—学洗涤或臭氧氧化】还原法（《AOP）； ！ ，  ： ， ， 3  中温—脱硝宜采用》选择性？催化：还原法？（SCR）》。； 》。。     —4  高温脱—硝宜采用《选择性非催》化还：原，法（SNC》。R）或高效选择【性非催化还》。原法（HESNCR！） 【10．2．7  】当生产碱性玻璃时】不应采用中温选【择性催化还》原法（SCR） 】 1—0．2．8  【当采用催化还原法去！除废气中的氮氧化】物时氨的逃逸率不应！超，过8mg/m—3 ？