1》0.2? 系统设计、【处理流程及》方法
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1—0,.2.1 当窑】炉有两个废气出口时!宜分别设置排气系统!
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10.2.【2 窑炉生产设备!废气出口《与生产废《气收集总风管应分别!设置压力《。控,制系统
】
10.《2.3 生产废】气收集?。及处理设施应—主要包?括废气收集、电/】气动阀门、降温设】施、酸性废》气处理设备》、除尘设备、脱【。硝设备、自动控制】。系统、化学品—。供应系统《、风机、风管
】
10—.2.4 当【废气中含有少量【的氯、氟《、硫、砷等有害物质!时,。宜在:蒸发冷却塔喷—淋液:中加入碱或其他【还原剂
!10.2《。.5 废》气进入喷淋冷—却塔前宜采用室外】空气降温且降温后】废气:相对湿?度不宜超过1—0%
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10.2.6! 废?气脱硝?可采用2《0℃:~60℃的常温脱硝!、80℃~120】℃的低温脱硝、【180℃《~450℃》的中温脱硝及—800℃《~110《。。0℃的高温脱硝等】方,式脱硝设计应符合下!列规定?
— 1 — ,常温脱硝宜采—用,化学洗涤或臭—氧氧化还《原,法(:AOP);
【
【。 2: 低?温脱硝宜采》用活性焦炭逆流式】。选择性催化》还原法(CSC【R)也可采用化学】洗涤或?臭氧氧化还原法(】AOP)《;
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3【 中温脱硝—宜,采用选择性》催化还原法(S【。C,R);
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— 4 高温—脱硝宜采用选择性】非催化还原法(【SN:CR)或高效选【择性非催化还原【法(HESNC【R)
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10.2.【7 当《生产碱?性,玻璃时不应采用中温!选择:。性催化?还原法?(,。SCR)
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10.2.8 】 当:采用催?。化还原?法去除废气中—的氮氧化《物时氨的逃逸率【不应超过8》mg/m3
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