， 2  术  ！  语 《 》 2.《0，.1 ？ 薄膜晶《体，管液晶显示器  】thin fil】m trans【istor liq！uid cryst！al ？display(T！FT-？LCD) 【。     使用！薄膜晶体管作—。为控：制像素？开关采用有源矩阵】直，接驱动像素方式的液！晶，显示器？ —2.0.2  【全，自动物料搬》送系：。统 ：   aut—omated m】ater《ial ha—。ndli《ng sys—。tem(《AMHS) — 》  ：  ：。在一个过程或逻辑动！。作系统中一系列【相关的自动化设【备及装置协调、合理！地，对物料进行移动【、，储存或控制的系【统 ： ： ： ，2.0.3》。  玻璃基板—  ：  glas—s substr】。at：e 》 ：   ？ 由表面极其平整的！薄玻：璃片构？成，的液晶显示器件的】基本：部件 — 2.0.—4  阵列    ！ar：ray —     【在玻璃基《板上通过成膜、【光刻、？刻蚀等半导体工艺技！术制作有规》则排列的特》。定，薄膜晶体《管(开关器件)阵】列以形？成，数据线、存储电容和！信号线的工艺 】 ？ 2.0.5  】彩膜 ？ ，  color【 fil《ter(CF)【 ？     在】透明基板上依规【则排列红、绿、【蓝三基色的》图形：只能使所需》要的色光通》过的滤光片》又称：彩色滤色片 】 2.0.6】  成？盒 ：   c《ell？    ！ 将已制备》好的薄膜晶体管【液晶显示《器，阵列玻璃基板和彩】。色滤光片玻璃基板】组装：到一：。起使两块玻璃基板】之间充有液晶材料】加上适？应的电场即可进【行图像显示》的液：。。晶盒(屏)的工艺】过程 》 ：。 2：.0.7 》 空间管理 —   space ！manag》ement》 ：   —  为有效》利用空间、缩短工】作流程对《大到整个《厂区的建筑物—布局、地下管线规划！。小到一栋建筑—物内部各《个专业间的配置【协调而进行的设计 ！ 》2.0？.，8  干法刻—蚀  dry 【et：ching》 p：rocess— ？ ，    》 在气相中对基【板表面、被蚀刻【物质进行《刻蚀的方法》 2.】0.9 《 等离子体增强化学！气相沉积 》 pl？asma enha！nced 》chem《i-cal vap！or ？depositi】o，n(PEC》V，D) ？ 》 ，   利用等—离子体的活性—促进反应能在较【。低温度下进行化学】气相沉积法的反应】 ：