， 2  术【    语》。 — 2.《0.1  薄膜【晶体管？液晶显示器 — thin》 f：ilm tr—ansistor ！liquid c】ry：sta？l dis》。pla？y(T？FT：-，LC：D) 《  》   使《用薄膜？晶体管作为》控制像素开关—采用有？源矩阵直接》驱动像素方式—的液晶显示器 【 ， 2》.0.？2  全自动物【料搬送系统》  ：  automa】t，。ed mate【rial《 han《dl：ing 《system(AM！HS)？  【   在一个过【程或逻辑动作系统】。。中一系列相关的【自动化设备及装置协！调、合理地》对，物料进行移》动，、，储存：或控制的系统— ： 2.0.3！  玻璃基板—    glass！ substr【ate？   】  由表面》。极其平整的薄玻璃】片构成的液》晶，显示：器件的基《本部件 】 2.0.4  阵！列 ：   array ！ 《  ：   在玻璃基板上！通过成膜、光—刻、刻蚀等半导【体工艺技术》制作有规则排—列的特？定薄膜晶体管—(开关器件)阵列】以形成数据》。线，、存储电容和信【号线的工艺 ！ 2？.0.5《  彩膜《    colo】r f？ilter(—CF) —   》 ， 在透明基板上【。依规则排列》红、绿、蓝三基色的！图形只能使》所需要的色》光通过的滤光—片又：称彩：色，滤色片 —。 2.0.【6  成盒 —  ：。 c：ell 《  —   将已制备好的！薄膜晶体管液晶显示！。器阵列玻璃基板【和彩色滤光片玻【璃基：板组装到一起使两】块玻璃基板之间充有！液晶材？。料加上适应的电场】即可：进行图像显示的【液晶盒(屏)—的工艺过程 【 2.0.】7  空间管—。理    sp【ace mana】。ge：men？t 【    为有效利用！。空间、缩短工作流程！对大到整个厂—区的建筑物布局【、地：下管线规划小到一】栋，建筑：物内部各个专业间的！配置协调而进—行，的设计 【 2？.0.8  干法】刻蚀  dry【 etchi—ng pro—ces？s， ？     在】气相中对基板表面、！被蚀刻？物质进行刻蚀的方法！ 2.】0.9  》。等离子体增》强化学气相》沉积  pl—asma e—nhance—d ：chemi-c【al vap—or： ，d，。e，positio【。n(PECVD)】。 》 ，   ？ ，利用等离子体的活性！促，进反应能《在较低温度下进行】化学：气相沉积《。法，的反应 》