2》  ：术  ？ ， 语 《。 2.】0.1  薄膜【晶体：管液晶显示》器  thin【 film tra！nsisto—r li《quid crys！ta：l dis》pl：ay(TFT-LC！D) 】    《。使用：薄膜晶体管作为控】制像素开《关采用有源矩—阵直接驱动》像素方式的液—晶显示器 【 2.》0.2  》全自动物料搬送【系统    a【utom《ated 》material ！handl》ing 《s，ys：tem(AM—。HS) ！    在一个过】程或逻辑动作—系统中一系列相关的！自动：。化设备及装置—。协调、合理地—对物料进《行移动、储》存，或控制？的系统 《 2.0.！3  玻璃》基板    —glass su】bstra》t，e   ！  由表面极其【平整的薄玻璃片构成！。的，液，晶显示器件的基本】。部件 —。 ， 2.0.4— ， 阵列 《。   a《r，ray 》 ？    《。 在玻璃基板上【通过成膜、光刻、】刻，蚀等：半导体工艺技—。。术制作有规则排列的！。特定薄膜晶体管(】开关器？件)阵列以形成【数据线、《存，储电：容和信号线的工艺 ！ 2—.0.5  彩【膜， ，   co》lor？ filt》er(？CF) 】。     在透明基！板上依规《则排列红、》绿、蓝？三，基色的图《。形，只，能使所需要的色光】通过的滤光片又【称彩色滤色片 【 》。2.0.6  成】盒，    c》el：l 【    将已制备好！的薄膜晶体管—液晶：显示器阵列玻璃基】板和彩色滤》光片玻璃基》板组装到一起使【两，块玻：璃基板之《间充有液《晶材料？加上适应的电场即】可进行？图像显示的》液，晶盒(屏)的—工艺过？程 【2.0.7 — 空间管理   】 space— ma？nagement ！ ？ ，     为有效】利，。用空间？、缩短工《作流程对大到整个】厂区：的建筑物布》局、地下管线规划小！到一栋？建筑物内部各—个专业间的》。配置协调而进行的】设计 ？ ？ 2.0.8【  干法刻蚀 【 dry et【ching》 process】 《     在气相！中对基板表面、被蚀！刻物：质进行刻蚀的方【法 2】.0.9  —等离子体增强化学】气相：沉积 ？ pl？asma 》enh？anced —chemi》-，cal vapor！ depositi！on(PEC—。VD)？ 《 ：    《。利用等？离子体的活性促进反！应能：在较低温度》下进行化学气相沉】积法的反应》 ：