2 — 术    语 】 【2.0.1 — 薄：膜晶：体管液？晶显示器 》 thi《n， film t【ransisto】r l？iquid cr】y，s，tal？。 di？s，play(》。TFT-L》C，D) ？ ？     使用薄！膜晶体管作为控【制像素？开关采用有源矩【阵直接驱动像素【方，式的液晶显示器 】 2—.0.2  全【自，动物料搬送》系统    —aut？omate》d mat》erial ha】。ndling— system【(AMHS)— ？。 ，     在【一个过程或》。逻辑动作系统—中一系列相关的自】动化设备及装置协】调、合理地》对物料？进行移动、储—存或：控制的系统 】 ： 2.0.》3，  玻璃基板—   ？ glass—。 subst—。。rate 》   【  由表面极—其平整的薄玻璃片】构成的液晶显—示器件的基本—。部件 2！.0.？4  阵列  【。  array ！  》   在玻璃—基板：上通过成膜、—光刻、刻蚀》。等半导体工艺技术】制，作有规则排列的【特定薄膜晶体管(】开关器？件)阵列《以形：。成数据线、存储【电容和？信号：线，的工艺 — 2.0—.5  彩膜   ！ ，c，olor fi【lte？r(CF) 【 ： ，     》在透明基《板上依？规则排列红》、绿、蓝三基色的】图形：只能使所需要的色光！通过的滤光》片又称彩《色滤色片 【 ，。 2.0.6 】 成盒    ce！ll：  【   ？将已：制备好的薄》膜晶体管液晶—显示器阵列玻璃基板！和彩色滤光片—玻璃基板组装—到，。一起使？。两块玻璃《基板之间《充有液晶《材料加？上适应的电场即【可进行图像显示的】液晶盒(屏)—的工艺过程 — ？ 2.0》.7  空间管【理    》space man！。a，gement ！   》。  为有效》利用空间、缩短工】。作流程对大到整个】厂区的建《筑物布局《、，地下：管线规划小》到一：栋建筑物内部各个专！业间的配置协调【而，进行的设《计 》 ：2.0.8》 ， 干法刻蚀  dr！y e？tch？in：g， p：rocess 】 ，    — 在气相中对—基板表面、》被蚀刻物质》进行刻蚀的方法【 —2，.，0.9  》等离子体《。增强化学气》相沉积  plas！。m，a enh》an：ced 《chemi-c【al vap—or ？de：position(！PECVD) 【 《。。 ，    利用—等离子？体的活性促进—反应能在较低温【。度下：进行化学气相沉【积法的反《应 ？