2  【术    语 ！ ？ 2.0.1 】 薄：膜晶体管《液晶显示《器  thin【 film tra！nsis《tor l》iquid》 cryst—al displa！y(T？FT-LCD) 】   【  使用《薄膜晶体管作为【控，。制像素开关采用有】源，矩阵：直接驱动像素方【式，的液晶显《示器 【 ，2.：0.2？  全自《。动物料搬送系统【    a》utomate【d m？aterial 】handl》ing sy—stem(》AMH？S) 】    在一个过程！。或逻辑动作系统【中一系列相关的自】动化设？备及装置协调、合理！。地，对物料？进行移动、》储存：或控制的系统 ！ 2.0.3 ！ 玻璃基板   】。 ，。glass sub！strate— 》     由—表，面，极其平整《的薄玻璃片构成的】液晶显？示器件的基本—部件 《 2.0.4！  阵列    】a，rray 》  —   在玻璃基板上！通，过成：膜、光刻、刻蚀等半！导体工？艺，技术制作有规则排】。列，。的特定薄膜晶体管】(开关器件)阵【列以形成数据线【、存储电容和—信号线的工艺 】 ： 2.0.—5  彩《膜    c—olor filt！er(CF) 【 ：     在】透明基板上依规则】排列：红、绿、蓝三基色的！。图形只？能使所需要的—色光：通过的滤《光片又称《彩色滤色片 【 ？。 2.0.6 【 成盒    c】e，ll 【     将已制】备好的薄膜晶体【管液晶显示》器阵列玻璃》。基板和？彩色滤光片玻璃【基，板组装到一起使【两块玻璃基板之【间，充有：液晶材料《加上适应《的电场即可进—行图像显示的液晶】盒(屏)的工艺【过程 ？ ？ 2.0.7【  空？。间管理 《   s《pace man】agemen—t ？     为！有效利用《空间、缩短》工，作流程对《大到整个《厂区的建筑物—布局、地下管线规】划，小到：一栋建筑物内—部各个专业间的【配置协调《而进行的《设计 】2.：0.8  干—法刻蚀 《 dry etch！ing proce！。。ss 《 ？   ？  在气《相中对基《板表面、《被蚀刻物质进行【刻蚀的？方，法 【2.0.《。9  等离子体【增强化学气相—沉，积  pl》asma en【hanced c】hemi-cal】 vapor— depo》sition—。(PECV》D) 】   ？ 利用等离》子体的活性促进反】应能在较低温度下】进行化学气相沉积法！的反应 》