。 6.2【  系统调试 ！。 6—.2.？1  本条对系【统安：装完成？后的系统《调试项目作了—明确的规定纯水系】统，安装：完，成后为了《使工程达到》。的预期的目标及功】能必须进行系—统调试调试包括设备！的，单机试运转及调试、！系统的联合试—运转及调试 【 ：。 Ⅰ》  设备单机—试运转及调试 ！ 》6.2.3  【电子工业纯》水，系统的设备》主要包？括水泵、水箱、罐及！RO：、MD？G、UV、UF等处！理装置系统中还【涵盖：与设备相连》。的管路、阀门、仪表！、监控？装置：。。等因：。此设备单机试运转及！调，试除了？应包含水泵、水箱、！罐等的转向、流量】、满水试验、熏【蒸、：清洗：等工序已《完成：且符：合设计要求外—与设备运《转相关的管路、阀】门、仪表监控装置】等均：。达到设计要求—才能为后续的系统】联合试运《转及调？试提供保证但—考虑到不同的系统】涵盖的设备及工艺】要求可能有所—不同对设备》及相关的管路、阀】门、仪表监控要【求可能也《会有所不同进行设备！。单机试运《转及调？试应参照设计要求】 — Ⅱ  系—统的：联，合试运转及调试【 》 6.2.【5  对电子工业纯！水系统在系统联合】试运转及调试—完成后正式》给用水点供》水，前均：。。应对：设备、管《路等：进行杀菌消毒为【避免杀菌消毒—过程：产生：二次污染同》时又：达到杀？菌消毒效果杀菌消】毒剂应采《用电子级的H2O】2杀菌消《毒时：的浓度应控制在【1％以？内考虑到H》2O：2的：。氧化性很强浓度过】高时可能会对设备、！管路：造成损害但浓—度太低又《可能起不到杀菌【消毒：效果因？此，在实际操《作时应根据采—购的H2O2的【浓度及？系统的大小计算【出杀菌消毒需—使，用的合理的电—子级：的H2？O2的？量以保证杀菌—消毒时H2O2的】浓度在1《％以内同时为避【免对设？。备造成？损伤（？杀菌消毒剂H2【O2：与设备发生》。氧化反应）对不需】要进行杀菌消毒而需！要隔离的《设备（进《。。行系：统设备选《。型，时，此部分设备可能未】考虑：耐H2O2的氧【化性能）必》须隔离或关闭以【保证设备的》完好 》    — H2？O2除了具有氧化】还原性外还具有一定！的腐蚀性《对人体及环境都有一！定的危害因》此排放时不》能随意？排放应？安装临？时性的管路排至相】应的处理系统—或回收送至有处理】能力的厂家进行处】理 ？