6.2 】 系：统调试 《 ， —6.2.1  【本条对系统安—装完成？。后的：系统调试项目作了】明确的规定纯—。水，系统安？装完成？后，为了使工《程达到？的预期的目标及功】能必：须进行？系统调试调试包【括设备的《单机试运转》及调试、《系统的联合试—运转：及调试 】 Ⅰ 》 设备单机试—运转及调试 ！ 6.—2.：。。3  ？电子工业纯水—系统的设《备主：要包括水泵》、水箱、罐及RO】、MDG、UV【、UF等《处理装置系统中还】涵盖与设《备相连的管路、【阀，门、仪？表、监控装置—等因此？设备：单机试运转》及调试除了应包含】水泵、水箱、罐等】的转向、《流量、满水》试验、熏蒸、清洗等！工序已完成且—符，合，设计要求《外与设备运》转相关的《管路、阀门、—仪表监控装置等均达！。到设计要求才能为】后，续的：。系统联合《。。试运：转及调试《提供保证但》考虑到？不同的系统涵—。盖的设备及工—艺要求可《能有所不同对设备】及相：关的：管路、？阀门、？仪表监控要求可能】也会有？所不同进行》设备单机《试运转？。及调：试，应，参照：设计要？求 【 Ⅱ  系统的联！合试运转《及调试 ！。。 6.2》.5  对电子工】业，纯水系统《在系统联合》试运转及《调试完成后正式给】用水：点供水？前均应对设》备、管路等》进行杀菌消毒—为避免杀菌》消毒过？程，产生：二次污染同》时又：达到杀菌《消毒效果杀》菌消毒剂应采用【电子级的H2—O2杀菌《消毒时的浓度应控】制在1％以内考虑到！H，2，O，2的氧化性》很强浓度过高—时可能会对设—备、管路造成—损害但浓《度太低又可能起不】到杀菌消毒效—果因此？在实：际操作时应根据采购！的H：2O2的浓度及系统！的大小计算出—杀菌：。消毒需使用》的合理的电子级【的H2O2》的量以保证》杀菌消毒时H2O2！的浓：度在1％以》内同时为《避，免对设备造》成损伤（《杀菌：消毒剂H2O2与设！备发生氧《化反应？）对不需要》进行杀菌《消毒：而需要隔离的—设备（进行系—统设备选型时—此部分设备可能未】考虑耐H2O2的】氧，化性能）必须隔【离或关闭以保—证设备的完好 【。  —   H2O2除了！具有氧化还》原性外还具有一定】的腐蚀性对》人体及环境》都有一定的危害因】此，排放时不《能随意排放》应，安装临时性的管路排！。至相：应的处理系》统，或回收送至有处理能！力的厂家进》行处理 》