8.4  ！洁，净设：计及装修 【 ： 8.4—.，1，。。  有关《。主厂房设计要—求说明如下 【     】1 ： 半导体级多—晶硅产？。品纯度高为》保证产？品质量避免硅棒和】多晶硅在生产和运输！过程中受污染还原炉！室，工艺一？般要求空气》的洁净度不低于【8级洁？净区的出入》口部应设置人员净化！、物料净化》用，室和生活用》室洁净区的口部平】面，设置、防火和疏【。散、室？内装修？。均应按现行国家标准！洁净厂房设计规【范，GB 5《0073执》行还原？炉室通过洁净连廊】与整理工段相连【合用净？化口部房间》可以简？化人流？路线节？省投资连廊的空气洁！。净度：和室内？装修要求同》还原炉室 ！。    《 由于还原炉室为】高大厂房体》。积较大从产品要求】、投资和运行成本】考，虑生产太阳能级多】晶硅的还原炉室【对空气的《要求考虑三》。级过滤可不按洁【净厂房考虑》 ？ ，     3【  为保证》多晶硅的产品—质量整理车间内从多！晶硅棒去石墨—到多晶硅破碎、筛选！、酸洗干燥、称量、！包装等后处理工段的！空气洁净度不—宜，低于7级前处理【多晶硅还原》配套的辅助工段【(主要包括硅芯制】备、石墨《煅烧等)空》气洁净？度不：宜低于8级》。洁，净，区的出入口》部应设置人员净【化，用室、物料净化用室！、生活用室洁净区的！口部平面设置、防】。火和疏？散、室内装修—均应按现行国家标】准洁净厂房》设计规范GB 5】0073《的有关规定执行【 8.】4.2  本条对有！空气洁净《度要求的其》他厂房和建筑作出】规定 》  《   1  —。高差定为大》于，或等于300mm】。。是因为洁净房间【有较高的防》潮要求 ！   ？。 3  现行—。国家标准洁净厂房】设计规范GB 5】0073中的—室内装修条款对洁净！。室的门窗、墙壁、顶！棚、地？面都规定得》较为详细故规定按其！执行  ！   4  本款】对洁净区《外没有空气洁—净度要求的其—他辅助？房间的装修作了一】。般，性规定 》