6.2 】 自  动》  化 ！ 6？.2：.1 ？ 对本条第2款【的说明如下分散【。型控制系统(DCS！)、安全仪表—系统(SIS)、】安全：栅属于关联设备为方！便现：场安装、调试、开】车统一？由分散型控》。制系统？(DCS)供应商】。提供并？承担相？关责任？和服务以避免中【间环节的推》诿、扯皮现象— ： ？ 6.2《.2：。 ， 对本条第3款【。第4：项的说明如》下还：原炉硅芯(棒)内】、中、外均采—用高温双色红外【测温仪是由》于被：测硅芯较细且还【原炉的视镜》易受到污染影响测】量，精度：而采：用双：色红：外，测温仪则能够更好】地，消除干扰保证测【量精：度要求 》 6.2.3！  对本条》第3款第2项的【。说明如下对》于测量氯硅烷—介质的仪《表宜采用《隔膜式压力表(【法，兰，安，装)目的是》防止氯硅烷类介【质水：解后：堵塞仪表导压—管，道同时起到》。防腐作用 —     】对本条第4款第2】项的说？明如下？一般的压力表和压力！变，送，。器是：指本行业内常用的工！。艺接口尺寸在M2】0×1.5或1【／2 60度—锥管螺纹(NP【。T)的一类》压力：仪表类型 】 6.2.4【  有？关流量仪表的选【型要求说明如—。。下 【    《。2  多晶硅工厂中！使，。用，的，脱盐水及超纯水介】。电常数非常低—使用电？磁流量计会测量【不准 》  《   ？4  ？由于还原炉》内硅：。棒数量？多工艺要求三氯【氢，硅及氢气流》量，。变化范围大且要求】进料量精度高为【确保：全量程？下，的自：动化控？制则：宜选：用大量程仪表并【带，有，。温、压补偿功能以】保证多晶硅产品的】质量要求和连—续化自动控制 】  》。   由于还原【炉进料过程中压力】不高氢气密度低【科氏力？质量流量《计测量氢气流量必然！会严：重缩径按《照现行国家标准氢气！站设计规范GB【 50177的有关！规定在？氢气设计《压力为0.1M【。P，a～3.《0MPa时氢气在】碳钢管道中》的流速小于15m／！s；在不《。锈钢管道《中的：流速小于25m【／，s因：此在仪表《设计中？应，避免氢气高流速【的现象产生以免造】成测量仪表》误差及损坏》管道甚至《发生：爆，炸危险？  【   ？5  在工艺管道和！设备产生泄漏的【情况下？氯硅烷介质》极易发？生水解现《象并产生自聚—物堵塞？管道或设备所以一般！使用容积式流—量计 《 6.2【.8 ？ 大部分装置—中都存在有》毒、可燃性气—体因此应《符合现行《国家标准石油—化工可？燃气体和有毒气【体检测报警设计【。规范GB 504】93中的相关要求建！。立一套独立设置【的报警、联锁系统以！保证装？置生产安全、正常】。的，。运，。行 【    3  【本款是强制性条款】通常情况下工艺装置！或储运？设施的控制》室、现场操作室是】操作人员《常驻和能够采取【措施的场所现场【发生可燃气体和有毒！气体泄漏事》故时报警信号必须使！。现场报警器报警【提示现场操作人【员采取措施同时【报警信号发送—至有人值《守的控制室、—现，场操作室的指—示报警设备》进行报警以便—控制：室、现场操作—室的操作人及—时采取措施 ！。 6.2.—9 ： 在线分析仪表【宜，采用气相色》谱仪是为了更好【地分析原料、中间产！品、最终产品—的品质是《否达到？有关的质量标准【其中的有关要求是】针对多？晶硅介？。。质的特性提》出的用以保证分析】仪表设备的正常运行！ —6，.2：.11 《 本条第3》款所述的压》力值为表压本规范中！。所有：气体：压力值均为表压【 ：