：。 ：6.2  自  动！。。 ， 化 》 ？ 6.2.1  ！。对本条第2款的【说明如下分》散型控制系统(DC！S)、安全》仪表：系统(S《IS)、安全栅【属于关联设备为方便！现场安？装、调试《、开车统一由分散】。型控制系统(DC】S)供应商提供【并承担相关责—任和服务《以避：免，中，间环节的推诿、扯】皮现象 】 ，6.2.2  对本！。条第3款第4项的】说明如下还原炉硅芯！(棒)内《、中、外均采用【高温：双色：红外测温仪》是由于被测硅芯较细！且还原炉的视镜易受！到污染？影响测量精度而采用！。双色红外测》温仪则能够更好【地，消除干扰保证测【。量精度要求 】 ？6.2.3 — 对本条《。第3款第《2项：的说明如《下对于测量》氯硅烷介质的仪表宜！采用隔？膜式：。压，力表(法兰安—装)目的是防—止氯硅烷类介质水】解后堵塞仪表导【压管：。道同时起到防腐作用！ —。    对本条第】4款第2项的说明】如，下一般的《压力表和压力变【送器是指本行—业内常用的工艺接口！尺寸在M《。20×1《.5或1／2 6】。0度锥管螺纹(N】PT)？的一类压力仪—表类型 【 6.2》.，4  ？有关流量仪表的【选型要？求说：明如下 【     2 】 多：晶硅工？厂中使用《的脱盐水及超纯【。水介电常数非常低】使用电磁流量计【。会，测量：不准 【     》4  由于还原炉内！硅棒数量多工艺要求！三氯氢硅及》氢气流量变化范围】大且要求进料—量精度高《为确保？全量程下的自动【化，控，制则宜选用大量【程仪：表，并带有温、压补偿功！能以保证多晶硅【产品的质量要求和】连续化自动控—制   ！  由于还原—炉进料过程中—压，力不：高，氢气密？度低：科，氏力质量《流，量计测量氢气—流量必然会严重缩】径按照现行国家标】准氢气站设》计规范GB》。 50177的有】关规定在氢》气设计压力为—0.1MP》。a～3.0MPa时！氢气在碳钢管道中的！流速小于15m／s！；在不锈钢管道【。中的流速小》于，25m／s》因，此，在仪表设计中应避】免氢气高《流速：的现象产生》以，免造成？测量仪表误差—及损坏管道甚至【发，生爆炸危险 — 《。 ， ，   ？5 ： 在：工艺管道和设备【产，。生，泄，漏，的情况下氯硅烷介】质极易发生水解【现象并产生自聚【物堵：塞管道或设》备，所以一般使用容积】。式流量计 — ：。 6.2.8 】 大部？分装置中都存—在有毒、可燃性气体！因此应？符合现行国家—标准：石油化工可燃气【体和有毒气》体检测报警设计规】范GB 50—493中的相关要求！建立一套独立设【置的报警、联锁【系统以？保证装置生产安全】、正常？的运行 《 《 ，。    3 — 本：款是强？制性条款通常情况】下工艺装《置，或，储运设施的控—制室、？现场操作室》是操作人员常驻和】能够采取措施的【场，所现场？发生可燃气体和有毒！气体泄漏事故—时报：警信号？必须使现《场报警器报警提【示现场？操作人员采取—措施：同时：报警信号发送至【有人值守的控制室、！现场操作《室的：指示报？警设备进《行报警以便控—制室：、，现场操作室的操作人！及，时，采取：。措施 6！.2.9 》 ，在，线分：析仪表？宜采用气相色谱仪】是为：了更好地分析—原料、中《间产品？、，。。。最终产？品的品质是否达【。。到，有，关的质量《标准其中的有—关要求是针对多晶】硅介质？的特性提出的用以】保证分析仪表设备的！正常运行 》 6—.，2，.11  本条第】3款所？述，的压力？值为表压本规范中】所有气体压力—值均：为表压？ ：