？ 6.？2  自  动【  化 — ？ 6.2.1  ！对本条第《2款：的说：。明如下分散型控制】系统(DCS)、】安全仪表《系统(S《IS：)、安？全栅属于关联设【备为方便现场安【。装、调试、开车统】一由分散型控—制系统(《D，CS)供《。应，。商提供并承》担相关责任和—服务以避免中间环】节的推诿、扯皮现象！ 《 6？.2.2 》 对本条第3—款第4项的》说，明，如下还原《炉硅芯(《棒)：内、中、外均采【用高：温双色红外》。测温仪是由》于被测硅芯较细且还！原炉的视镜易受【到污染？影，响测量精度而—采用双色红外测温仪！则能够更好地—消除干扰保》证测：量精度要求 】 ： 6.？2.3  》对，本条第3款第2项】的说明如下对于测量！氯硅烷介质》的仪表？。宜采用隔《膜式压力表》(法兰安装)目的】是防止氯硅烷类【介质水解后堵—塞仪：表导压管道同—时起：到防腐作用》 》     对本条】第4：款第2项的说—明如下？一般的压力》表，和压：力变：送器是指本》行，。业内常用的工艺【接口尺寸在M2【0×1？.5或1／2 【60度？锥管螺纹(NPT】)的一类压力—仪表类？型 — 6.？2，.4  有关流量】仪表的选《型要求说明》如下  ！。。   2  —多晶硅工厂中使用的！。脱盐水及超纯—。水介电常数非常低使！用电磁？流量计会测量—不准 》     4 ！ 由于还原炉内硅棒！。数量多工艺》要求三氯氢硅—。及氢：气流量变化范围大且！要求进料量精—度高为确保全量【程下的自动》化控制则宜选用大量！程仪表？并带有？温、压补偿功能以保！证多晶硅产品的质量！要求和连续化自动控！制 ：  —   ？由，于还原炉进料过程】中压力不高氢—。气密：度低科氏力质—量流量计测》量，氢气流？量必然会严重缩【径按照现行国家标】。准，氢气站设计规范【GB 50177的！有关规定在氢气【设计：。压力为0.1M【P，a～3.0M—Pa时氢《气在碳钢管道中的流！速小：于15m／》。s；在？不锈钢管道》。中的流速小于2【。5m／s因此在【仪表设计中应—避免：氢气高？。流速：的现象产生以免造成！测量仪？。表误差及《。损坏管道甚至—发生爆炸危险 ！     5 ！ 在工艺管》道和设备产生泄漏】的情况下氯》硅烷介质《极易：发生水解现象—并产生自聚物堵塞管！道或设备《所以一般使》用容积式流量计【 —6.2.8  大】部分装置《中都存在《有，毒、可？燃性气体因此应符合！现，行国家标准石—油化工可燃气—。体和有？毒气体检测报警设】计规范？GB 50493】中的相关《要求：建立一套独立—设置的报警、联【锁系统以保证—装置生产安》全、正常的运行 】。 ：。 ：     3 【 ，本款是强制性条【。。款通：。常情况下《工艺装置或储运【设施：的控制室、现场操】作室是操《作，人员常驻和能够【采取措施的》场所现场发生可燃气！体和有毒气体泄漏事！故时：报警信号必须使现】场，报警器报警提示现场！操作：人员采取措》施同时报警信号发】送至有？人值：守的控制室、现【场操作室的指示报警！设备：进行报警以便控【制室、现场操作室】的，操作人及《时采取措施 】 6.》2.9  在线分】析仪表？宜采用气相色—谱仪是为了》更好地分析原料【、中：间产品？、最终产品的—品质是否达到—有关的质量标—准其中的有关要求】是针对多《。晶，硅介质的特》性提出的用以保证分！析仪表设备的正【常运行 《 6.2】.11？  本条第》3款所述的》压力值为表压本规范！中所有气体压—力值均为表压 【 ，