： 6.2  自】  动  》化 — ： 6.2.1 【 对本条第》2款的？说明如下分》散型控制系统—(DCS)、安全仪！表系统(《SIS？)、安全《栅属于关联设—备为方？便现场安装》、调试、开车统【一由分散型控制【系统：(DCS)供应商】提，供并承担相关—责任和服务以避【免中间？环节的推诿、扯【皮现：象 6】.2.2  对【。本条第3款第—4项的说明》如下还？原，炉硅芯(棒)—内、：中、外均采用高温双！色红外测温仪是【由于被测硅芯—较细且还《原炉的视镜易受到污！染影响测量精度【而采用双色》。红外：测温仪则《能够更好地消—除，干扰保？证测量精度要—。求 6.！2.3  对—本，条，第，3款：第2项的说明如【下对于？测量氯硅《烷介质的《仪表宜采用隔—膜式压力表》(法兰安装》。)目的是《防，止氯：硅烷类介质水解【后堵塞仪《表导压管《道同时起到防腐【作，用 ： ：。   》  对本条第—4款第2项》的说明如下一般的】。压，力表和压力》变，送器是指本行业内常！用的工艺接口尺【寸在M20×1.】5，或1／2 60度锥！管螺纹(N》。P，T)的一《类，。压力仪？表，。。类型 】6.2？.4  《有关流？量仪表的选型要求】说明：如下 ？   【  2？  多晶硅工厂中】。使用的脱盐》水及超纯水》介电：常数非常《低使用电《磁流：量，计会测量《不准 》 ：     4—  由于还原炉内硅！棒数：量多：工艺要求《三氯氢？硅及氢？。气流：量变化范围大且要求！进料量精度高为确保！全量程下的》自动化控制则—宜选用大量程仪【表并带有温》、压补偿功》能以保证多晶硅产】品的质量要求—和连续化自动控制】 —    由于还原炉！进料过程《中压：力不高氢气密度低科！氏力质量流量计测量！氢气流量《必然会严重缩径按】照现行国家标准氢气！站设计规范GB【 50177的有】关，规定在氢气设—计压力为《0.1MPa～【3，.0M？Pa：。时氢气在《碳钢管道中的流速小！于15m／s；在不！锈钢管道中的流【速，小于25m／s因】。此在仪表设计中应避！免氢气高流速的现象！产生以免造》成测量仪表误差及损！坏管道甚至发生爆】炸危险？ 《    》 5  在工艺管道！和设备？产生：泄漏的情况下—氯硅：烷介质？。极易发生《水解现象《并产：生自聚物《堵塞管道或设备所】以一般？。使用容积式流量计】 》 6：.2.？8  大部分装置】中都：存在有毒、可燃性气！体因此应符合—现，行国：家标准石《油化工可燃气体和】有毒气体检测报警设！计规范G《B 5？。0493中的相关】要求建立《一套独立设置—。的报警、《联锁系统《以保证装置生产安全！、正常的运行 【     ！3  本款是—强制性？条款通常《情况下工艺》装置或储《运设施的控制室【。、现场操作室是【操作人员常驻和能够！采，取措施的场所现场发！生可燃气体和有【毒气体泄漏》事故时报警》信号：必须使现场报—警器报？警，提示现场操作人员采！取措：施同时报《警信号？发送至有人值—。守的控制《室、现场《。操，作室：的指示报警》设备进行《报警以便控制—室、现场《操作室？的，操作人及时采取措】施 》 ， 6.2.9—  在线分》析仪表？。。宜采：用气相？色谱仪？是为了？更好地分析原料、】中间产品《、最终产《品，的品质？是否达到有关的质量！标准其中《的有关要求》是针对？多晶硅介质的特【性提出？的，。用以保证分析仪【表设备的正常运行 ！ 《 6.？2.11  本【条第3？款所：述的：压力值为《表压本？规，范中：所有气体《压力值均《为表压 》