， 附录C  主！要房间？空气洁净度》、温度、湿》度 ！。表C：  主要房间空【气，。洁净度、温》度、湿度 【 ？ —。 ， 》    注腐蚀清洗！室主要为《生产半导体级多【晶硅：免洗料设置》在清洗设备上设置层！流罩：保证：。在设备内部空气【洁净：度达到5级》 ：