附录C 】 主要？。房间空气《洁净度、温度、【湿度 《 —表C ？ 主要房间空气【洁净度、温度、湿】度 ： 》。 ： ！     注—腐蚀清洗室》主要为生产》半导体？。级多：晶硅免洗料设置在】。清洗设备上设—置层流罩《保证在设备内部空气！洁净度？达到：5级 《