附录C【 ， 主要房间》空气洁净《度、温度、湿度 ！ 《。 表C  主要房！间空气？洁净度、温度、湿度！ 《。 —  ！   注腐蚀清洗室！主要为生产》半导体级多》晶硅免洗料设置在清！。洗设备上设置层【流罩保证在》设备：内部空气洁》净，度达到5级 【