附录C 】 主要房间空气洁】净度、温度、湿【度 《 》表C  主要房【间空气洁《净度、？。温度、湿度》 —。 《。  ！。   ？。注腐蚀清洗》室主要为生产半【导体级多晶》硅免洗料设》置在清洗《设，备上：设置层流罩保—。证，在设备内《部空气洁净度达【。到，5级 《