《附录C  主要房】间空气洁净度、温】度，、湿度 ！ ：表，C  主要房间【空气洁净度、温度】、，湿度 — ！ ， ：     注【腐蚀清洗室主要为生！产半导体《级多晶？。硅，免洗：料设：置在清洗《设备上设置层流罩保！。证在设备内部空气洁！。净度达到5级— ：