7.5【  纯水《。制备 】 ， 7.5《.1  《硅芯、石墨件及硅】料，清洗应采《用纯水 》 7.5.】2  纯水站位置】应满足工艺总体【布局：的要求？并，应就近用水》设备布置 — ？ 7.5.3  纯！水水质指标不应低】于表7.5》.3的规定》 《 ， 表7.5.3  ！纯水水质指》标 《 《 《 ？。 》    】 注表中第》11项～第34项采！。用电感耦合等—离子体？质谱(ICP／【M，S)检？测 — 7.5《.，4  纯水》储存和分配应符合下！列规定 【。    》 1 ？ 纯水？储存罐体和输送管道！材料应满足》生产工艺的水质要求！宜选择洁净聚氯乙】烯管(Cl》ean？。-PVC《)、聚偏二氟乙烯】管(P？VDF)等管—。材管：道附件与阀门等应】采用与？管道相同的材质 】  —   ？。2  纯水输送管】道系统？应采用循环》方式设计和安装时】不应出现使》水滞留和不易清洁的！部，位循：环干管的流》。速宜大于1.5m】／s不？循环的支管长度不应！。大于管径的6倍 ！ ，     3 ！ 纯水储罐和输送系！统应设置清洗系【统 ？ 7.5【.5  纯》水制备、储存和分】配应符合现行国家标！准电子工业纯水【系统设计规范—GB 50》68：5的有？关，。规，定 ？