7.—5  纯水制备【 ： 》 7：.，5.1  硅芯、】石墨件？。及硅料？清洗应采用纯水【 》。 7：.5.2  —纯水站位置应满足】工艺总体布局的要求！。并应就近用水设【备布置 ！7，.5.3《  纯水水》质指标不应低于表】7.5.3的规定】 ，。 ： 表7.—5.3？。  纯水《水，质指标 — 【 】 ？。     注】表中第11项～【第34？项采用电感耦—合等离子体》质谱(ICP／MS！)检测 《。 ？ 7.5.—4  纯水储存和分！配应符合《。下列规定 【。     1】  纯水储存罐【体，和输：送管道？材料应满足生—。产，工艺的水质》要求宜选择洁—净聚氯乙烯管—(Cl？ean？-PV？C)、？聚偏二氟《乙烯管(PVD【F)等管《材管道附件与阀门等！应采：用与管道相同的材质！ 》    《 2  纯水输送】管道系统应采—用循环方《式设计和安装时不】应出现使水滞留【和不易？清洁的？部位：循环：干管：的流速？宜大：于1.5m／s不】循环的支管长—度不应大于》管径的6倍 ！  ？   3  纯【水储罐和输》送系统应设置清【。洗系统 ！7.5.5》。  纯水制备—、储存和分配应符合！现，行，国家标准电子工业纯！水，系统设计规》。范G：B ：50：685的有关—规定 《