5.—5  ？半导体材料制—备 】 5：。.，。5.1？。  本条对硅、锗材！料制备的《生产废水处理—作，。出要：求 —  ：   1《  采用改》良西门子《工艺生？产多：晶硅的生产排水包】括废气淋洗》水、：。硅芯和硅片腐蚀产】生的污酸及》。净化：酸雾产生的酸性废】。水，以及硅芯、硅片清洗！水等生产排水—主要含氯离子、氟】离子：可采用石灰中和处】理使污染物达标或】处理：后，。回用：于氯：化氢合成、三氯氢】硅合成、三氯—氢硅提纯《工序产？生，的，废气淋洗或硅—芯、硅片腐蚀产生的！酸雾净化 —    【 2：。  硅片加工过程】产生含？碳化硅、有机溶质的！浆料应回收其中的碳！化硅 ？ 《  ：   3  锗精】矿，加盐酸氯《化产出的《粗四：氯化锗？蒸馏、复《蒸、精馏《生产精四《氯化锗过程产—生的废？水含：氯离：。子呈酸性四》氯化锗水解产—出二氧化锗的—同时产生的水—解母液也《呈酸性生《产过程含盐酸的废气！用水吸收的淋—洗液同样呈酸性均】应采用中《和法处？理 —     4—。  单晶硅、单晶】锗酸洗产生的含氟】化氢、氮氧化物的废！气通常采用碱液淋】洗吸收处理淋洗【液无论呈酸性还是】呈碱性都《应，中和处理《 ， ，。    【 5  六价—铬毒：性大因？此本款？为强制性条》文必须严格控制为了！。检测：单晶硅、单晶—锗产：品的晶？体有无缺陷等质量】问题需要将晶体放在！含铬溶？液中：浸泡：因而产生含铬废液铬！。(总铬及六》价铬)是第一类【污染物必《须单独收集》、还原处理》至总铬浓度低—于1.5《mg／L、》六价铬浓《度低于0.5—mg／L《后再：送全厂污《水处理站《进一步净《化处理 【 ：5.5.《2  制《备，化合物半导体材料】砷化镓的原料—高纯砷的提纯—过程产生含砷废【水合：成后的砷化镓—用王水清洗》后废弃的王水中含砷！砷化镓合成时砷【挥发物冷《凝，在石英管壁上用王】水清洗石《英，管壁的废液也—含砷：废水(？液，)含砷浓度较—高时应首先考—虑在酸性条件下以】硫化砷的形式回收砷！；含砷浓度》较低时？应首先将三价砷转】变为五？价砷再进一步净【化处理因为三价状】态的砷(《As：。3+)毒性20倍】于五价状态的砷【(As5+) 】