。 5.5  ！半导体材《料，。制备 《 《。 5.5.1  ！硅、锗材料制备的】。。生产废水处》理应：符合下列要求 】。    【 1  制备—多晶硅的生产—废水：。应，中和处理后回—用，或达标排放》   】  2  硅—片加工？过，程产生？的浆料应回收利【用， —    《3  制备氯化锗】产，生的蒸馏残液—、水解母液》以及废气淋洗液【应中和？处，理 ？    【 4  单晶硅【、单晶？锗酸洗产生的酸性】废气：淋洗液应《中，和处理 》 ？。     5 【 产品检测产生【的含铬废《液必须单独收集或回！用不能？返回：工艺或作其》他利：用的含铬废液中的】总，铬及六价铬必须达】标后再送全厂—。污水处理站进一步】处理 《 ， ？5.5.2  【制备砷化《镓产：生的含砷废水(液)！必须单？独，收集且应首先—回收砷？；不能回收时应将】三价砷转变为五价】砷再进一步进行【脱砷净化处》理， ， ，