： 5.5  【半导体？材料制备 》 ？ 5.5【.1  《。硅、锗材料制备的生！产废水处理应符合下！列要求 【 ：    1》  制备《多，晶硅的生产废水应中！和处理后《回用或达标排放 ！ ？     》2 ： 硅片加工》过程产生的》浆料：。。应回收利用 】     3 ！ 制备氯化》锗产生？的蒸馏残液、—。水解母？液以：。及废气淋洗液应中】。。和处理 】     4  单！晶硅、单晶锗酸洗产！生的酸性废气—淋洗液应中和处理 ！ ？  ？。   5  产【品检测产生的含铬废！液必须？单，独，收集或回用不能返】回工艺？或作其他利》用的含铬废》液中的总铬及—六，。价铬必须《达标：后再送全厂污水处】理站进一步》处理 》 5.5—.2 ？ 制备砷化镓—产生的含砷废水(】液)：必须单独《收集且？应首先回收砷；不】能回收？时，应将三？价砷转变为五—价砷再进一步—进行脱砷净》化，处理 《