， 5《.，5  半导》体材料制备 ！ 5.—5.1  硅、【锗材：料制备？的生：产废水？处理应符合下列要】求 《     1 ！ 制：备多晶硅的生产废水！应中和处理后回用或！达标排放 】   《  2  硅—片加工？。过程产生的浆料【应回收利用》 《   《  3 《 制备氯《。化锗产生的》蒸馏残液、水解【母液以及废气淋洗】液应：中和处理 【     4】  单晶硅、单晶锗！。酸洗产生的》酸性废气淋洗—。液应中和处》理 ？ ，    — ，5  产《品检测产生的含【铬废液必须单独收集！或回用不能返回【工艺或作其他—利用的含《铬废液？中的总铬及六价铬】必须达标后再—送全厂污《水，处理站进一步处【理 》。 5.《5.：2 ： 制：备砷化镓产生的【含砷废水《(液)必须》单独收集且应—首先回收砷；不【。能回：收时应将三价砷转】变为五？价砷：再进一步《进，。行脱砷净化处理 ！