：。 5？.5  《半导体材料制备【。 】5.5？.1  硅、锗材】料制备的生产—废水：处理应符合下—列要求？ ？  《  ： 1 ？ 制备多《晶硅：的生：产，。废水应中和处理后回！用或达？。标排放？ ？     【2  硅片加工过程！产生的浆《料，应回收？利用：。 ，   【  3  制备氯化！锗产生的蒸馏—残液、水解母—液以及废《气淋洗液应中和处理！ ：。 ，     4 ！ 单晶硅、单晶【锗酸洗产生的酸【性，。废气淋洗液应中【和，处理  ！   5《  产品检测产【生，的，含，铬废液必须单独收集！或回用不《能返回？工艺或作其他利【。用的含？铬废液？中的总铬《及六价铬必须达标后！再送全厂《污水：处，理站进一步处—理 ： 5—.5.2  制备】砷化镓产生的含【砷废：水(液)必须单独】收集且应首先回收砷！；不能回收时应将】三价砷转《变为：五价砷再进》一，步进行脱砷净化【处理： ：