5》.5  半导体材】料制备 — 5.5】.1  《硅、锗材料制备【的生产废水处—理应符？合下列？要求 ？ 《     1  制！备多晶硅的生—产废：。水，应中和处理后回用】。或达标排放》    ！ 2  硅片—加工：过程产生《的，浆料：应回收利《用 【   ？。 3  制》备氯化锗《产生的蒸馏残液、】水解母液以及—废气淋洗《液应中和处理 【 ？  ？   4  单晶】硅、单晶锗》酸洗产生《的酸性废气淋洗液】应，中和处理 ！。。     5 【 ，产品检测产生的含铬！废液必须单独收集或！回用不能返回工艺】或作其他利用的含】。铬废液中《的，。总铬及？六价铬必《须达标后再》送全厂污水处—。。理站：进一步？处理 【 5.5.2  】制备砷化镓》产生的？含，砷废水(液》)必须单独收集【且应首先回收砷；】。不能回收时》。应，将三价砷转》变为：五价砷？。再进一步进》行脱：砷净化处理 【