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4:.5 半导体材料!制备:
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4.5.1— 硅、锗材料【制备废气治理应【符合下列《要求
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》 1 氯化】氢合成和《三氯氢硅合成、提】纯过程?产生:的,含氯化?氢,的废气应设置—淋洗塔净化
!
—2 : 原料?储罐进、出》料过:程产生的含氯硅【烷的废气应设置淋】。洗塔净?化
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3 三!氯氢硅还原尾气宜采!用干法回收技术【。回收氢气《、氯化氢《、氯硅烷并应返回】相应:的,。工艺系统
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】 4 硅》芯、硅片、》锗锭腐蚀过程产生的!含氟化氢、氮氧化物!的废气应设置碱液】淋洗塔净化
!。
《 5 《 硅粉?仓、锗精矿》仓产生的粉尘—应设置高效布袋除尘!系统回收
!
6 氧!化锗制备过程产生】的尾气中含有氯化氢!、氯气应设置碱【。液淋洗装置净化
!
《 7 单】晶硅、单晶》锗酸洗过程产生的】含氟化氢、氮—氧,化物的废气应—设置碱液淋洗装置】净化
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《
4.5.2 【 合成砷化镓—工序必须设置事【故排放的《含砷废气处理设施
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