4.5【 ， ，半导体材料制备 】 《 4.》5.1  硅、锗材！料制备废气治理应】符合下？。。列要求？ —    1  【氯化：氢合成？和，三，氯氢硅合《成、提纯过程产生】的含氯化氢的废气应！设置淋？洗塔净？化 【  ：  2  》原料储罐进、—出料过程产生的含】。氯硅烷的废气应设】置淋洗塔净化 】 ？     3—  三氯氢硅—还原尾气宜》采用干法回》。。收技术回《收氢气、氯化氢、】氯硅：烷并应返回》相应的工艺系统 】 》。  ：  4  硅—芯、硅片、锗锭腐】蚀过：程产生的含》氟化氢、氮氧化【物，的废气应设置—碱液淋洗塔净化 】 《    《 5  硅粉仓【、锗精矿《仓产生的粉尘—应设置高效布袋除尘！系统回收 ！。     6 【 氧化锗制》备，过程产生的尾气【中含有氯化氢、【氯气应设置碱液淋洗！装，置净化 【 ： ，   7  —单晶硅、单》晶锗酸洗过》程产生？的含氟化氢》、氮氧化物的废【气应设置碱液—淋洗装置净化 ！ 4.5.2】  合成砷化镓【工序必须设置—事故排放《的，含砷废气处理—设施 《