： 6  工艺设计！ ， 6.！0.1  不同【暗室的体型尺寸差】异，大各个功《能性房间要求和组成！不一并且《。相对位置关系—要求严格《因此建筑设计平面布！局，应以暗？室为核？心展开既《要保证暗《。室，体型和尺寸》要求又要保证各功】。能性房间的》相对位？置关系？要求才能《。够实现暗室功能和技！。术，性能有利于》运行操作安全、【方便建筑才能够【给暗：室建：设，合理地支撑 — 》6.0.3 — 主：反射区是影响暗室】静区静？。度的关键区域如在主！反射区开门由于【结构原因在门—与墙：壁处既容易》造成电磁波反射程度！不一：致的背景差异又【会增加反《射程度降低》静区静度 【 ，。 6？.0.？6  当《暗室内部有多套【测量系？统时由于各测量系统！设备之间《的电磁耦合作用会】。对测量造成相—互，间的干扰因此暗室体！型，尺，寸应留有空间隔离】或其他隔离方式所】需要的？空间避免因测量系】统之间的较强—耦合造成《。测量不确定》度的恶化 — 6.—0，.7  《。随着电磁波入射【角的增加《。电，。。磁波：吸收材料吸收性【能会：下，降通过控制暗室内壁！宽度W和高度H使】电磁波在壁面上产生！的反射不因入射角度！过，大而有所快速明显】。增加 》 ？6.0.《11  1-2【、1-？3、2-2、3-1！、，3-2、4-1【。类暗室测量系统【在高度方向布局需要！考虑设备安装的实】际需求 》