《6 ： 工艺设计 】。 《 6.0《.1  不同暗室】的体：型尺寸差异大各个】功能性房间》要求：和组成不一并且相】对位置关《系要求严格因此【建，筑设计平面布局应】。。以暗室为核心展开】既要保证暗室体【。型和：尺寸要？求又要保证各功能】性房间的相对—位置关系要》求才：能够实现暗》室功能和技》术性：能有利于运行操作安！全、方？。。便建筑才能够给暗室！建设合理地支撑 】 》。6.：0.3  》主反射区是影响暗室！静，区静度的关键—区域如？在主反射《区开门由《于结构原因在门与】墙壁处既容易造【成电磁波《反射程度不一致的背！景差异？又，会增加反射》程度降？低静区静度 【 ， 6.0.6】  当暗室内部有多！套测量？系统时由于各测量系！统，设备之？间的电磁耦合—作用会对测量—造成相互间的—干扰因此暗室体型尺！寸应留有空间隔离】或其他？隔离方式所需要的】空间：避免：因测量系统之间的较！强耦合造成测量【不确定？度的恶化 【 6.0.7 ！ 随着电磁》。波入射角《的增：加电磁波吸收—材料吸收性》。能会下降通过—控制暗室内壁宽度】W和高度H使电【磁波在壁面上产【生的反射不因—入射角？度过大而有所快【。速明显增加》 6【.0.？11 ？ 1-2、》1-3、《2-2、3-1、3！-2、4-1—类暗室测量》系统在高度》方向布局需》要考虑设备安装的】实际：需求 《