？ 2  《术   《 语 】     —本规：范，的术语及定义仅限】于本规范《所涉及的工》程范围规《范中：未定义的术语—。可优先依据》现行国家标准电工】术语  《电磁兼容GB/【T 4365选【用， ： 2.0.】1  由暗室—作为主要房间与其】他，用房、测量系统【、配套设施》等所组成《的电磁波《暗，室是受试《设备电磁性能测试】的实验室暗》。室的功能和技术【水平决定了电磁波】暗室的能力 —     ！暗室内部《指定的区域即受试设！备性能测量应处于】。的，区域称？“静区”（或—“测试区”）在此】区域：内的电磁环境—包括所要求电—磁信号和限定的电】磁背景杂波取决于】采用的？测量系统《技术以及受》试，设备测试《项目内容对测试【结果不确定》度的要求能够实【现其要求的电磁环】境则主要是依—赖于暗室的型体【和尺寸、《采用的？吸，波技术（或有—屏蔽要求的屏—蔽技术）、测—量系统？技术和内部场地【布，局等 》 ？2.0.2  所】有电：磁波：暗室的功能性房【间均应？包括：测控间？此外还可根》据暗室的类别、测】量系统和试验项目】内容不同包括—不同的？设，备间以及《受试设备进行不同性！能试验的试验间设备！间一：。。般包：括馈源间、》功放：间，、负载间、信—号间等 】 ，2.0.4  暗室！电，磁背景杂波主—要是：暗室内部各种界面】对电磁波信号—所产：生反射和散射的相干！杂散信号以》及外：界泄漏到暗室内的电！磁噪声这些杂—波存在？会对暗？室内试？验测量？的结果造成不利【影响 2！.0.5  暗室】静区由位置、范围、！。静，区内的电磁信—号性能和静区—。静度等四个要—。素构成？暗室静区是暗室【工程建设的》最，核心内容对》于已建成的暗室随着！受试：设备的？工作：频率、尺寸大小和】试验状态、测—量项目内容和不确定！度的要求、采用的不！同，测，量系统暗室静区四】个要素的量值是【。不一样的对于—待建暗室应根据【上述受试设备的【不同内容和要求设】计，暗室型体《和，尺寸、布局测量系】统采用合理的吸波】和，屏蔽技术满足暗【室静区四《个要素的不同量值要！求， ： 2》.0.6  静区范！围内：。电，磁背景？杂波是指落入—静，区内的不利于测试的！电，磁波能量《包，。括测试信号被暗室】内各种物体界面反】射和散射到静区的】相干杂？散测试信号以及外界！泄漏到暗室静—区的电磁《噪声两者的总合成电！平是：电磁背景《杂波 》。 2.0.7 ！ 对静区内电—。。磁波信号的》要求主要是幅度【均匀性和相位一致性！对其要求《既取决于测试—项目内？容，又取决于系统分配给！电磁波信号传播【对受试设备性—能测量不确定—度的贡献程度因此对！静区电磁信》号特性的具体要【求应根据项目不【同而异 【 2？.，。。0.8？  测试《信号电磁《波在：暗室内壁界面—处产生？的反：射如指向《静区则在此反—。射，处的一定区域—范围内大部分—。能量反射《到静区？此主要反《射区域通常以较【低阶数？的菲涅尔区》域所包围的范—围界定 ！2.0.9》  在？满足电磁波远场区最！小距离要求》条件下？被测对象天》线口面横向尺寸【范围内的电磁场波】前分布能够满—足相位误差要求【一般情况下当—。需要满足球面波【。前相：位偏离π/8—要求的情况下远【场最小？。距离应大于2—D2/？λ其中D为天—线口面有《效横向尺寸λ为工作！波长： 《 ：2.0？.1：0  近场》区包括辐射近场区】和电抗性《近场区？其中辐？射近场区其范围介于！。电抗：。性近场区范围（在λ！/2π以内）和【最小距离远场区【范围（2D2/【λ）之？间暗室？。工程的近场》区是指？辐射近场《。区一般在3λ～1】0λ范围内需满足大！。于λ/2《。π且小于2D—2/λ的要求 】 2.0.1！。1 ： 产生紧缩场的测】量系：统一般常《用高精度的单—反，射面天线系统或高精！度，的双反射面天—线系统？ ， ， ？ 2.0.1—3  ？影响：交叉极化隔离度的因！素有多种主》要有：。系统设备加工精度、！装配和安装误差【、，测量技术误差、传】输环：境产生的《误差等作为》暗室工程注重于【。传输因？素对交叉极化隔【。离，度的：影响程度 】。 2.0》.1：4，  ：电磁波？在不同路径传输中】的能量衰减程度是与！。传输：介质特性、传输路径！长短、电《磁波频？率等因素密切—相，关，。的 》 2.0.15】。  辐射功》率密度的单位在【暗室工？程中：根据：使用领域的》不同：常，采用：dBkW/》m，。。2、dBmW/m】2、d？BmW/cm2【、dBμW/—cm2 《。 2.【0，.16  电磁【。波吸收材料根—据应用？场合和性能要求的不！同其：结，构形式、尺寸、材】质多：种多样在暗室工【程中应该《合理选？择 ： ： ： 2：。.0.17  电磁！波吸收材料的反【射，性能在其他情况【不变的情况下—与电磁波《投，射到材料表面的入】射角度？关系密切《通常：吸波材料《提供的是《垂直投射界》面状态下的》反，射性能暗室工程技术！特别要重视投射角】度的变化所引起【的材料反射性能【的变化 》