2 术】 语》
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： ，。 本规范》的术语及定》义仅限于本》规范所？。涉及的？工程范围规范—中未定义《的术语可优》先依据现行国家标】准，电工：术语 电磁兼容G！B/T 《4365选用
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2.？0.1 《。 由暗室作为主要】。房间与其《他用：房、测量系统—、配套设《施等所组成的电【磁波暗室《是受试设备电磁性】能测试？的实验室暗》室的功能《和技：术水平决《定了电磁《波暗室的《能力
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暗【室内部指定的区【域即：受试：设备性能测量应处】于的区域称》“静区”（或—“测试区”）在此区！域内的电磁》环境：包，括所要求《。电磁：信号和限定的电【磁，背景：杂波：取决于采用的测量系！统，技术：以及受试设备测试项！目内容对测试结果】不确：定度的要求能够实现！其要求的电磁环境】。。则主要？是依赖于暗室的型体！和尺寸、采用的吸】波技术（《或有屏蔽要求的屏蔽！技术：）、测量系》统技术和内部—场地：布局等
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2.0.2 ！所有电磁波》暗室的功能性房间】均应包？。括，测控间此外》还可根据暗室的类别！、测量系统和试验】项，目内容不同包括【不同：。的，设备间以及》受试：设备进行《不同性能试验的试】验间设备间一般包】。括馈源？。间、功放《间、负载间》、信号间等
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2—.0.4《 暗室电磁背【景杂波主要》是暗室内部各种界】面对电磁波信—。号所产生反射和散射！的相干杂散》信号以？及外界泄《漏到：暗室内的电磁噪声这！些杂波存在会对暗】室内试验测量—的结果造成不—利影响
！。2.0.5 暗室！静区：。由位置、范围、静】区内的电磁信号【性能和静区静度等四！个要素构成暗室【静区是暗室工程建】设的最核心内容【对于已建成的暗室】随着：受试设？备的工作频率、尺寸！。大小：和试验状态、—测量项目《内容和不确定度【的要求、采用的不】同测量系《统暗室静区四个要素！的量值是《不一样的对于—待建暗？室应根据上》述受试设备的不同】。内容和要求设计暗室！型体和尺《寸、布局测量系统采！用，合理的？吸波和？。屏蔽技术满》足暗：室静区四个》要素的不同量值【要求
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2.0.6 【 静区范围内电【磁背景杂波是指落入！静区内的不利于测试！的电：磁波能量包括测【试，信号被？暗室内各《种物体界面反射和散！射到：静区的相《干杂散测试信号以及！外界泄漏到暗室【静区的电磁》。噪声两者的》总合成电平是—电磁背景杂波
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2.0.7 ！对静区内电磁波信号！的要求主要是幅【度均匀？性和相位一致性对】其要求既取决—于测试项目内容又】。取决于系统分配给电！磁波信号传》。播，对受试设备性—。能，测量不确定度—的贡献程度因此对静！区电磁信号》特性的？具体要求应》根据项？目不同而《异
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2：.0.8《 ：测试信号电》磁波在暗室内壁界】面处产生的反射如指！向静区则在此反射处！的一定区域范—围内大部分能量【反射到静《区此主要反射区【域通常以较低阶数】。的菲涅尔区域—所，包围的范围界—定
2.！0，.9 《在满足电磁波远场】区最小距离要求条件！。下被测对象天线口】面横向尺寸范围内】的电磁场波前—分布能够满足相位】。误差要求一般情况下！当需：要满：足球面波前相位偏离！π/8要《求的情？况下远场最小距【。离应大？于2D2《/λ：其，中D为天线口面有效！横向尺寸λ》为工作？波长
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：2.0.1》0 ？近场区包《括辐射近场区和【电抗性近场区—其中：。辐射近场区其范【。围，介于电抗性近—场区范？围（在λ/2π以内！）和最小距离远场区！范围（2D2/λ）！。之间暗？室工程的近》场区是指辐》射近场？区一般在《3λ～？10λ范围》内需满足大于λ【/2：π且小于2D—2/λ的要求
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2《.0.？11 产》生紧缩场的测量【系统一般常用—高精度的单反—射面天？线系统？或高精度的双—反射面天线》系统
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2.》0.13 影【响交叉极《化隔离度的因—素有多种主要—有系统设备加工精】度、装配和安—。装误差？、测：量技术误差、传输环！境产生的误》。差等作为暗室工【程注重于传输—因素对交叉极化隔离！度的影响程度
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2.0.【14 电磁—波在不同路》。径传：输中的能量》衰减程？度是与传《输介质特《。性、传输路径长【短、电磁波》频率等因素密—切相：关的
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2.0.】。15 辐射功【率密度的单位在暗】室工程中根据使用】领域的不同常采【用dBkW/m【。2，、d：BmW/m2、【dBmW《/cm2、dB【μW/cm》2
2.！0.16 电磁波！吸收材料根据—应用场合和》性，能要求的不同其结构！形式、尺寸、材质多！种多样在暗室工程中！应该合理选》择
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2.0.17！ ：电，磁波吸收《材料的反射性—能在其？他情况不变的情况】下与电磁波投—射到材料表面的【入，射，角度关系密切通【常吸波材料提供的】。是垂直投射界面状态！下的反射《。性能暗室工》程技术？特别要重视投射【角度的变化》。所引起的材》料反射性能的变化
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