。 ， 2  术【    语》。 —  ？ ，  本规范的术语及！定义仅限《于本规范所涉及的】工，。程范围？规范中未定义的术】语可优先依据现【行，国家标准电工术语 ！ 电：磁兼：容GB/T —436？5选：用 2】.0.1  —由暗室作《为主要房间》与其他用房、测【量系统、配套设施】等所组？成，的电磁波暗室—是受试设备电磁性】能测试的实》验室暗室《的功能和技术—水平决定了电—磁波：。暗，室的能力 ！  ：。   暗室内—部指定的区域—即受试设《备性能测量应—处，于的区域《称“静区《”（或“测试区”）！在此区域《内，的电磁环《境，包括所要求电磁【信号和限定的电磁】背景杂波取决于采】用的测量系统技术以！及受试设备测—。试项目内容对—测试结？果不确定度》的要求？能，够实现？其要求的电》磁环境则主要是依赖！于暗：室，的型体和尺寸、采】用的吸波技术（或】。有屏：蔽要求的《屏蔽技？术）、测量系—统技：术，和内部场地布局等】 《 ：2.0？.2 ？ 所有电磁波暗【室的功能性》房间均？应包括？测控间此外还可【根据暗室的类别【、测量系统和试验】项目：内容不同《包，括不同？的设备间以及受试】设备进行《不同：性能试验《。。的，试验：间设备？。间一般包括》。馈，源间、功放间、【负载间？、信：号间等 — 2.0.【4  暗室电磁背】景杂波主要》是暗室内《。部各：种界面对电磁—波信号所产》生反射和散射的相干！杂，散信：号以及外《界泄漏？到暗室内的电—磁噪声这《些杂波存在会对暗】室内试验测量的结果！造成不利影响— 2.0！.5 ？ 暗室静区由位【置，、范围、静区内【的电磁？信号性能和静区静度！。等四：个，要素构成暗》室静：区是暗室工程—建设的？最核心内《容，对于已建成》的暗室随着受—试设备的工作—频率、尺寸大小和试！验状态、测量项【目，内容和不确定—度的要求、采用的不！同，测量系统暗室静区四！个要素的量值是不一！样的对于待建暗【。室应根据《。上，述受：。试设备的《不同内容和要求设计！暗室型体和尺寸、布！局测量系统采—。用合：理的吸波《和屏蔽技术满足暗室！静区四个要素的不同！量值要求《。 2【.0.6 》 静区范围内电磁背！。景，。杂波是指落入静区】内的：。不利于测试的电磁】波能量包括测试【信号被暗室内—各种物体界面反【。射和散射到静区的】相干杂？散，。测试信号以及外界】。泄漏到？。暗室静区的》电磁噪声两者的总合！成电平是电》磁背：景杂波 ！2.0.7》  对？静区内电《磁波信号的要求主】要是：幅，度均匀性和相位一】致性对其《要求既？。取决于测试项目【内容又取决于系统】分配给？电磁：波信号传播对受试设！备，性能：测量不确定度—的贡：献，程度因此对静—区电：磁信号特性的具体】要求：应根据项目不同而异！。 ？ 2.0—.8  测试—。。信号电磁《波在暗室内壁界面处！产，生的反？射如指向静区则在】此反射处的》。一定区域范》围内大部《分能量反射到静区此！主要反射区》域通常以《较低阶？数的菲涅《尔，区域所包《围的范围界定 】 《2.0.9  在】满足：电磁：波远：。场区：最小：距离要求条》件，下被测对象天线口】面，横向尺寸范围内的】电磁：场波前分布能够【满足：。相位：误差要求一般情况下！当，需要满足球面波前相！。位偏离π/8—要求：的，情况下远场最小【距离：。应大于2D2/【λ其中D为》天线口面有效横向】尺寸λ为工作波【长 》 2.0》.，10  近场区【包括辐射近场区【和电抗性近场区【其，中辐射近场区其范】围介于电抗性近场】。区范围？（在λ？/，2π以？内）和最小距—离远场区范围（【2D2/λ）之间】暗，室工程？的，近场：区是指？辐射近场区一般在3！λ～10《λ范：。。围内需满足》大于λ/2π且小】于2：D2/λ《。的要求？ ， 》2.0？。.11  产生紧缩！场的测量系》统一：。。般常：用高精度的单反射】面天线系统或高【精度：的，双反射面天线系统】。 《 ， 2.0.》1，3  影响交—叉极化隔《离度：的因素有多》种主要有系统设【备加工精度》、装配和安装误【差、测量技术误【差、传输环境—产生的误差等作为暗！室工程注重于—传输因素对》交叉：。。极化隔离度的影响】程度 ？ 2—.0.14  电】磁波在不同路—径，。传，。。输中的能量衰—减程度是与传输介质！特性、传输路径长短！、电：磁波频率《等因素密《。切相关的 】 2.0.15】  辐射功率—密度的单位在—暗室：工程中根据使用【领域：的不同常《采用dBkW/【m2、d《BmW/《m，2、dBmW—/cm？2、dB《μW：/，。cm2 【 2.0.1【6  ？电磁波吸收材料根据！。应用场合和性—能要求？的不：同其结构形》式，、尺寸、材》质多种多样在暗室】工程中应该》合，理选择 》 2》.0.17 — 电磁波《吸收材？料的反？射性能在其》他情况不变的—情况下与《电磁波投《射到材料表面的入射！角度关系密切—通常吸波材》。料提供？的是垂直投射界【面状：态下的反射性—能暗室工程技术特】别，要重视投射角度【的变化所引起—的材料反射性能【的变化 》