?。。
2 《。术, 语
【
! ,本规范的《术语及?定义仅限《于本:。。规范所涉及》的工程?范围:。规范中未定》义的术语可优先依】据现行国家》标准电工术语 电!磁兼:。容GB/T 43】65选用
】
2.0.1 !由暗室作为主要房间!与其他用房、测【量系统、《配套设施等所—组,成的电磁《波暗室是受》试设备电磁性能测试!的实验室暗室的【功能和技术水平决定!了电磁波暗》室的能力
【。
《 暗《室内部指定的—区域即受试设备【性能测?量应处于的区域称“!静区”(或“测试】区”)在此区域内】的电磁环境包括【所要求电磁》信号和限《定的电磁《背景:杂波取决于采—用的测量系统技【。术以及受试设备测】试项目内《容对:测试结?果不确定度的要求】。能够实?。现其要求的电—磁环境?则主要是依赖于暗】室的型体和》。尺寸、采用的吸波】技术(?或有屏蔽要求—的屏蔽?技术)、测》量系统技《。术和内?部场地布局》等
—
2.0.2 】所有电磁波暗室的功!。能,性房:间均应包括测控间此!外,还可根据暗室的类】别、测量系统和【试验项目内容不【同包括不同的设备间!以及受试设备进行】不同性能试》验的试?验间设?备间:一般包括《馈,源间、功放间—。。、,负载间?、信号间等
【
2.0.4! , 暗室电磁背景杂】波,主要是暗室内部【各种:界面对电磁波信【号所产生反射和【散射:的相干杂散信号【以及外界《泄漏到?暗室内的电磁噪【声这些杂波存在会】对,暗,室内试验测》量的结果《。造成不利影响
【
,
2.0.5! 暗室静区由位】置、范?围、静区内的电磁信!号性能?和静区静度等四个要!素构成暗室静区是暗!室工程建设的—最核心内容》对于已建成》的暗室随着受—试设备的工作—频率、?尺寸:。大,。小,和试验状态》。、测:量项目内容和—不确定度的要求【、采用的不同测量系!。统暗室静《区四个要素》。的量值是不》一样的对于》待建暗室应》。根据上述受试—设备的不同》内容和要求设计暗室!型体和?尺寸、布《局测:量系统采《用合:理的吸波和屏蔽技】。术满足暗室静区【四个:要素的不同量值【要求
【
2.?0.6 》。。静区范围《内电磁?背景杂波是》指落入静区内—的不利于测试的电磁!波能量?包,括测试信《号被暗室内各种物】体界面反射和散射】到静区?的相干杂散测试信】号,以及外界泄漏到暗室!静区的电磁噪声两者!的总合成电平—是电磁背景杂波
!
2.0.】7 ?对静区内电磁波【信号的要求主—要是幅度均匀性【和相位一致性对【其要求?既取:决,于测试项目内容又】取决于系统》分,配给电?。。磁波信号传播对受试!设备性能测》。量不:确定度的贡》献程度因此对静区电!磁信号特性》的具体要求》应,。根据项?目不同而异》
2.】0.8 测试信号!电磁波在暗室内壁界!面处产生的反射【如指:向,静区则在此反射【处的一定区》域范:围内:大部分?能量反射到静—区此主要反射—区,域通常以《较低阶数的菲涅尔】区域所包《围的范围界定—
:
2》.0.9 在【满足电?磁波远场区最小距】离要求条件下—被测对象天线口面横!向尺寸范围内的【。。电磁:场波前分布能够【满足相位误》差要求一般》情况下当《需,要满足球《面波:前相:。位偏:离π/8要求的情况!下远场最小》距离应大于》2D2/λ其中【D为天线口面有【效,横向尺?寸λ为工作》波长
?
》2.0.10 【。 近场区包》括辐射近场区和【电抗性近场区其【中辐射近场区其【范围介于《。电抗性?近场区范围(在λ】/2π以《内,)和最小距离远【场区范?围(2D《2/λ)之间暗【室工程的近场区是】指辐:射近场区《一般在3λ~—1,0λ范围内》需满足大《于λ/?2π且?。小于:2D2/λ的—要,求
《
2.》0,.11 产—生紧缩场的》测量系统一》般常用高精度—。的单反射面天线系】统或高精度的双【反射面?。天,线系统
!2.:0.13 影响】交叉极化隔离度的】因素有多种主要有】系,统设:备加工精度、装配和!安装误?差,、,测量技术误差、【传输环?境,产生的误差等—作为:暗室工程《注重于传输因—素对交叉极》化隔离度的影响程】度
2.!0.14 电磁】波在:不同:路径传输《中,的能量衰减程度是】与传输介质特性、】传输路径长短—、电磁波频率等因素!密切相关《的,
—2.0.15 辐!射功率密度的—单,位在暗室工》程中根据《使,。用领域?的,不,同常采用《。dBkW/m2、d!B,mW/?m2、dBmW/c!m2、dBμW【/cm?。2
2】.0:.1:。。6 电磁》波吸收?材料根据应用—场合和?性能要求《的不同?其结构?形式、尺寸、—材质多种多样在暗室!。工程中应《该合理选择》
》
2.0.17【。 电磁《波吸收材料》的反射性《能在其他情况不【变的情况下与电【磁波投射到材料表】面的:入射角度关》。系密切通《常吸波材料提供的】是垂直投射界面状态!下的反射性能—暗室工程《技术特?别要重?视投射角度的—变化所引起》的,材料反射性能的变化!。
: