5  电】 ，镀 ！5.0.《1  电镀用的直流！电源设备应》。。采用硅整《流或可控硅整流 ！ ： 5.《0.2？  整流设备的选择！应符合下列》规定  ！   1  —直流额定《电压：应大于并接近镀槽】工作电压对》需要冲击电流的【镀槽整流《设备的额定》电压尚应符》合冲击的《要求 】    2  【直流额定电》流，不应小于镀》槽所需电流对需【要冲击电《。流的镀槽整流—设备的额定电流应根！据镀槽冲击电—流值及电源设备【。短时允许《过载能力确定当【。多槽共用整流—设备时？其额定电流不—应小于各槽》所需电流之和乘以】同时使用系》数及负荷系数 】    【 3：  整流设》备的整流结线方式】应根据电镀工艺【的要求？确，定 【   ？ 4  工艺需要自！动换向的电》镀应采用带有自【动换向？的可控硅整》流设备？ 《 5.0》.3  用硅整流设！备作直？流电源？时其调压方式—应符：合下列规定 ！   《  1  工艺【。要求电流《。。调节精度高经常使用！。但额定负荷》小于：或等于30％的镀】槽宜采用自耦变【压器或感应调压器】    ！ 2  经常使用且！额定负荷大于3【0％的镀槽可—采用饱和《电，抗器调？压方式 】 5.0《.4  用可控【硅整流设《备作直流电》源时宜？采用带恒电位仪或电！流，密度自动控制—的可控硅《整流：设备： 》 5：.，。0.5  电—镀槽的电源宜采用一！台，整流设备供给—一个镀槽《当工艺条件许可时对！电压等级相同的镀槽！亦可采用《一台整流《设备供给几个镀【槽用电对《不同时使《用的两个镀槽—其工：作电压、电流—参数相近位置又接】近时可合《用一台整流设备供电！ ， 5.0.！。6  当一台—整流设备向一个镀槽！供电且整流设—备，集中放置时应在镀】槽附近？设，。置防腐型就地—控，制箱其内部》应装设电流调节装】置、测量仪表和开】。停整流设备的控【制按钮？ 》 5.0.7  】当一台整流设备向】几个镀槽《同时：。供电时应在镀槽【附近设置防腐型就】地控制箱其》内部应装设》电流调节《装置及测量仪表 】 《 5.0.8 【 直流线路截—面，的选：。择应符合下列规定 ！     ！1  线《路的允许载》流量不应小》于镀槽的计》算电流 】    《 2  在额定【负荷下电力》整流设备至电镀槽】的母线电压》降不应大于1.【0，V 5.！0.9 《 每台整流设备的供！。电线：路应装设《隔离电器和短路【保护电器隔离—电器：的额定电流及供电】线路的载流》量不应？小于整流设备的额定！输入：电流 — 5.0.10 ！ 直流线路》电压小于《60V时宜》采用铜母线、铜芯】。塑料线或铜芯电【缆当采用铝母线时在！母线连接处应采用铜！铝过渡？板铜端？应搪锡电源接—入镀槽处应采用铜】编织：线，或铜母线当线路电压！大于或等于60V时！直流线路应采用【电缆：或绝缘导线 ！ 5.0.11 ！ 集中放置整流设】备的电源间》应符合下列规定 ！    【 1：  宜？接近负荷中心并【宜靠外墙设》置；电源间不得设置！在镀：槽区的下方》亦不应设置》在厕所或浴室的正】下方或与之贴邻【。 《      2 ！ 正面操作通道不】宜，小，于1.5m》；当需在整流设备背！面检修时其背面【距墙不宜小于0.】8m；与整流器配】套的调压器距墙不宜！小于0？.，8m 】    3 — 室内夏季》温度不宜超过4【0℃冬？季温度不宜低—于，。5℃当自然》通风不能满足电源】间要求时应采—用机械通风并保【。持室内？。。正压 【。。    《 ，4  镀槽》排风系统的管道、地！沟及其他与电源间】无，关的管道不得通【过电源间《 5.】0.12  控制】。系统较复杂的自动生！产线：的控制台应设在专用！的控制室内控—制室应设观察窗【当控：制室门开向生—产车间时控制室宜】有正：压，通风 — 5.0.13 ！ 电镀间内的电气】设，备应：采用防？。腐，型其线路及金属支架！等应采取防腐—。措施 【 5.0.14  ！直接安放在镀槽旁的！整流设备其底部应设！有高：出地面不小于—150mm的底【座 》 5.0》.1：5 ： 在：电镀间内整》流设备的金属外壳】及配电？箱、控制箱、操【作箱的金《属外壳、金属—电缆桥架、配线【槽、保护《钢管等应与交流配电！系统的保护线或保】护中性线可靠连接】电镀间内各种接地】系，统宜采用共用接【地的方式 —