16 【 半导体材料厂车间!电力设计
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16.0.2 !因通电时间短其【他用电设备尚未投】入运行此时》电源的负荷率—。很低完全可》。满足:这,些短时用电的负荷】所以不必再计算【这类负荷的用电及无!功动率补偿
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16.0.3 】 三氯氢硅合成【炉的工频感应线圈有!。三种计算方》法即变压器法—、贝塞函数法和【。实验曲?线法:本规:范,推,荐采用实验曲—线,法该法是在某—种特定条件下用【实际的感应加热器】做实验?得出的曲《线并以此《作为计算的基础【该法计算《简洁误差允许—便于应用
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16.0.4 ! 过去这类电控设】计电力和仪表—专,业由于配合不当常】常出现各《。搞一套?。的不协调局面为改】。变这种状况使电控系!统的设计《更,加合理?。更有利于监控和【管理:避免不?协调现象继续发生】特制定此《条
】 在控》。制室:。内,设有:正压通风是》。。为防:止S:i,HCI3(》或SiCl4)气】。体对电控设备的腐蚀!但吸风口《应设在户外或经【简易:过滤装置保证控【制,室内空气纯净
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16.—0.:5 多晶硅—。的电气室《是一个专用的—电气室为了》。方便维护管理减少】占地面积《并,经多:年实践证明高—、低压设备同室布】置完全可行本规范】加以推?荐如电气设备为【油浸式冷却方式【按防火要求两设备之!间应设防火隔墙【并设排油设施
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1—6.:0.6 》为减少电能》损耗便于维护管理多!晶硅氢还原炉电气】室通常与多晶硅【氢还原炉室》上下毗邻为》了防止三氯氢—硅气体和氢气—渗入电气室所以【在两室之间严禁开】设门窗及其他—孔洞电源线的穿越】处应做严《密封:堵,为安全?起见与电气》室,无关的管《道不应通过电气【室否则应《采取隔离设》施
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16.—0.7 《 当还原炉》。高,。压启动?和还原生产时还原炉!内常有异常现象发生!需,常去电气室》观察电气《设备运行情况因此】在还原炉控制室【和电气室之》间设:一个便于联系的【通道十分《必要
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16.0【.9: 变压器中性线过!热是各半导体材料厂!一致反映《的问题采取》了加大中性线—截面:的措施效果较—好D:yn11型》变,压器比Yyn0型变!压器对于《限制三次谐波降【低,零,。序阻抗提高单—相短路电《流和保护装置的【灵敏度具《有明显的优越—性
16!.0.?10 在单晶【炉和区熔炉附近【设开关箱《有利于单晶炉、【区熔炉的断电—检,。修和调试确保安全
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16.0!.11 单晶【炉、区熔炉及物测】室的测试仪器—对电压稳定》。度要求较《高电压波动》直接影响单晶体【的形成和测试精【度因此对这些—设备最好《由单独的变压器供电!
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16.0.12 ! ,装设电源滤波—装置是?为了:抑,。制区熔炉高频装置】2M:C~4MC》。高频电源沿供—电线路进行传导【干扰滤波器的安装】位置:主要考虑线》路简洁就地抑制所以!一,般是安装在》屏,。蔽室外墙的电源【进线处滤波器的接】地可借助《屏蔽室的高频—。接地:用镀锌铜板制作接地!装置是根据北京劳防!所提供的实践资【。料并征求《上海电?科,所的意见确定的【生产厂?。反映:效果良好高频接地的!接地线长度应避开】λ/4及λ/4的】奇,数倍是为《了减少?接地线可能出—现的干扰当接地线】长度:为高频设备》工作波?长,的1/4或1/4】工作波长的》奇数倍时其阻抗为无!穷大此时它相当【于一根天线》可接:收或:辐,射干扰信号故应【避,开采用这个长度设计!中,接地线做得越短越】好
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16.》0.13 》 本条?规定是为了》防,止电源滤波器未加】屏蔽的配《电线路经高频—耦,合越过滤波器—对电源?进行干扰
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1:6.0.1》4 区熔炉的槽】路接地是高频装【置要求的每台设【备单独设接地—装置是为了防—止相互干扰
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16.0.】15 《本条规定是》为了使设备》冷却水断水能—及时发现《。并加以保护防止断水!运行烧坏设》备
【16.0.16 !物测室装设电源【滤波:器是为了由电源线】传入高频干扰信号】。做成一点接》地的目的是防—止不同的《大地电位《经屏蔽网进行—干,扰
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16《.0.17》 防止经电力、照!明线路及荧光灯【的镇:流器向室内进行干扰!
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:16.0.》18 这样做是为!了减少泄漏以—。。提高屏蔽室的屏【蔽效能
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