《4.2？  洁净室》（区）环境》监，控设计 【。 ， 4.2—.1：  对温度、—湿度、露点温度、】。压差、洁净度、空】气成分等全》部或部？分，空气：。参，数进行监视、测量和！记录并及时报警维】持洁净环境满足工艺！。生，产的要求 —     】对于生产新型显示】器，件及半导体器件【的洁净室《环境悬浮分子污【染物（A《irborne M！olecular ！Contam—inantsAMC！），的控制越来》越重要国际半—导体：设备与材料协会（S！emi？conducto】r， Equipmen！t a？nd Mater】ials 》。Int？erna《tiona》lS：EM：I）的标准》根据化学《品的特性将》洁净室中《的空气污《染物分为酸（Mo】l，。ecular A】cidsMA）【、碱（Molecu！lar？。 BasesMB】）、可凝聚物（Mo！lec？ular Cond！ensabl—esM？C）和掺杂物（M】。olecu》。lar Dopa】nt：sM：。D） ？ ， 《。4.：2.：2  系统合—用便于统《一，管理保证《数据传输的可—靠，、及时；如分开设】置，需采取措施保证不同！监控系统《间，数据：通信的可靠》、及时？ 4.2！.3  在同—一栋生产厂房—内工艺？段对洁净环境的【温，度、湿？度，。、压力要《求不同但控制—系统：共，用时控制系统的【选择应满足最严格】的要求 】 4.2《.6  个别生【产工艺段有化—学，沉积现？象化学物《质沉积在敏感元【件处时会影响测量精！度严：重的会使传》感器失去《功能因此要采取【适，。当的防护措施 】