， 4.2  洁！净室（区《），环境监控设计 】 《 4.《2.1  》对温度、湿度、露点！温度、压差、洁净】度、空气《。成分等全《部或部？分空气参数进—行监视、测》量和记录并及时报】警维持洁净环境满足！。工艺生产的要—求 》     对【于生：。。产新型显示器件及半！导体：器件的洁净室环境悬！。浮分子污《染物（Airbor！ne： Molec—ul：ar Co》ntaminan】tsAMC）—的，控制越？。来越重要国际—半导：体设备与材料协会】（Semicond！uctor E【q，uipme》nt and Ma！terial—s Intern】ationa—lSEMI）的标】准根据化学品的【特性将洁净室中【的空：气污染？物分为酸（Mo【lec？。ular Aci】d，sMA）《、碱（Mo》lecul》ar BasesM！B）：、可凝聚《物（：Molecul【ar Cond【ensables】MC）和掺杂—物（Mol》。ecular Do！pa：ntsMD） ！ ： 4.？2.2  系统合用！便于统一《管理：保证：数，据传输的可靠、及】。时；如分《开设置需采取措施】保证不同监控系统间！数据：通，信的可？靠，、及时 》 4.2.】3 ： 在同一栋生产【厂房内？。工艺段对《洁净环境的温—度、湿？度，、压力要求不同但控！。制系统共用时控制系！统的选？择应满足最严格【的要求 【 4.2.6  ！个别生？产工艺段有》。。化学沉？积现象化学物质沉】积，在敏感元《件处时会影响—测量精度严重的会】使传感器失去功能】因此要采取适—当的：防护措施 》 ，