？ 4.2  洁净室！。（区）环境监控设计！ 【。 4.2.1  对！温度、湿《度，。、，露点温度、压—。差、洁净度》、，空气成？分等全？部或：部，分空气参数》进行监视、测量【和记录并及》时报警维持洁—净环境满《足工艺生产》的要求 —     【对于生产新型显示】器件及？半导体器件的—洁净室环《境，。悬浮分子《污染物（A》irb？orne Mo【lecular C！ontami—nantsAMC】。）的控制越来越重要！国际半导体设备与材！料协会（Sem【i，conduc—。t，o，r Eq《uipment a！nd ？Ma：terials I！nterna—tionalS【EM：I）的标准》根据化学《。品的特？。性，将洁净室《中的空气污染—。物分为酸（M—olecu》。lar Acid】sMA）、》碱（Mo《lecula—r B？ases《MB）、可凝聚物】（Molec—ular Con】de：nsablesMC！）和掺杂物（—Molec》ular Do【pantsMD）】 4【。.2.2  系统】。合用便于统一管【理保证数据传输【。的可：靠、及时；》如分开设置》需采取措《施保证不同监控系统！间数据通信的可【靠、及时《 ， ， 4.2.3！  在同《一，栋生：产厂房内工艺段对洁！净环境的温》度、湿度、压—力要求不同但控制系！统共用时《控制系统的选择应】满，足最严格《的要求？ 》 4.2《.6  个别生【产工艺？段有：化学沉积现象化【学物质沉积》在敏：感元件处时会—影响测量精度严重】的会：使传感器失去功能】因此要？采取适当的防护措】施， ：