， 4.》2  洁净室（区）！环境监控设》计，。 4！。.2.1  —对温度、《湿度：、露点？。。温度、压差》、，洁，净度、空气》成分等全部》或部分空气》参数进行监视—、测：量和记录《并及时？报警维持洁净—环境满足工》艺生：。产的要？求 ：    】 对于生产新型显示！器件及半导体器【件的洁净《室环：境悬浮分《子污染？。物（Ai《rbor《ne ？Molecul【ar ？Contamin】antsAMC）的！控制：越来越重要》国际：半导体设备与—材料协会《。（Semicond！uctor Equ！ipment 【and？ Material！s， Inter—national】SEMI）》的标准根据化学【品的特性将洁净室】中的空气污染物【分为酸（《Molec》ul：ar Aci—dsMA）、—碱（Molec【。ular Bas】e，。。s，MB）、可凝聚物】（Molecula！r Con》den？sabl《。。esMC《）和掺杂物（Mo】l，ecular D】opantsMD）！。。 ？ ？4.2.2  【系，统合用便于统一管】理保证数据传输【的可靠、及》。时；如分开设置需采！取措施？保证不同监控—系统间数据通—信的可靠、及时 】 《 4.2.》3  在同一—栋生产厂房内工艺段！对洁净环境的温度、！湿度、压力要求不同！但控制系统》共用时控《。制系统的选》择应：满足最严《格的要求 》 4.【2.6 《 个别生产工艺段】有化：学沉积现象化—学物质？沉积在敏感元—件处时会影响—测量精？度严重的会使传【感，。器失：去功能？因此要采取适—当的防护措施 】