4.2【  洁？净，室（区）环境—监控设计 ！ 4《.2.1 》 对温度、湿—度、：露点温度、压—。差、洁净度、空气】成分等全《部或部分空气参【数进行监视、测量和！记录并及时》报警维持洁净环境】满足工艺生产的要】求 — ，  ： ， 对于？生产新型显示器【件及半导体器件的洁！净室环境悬浮分【子，污染物（Airb】orne《 Molec—ular Con】tam？ina？nts？AM：C）的控制越来【越重要国际》半导体设备与材【料协会（Sem【ico？nduct》or： Equi》p，m，ent 《and Mate】rials —Inte《rnatio—n，alS？。EMI）的标准根据！化学品？的特性将洁》。净室中的《空气污染物分—为，酸（：Molecul【ar： Acid》sMA）、碱（M】olecul—ar Ba》s，esMB《）、：可凝聚物（Mole！。c，ula？r Cond—ensablesM！C）和掺杂物—（M：olecu》lar D》opantsMD】） 《 4《.2.2  系统】合用便于《统一管理保》证数据？传输的？可靠、及时；如分开！设置需采取措施【保证不同监控系【统，。间数据通信》。的可靠、及时 】。 4.2.3！  在？同一栋生《产厂房内工艺段对洁！净环境的温度—、，湿度：、压力要求不—。同，但控制系统共用【时控制？系统的？选择应满足最严格】的要求 】 4.2.6  个！别，生产：工艺段有化学沉积】现象：化学物？质，沉积：在敏感？元，件处：时会影响测量精【度严重的《会使传感器失去【。功能因此要》采取：适当的防护措施 】 ，