： ， 4.？2  洁净室（区）！环境：监控设计 — 》 4.2.1  】对温度、湿》度，。、，露点温度、压—差、洁净度、空气】成分等全部或部分空！气参数进行监视、测！量和记录并及时报】警维持？。洁净环境《满足工？艺生：产的：要求 】  ： ， 对于生产新—型显示器《件及：半导体器《件的洁净《室环：境悬浮？分子污染物》（Airbo—r，ne： Molecu【lar Conta！minants【AMC）的控—制越来越重》要国际半导》。体设备与材料协【会（Semi—co：nd：uctor Eq】uipmen—t and M【ateria—ls Inte【rnat《iona《lSEMI）的标准！根据化学品的特性】将洁净室中》的空气污染物—。。。分为酸（Mo—。lecula—r AcidsM】A）、碱（Mol】e，c，ular Bas】esMB）、可【。凝聚物？（M：olecula【r Conde【nsables【MC：。）和掺杂物》（Molecul】ar ？Dopant—sMD） — 4.—2.2  系统合】用便于统一》管理保证数据传输】。的可靠、及时—；如：分开设置需采—。取措施保证不同监】控系统间数据通【信的可靠、及—时 4.！2.3 《 在同？一栋生产厂房内工艺！段对洁净环境的温】度，。、湿度、压力要求不！同但控制系统共用时！控制系统的选择【应满：足最严格《的要求 — 4.2—.6：  个别生产—工艺段有《。化，学沉积现象化—学物质？。沉积在？敏感元件处时会影】响测：量精度严重的会使传！感，器失去功《能因此要采》。取适当的防护措施 ！ ，